JP4831591B2 - 処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置 - Google Patents
処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4831591B2 JP4831591B2 JP2001548414A JP2001548414A JP4831591B2 JP 4831591 B2 JP4831591 B2 JP 4831591B2 JP 2001548414 A JP2001548414 A JP 2001548414A JP 2001548414 A JP2001548414 A JP 2001548414A JP 4831591 B2 JP4831591 B2 JP 4831591B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antenna
- region
- container
- microwave
- waveguide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
- H01J37/3222—Antennas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Description
本発明は、空洞共振器内に配置された処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置に関し、さらに詳細にはマイクロ波供給路とマイクロ波導波管を備えるプラズマCVDコーティングチャンバに関するものである。
【0002】
例えば、コーティング処理、洗浄、表面改質、基板エッチングあるいは医療用移植材料の処理に用いるプラズマを発生させる装置が知られている。様々な形状の工作物にコーティング処理が行なわれている。既知のプラズマ発生装置は、導波管と同軸ケーブルによりマイクロ波が供給される環状共振器を有する。
【0003】
結合されたマイクロ波エネルギーによりタンク内に予め導入されたガスを活性化させプラズマ状態にするため、4つあるいはそれ以上のマイクロ波発生源がマグネトロンの形をとって空洞共振器の外壁に配置される自動車のタンクのコーティングが知られている。1つのタンクをコーティング処理するために少なくとも4つのマグネトロンが必要であり、複数の容器の内部コーティング処理を同時に行う場合、マグネトロンとその電力供給装置の数は、経済的に実行不可能な数にまで増加してしまう。さらに、コーティング処理する容器のそれぞれの寸法と形状に依存して、結合したマイクロ波エネルギーの損失と反射がある程度異なるので、与えられた容器の形状に対して修正操作を行うことが必要であるが、その修正操作は別の異なる形状の容器には満足な結果が得られないということがわかっている。異なる負荷、損失および反射現象が起きるので、それぞれの種類の容器に対して多少面倒な調節や同調操作を行わなければならない。与えられた周波数に対して最適な同調を達成するため、マイクロ波の反応チャンバへの供給路の長さに依存するマイクロ波電力の反射項についても、種々の研究が行われている。マイクロ波導波管中に別の吸収体を設けることにより、供給路の長さに依存する反射効果のパターンを変化させることできるが、この場合幾何学的な変化の結果としての不整合が常に観察される。
【0004】
本発明の目的は、寸法や形状がある程度異なるプラスチック容器の内側を有効にコーティング処理することができるような本明細書の冒頭部分に記載される種類のマイクロ波エネルギーを結合させる装置を設計することである。言い換えると容器の寸法のわずかな違いや形状の違いにより別のマイクロ波エネルギー結合装置を用意する必要がない、あるいは少なくとも変更作業が必要な調節や整合操作が必要ない。
【0005】
ある固定周波数でマイクロ波エネルギーを発生するマグネトロンに関しては、電力曲線の挙動は均一な効果を示すが、最小値のそばで再び同等に急激に立ち上がるため、容器形状寸法の関数である導波管の有効長に依存する電力の反射項はあまり急激に降下させるべきではない。
【0006】
驚くべきことに、本発明による前述の目的は、第1の同軸導波管はアンテナ形状の内部導体を有し、ほぼ円筒形の導波管が装置の中央に続き、先端には第2の同軸導波管が内部導体を有するような実質的に円筒構造の装置において達成される。ここで、結合したマイクロ波エネルギーによりプラズマ状態に活性化されるガスは、ガス供給チューブを通って第2の同軸導波管中に導入され、プラズマ領域ではアンテナによりTMモードが発生する。それらの手段は、容器の形状寸法に依存して電力の反射項がやや低下するが、十分なマイクロ波電力はプラズマを点火しそれを維持することが可能である、すなわち反射電力は小さいため、不均一な容積や形状の異なる容器についても常に効果的にコーティング処理することができる。全く新規な変更は、コーティング処理する容器の容積が2つあるいはそれ以上の容器の要因により変化する場合と1つの容器の形状が他の容器の形状と非常に異なる場合にのみ必要である。本発明による手段は、類似の形状および寸法の容器を変換作業なしで効率的にコーティング処理できることを提供する。
【0007】
実質的に円筒形状の空洞共振器および不整合を避けることが、良好なコーティング処理結果に寄与する。また、3つの電気的に異なる導波管部分を連続させる装置により良好な効率を持つプラズマ電力の結合も得られる。ここで第1の導波管は同軸の導体であり、第2の導波管は円筒形の導波管(中心で)あり、先端の導体は再び第2の同軸導波管である。これら3部分からなる装置の大きな優位性は、一つの部分を他の部分から分離したり封止を解除したりできることである。さらに、機能の異なるこれらの部分を分離できることは、マイクロ波の電力を結合させる場合に特に有効である。
【0008】
第1の同軸導波管のアンテナが棒状で、棒アンテナの長さが40mm以上100mm以下であることも、本発明に関する特別な利点である。この棒アンテナ(後で述べるアンテナの他の実施例と同様)により、TMモード、すなわち装置の3つの部分において横方向の磁力線が得られ、TMモードの発生は特にプラズマ領域中で可能である。本発明による装置は、棒アンテナが50mm以上60mm以下の長さを持つときに良好に作用する。棒アンテナは銅製であり、外径が約8mmである。また、棒アンテナの外径は、2mm以上10mm以下の範囲にあるとき良好に機能する。
【0009】
本発明による他の実施例において、第1の同軸導波管のアンテナは円錐らせん形状であり、らせんアンテナの長さは50mm以上70mm以下であることがさらに好適である。いわゆるアルキメデスのらせんが知られている。極座標において、式γ=α×φで表される。円錐らせんは空間的にアルキメデスのらせんに該当する。それは、円錐の軸線に対して一定の角速度で回転する表面線上を一定速度で移動する点の軌跡である。らせんアンテナも、その直径が特に好適には約3.5mmの銅製であることが好適である。6巻きのらせんアンテナが非常に好適であることが明らかとなっている。それらは長さが約60mmである。しかし試験結果からは、長さ50mm以上70mm以下、巻き数5以上7以下の範囲についてのらせんアンテナは、充分に作動することがわかっている。直径の範囲としては、2mm以上5mm以下が明示できる。らせんアンテナが円錐台形状の場合、小さい方の直径を持つ端はガス供給チューブの端に近づくのに対して、いわゆる後端または下流端の直径が大きくなる、すなわちガス供給チューブから遠くなる。大きい方の後端の直径は、35mm以上50mm以下の範囲で好適には42mmである。らせんの先端の小さい方の直径は、15mm以上30mm以下の範囲で好適な実施例においては約22mmである。
【0010】
中空の円錐台の形状のらせんアンテナの替わりに、後部の3巻きに関して直径が35mm〜50mmで好適には42mmである外観が段付きの形状とすることも可能である。先端の3巻きの直径は15mm以上30mm以下の範囲が望ましく、好適には22mmである。
【0011】
円錐らせんに替えて、例えばアンテナの6巻きすべてが直径約35mmから50mmで好適には42mmである円周上にわたる円筒形のらせん形状を採用することも可能である。段付き形状も円筒形状も、本来の幾何学的意味では明白に円錐らせんではないが、正確な幾何学的定義の形状を持つ場合を除いて、らせんアンテナは機能する。
【0012】
本発明の望ましい別の装置は、第2の同軸導波管の内部導体はガス供給チューブの形状を取りコーティング処理されるプラスチック容器に囲まれた金属製であり、また処理チャンバを形成する容器担持板中に保持される容器を提供する。プラズマエネルギーを結合させる装置の本実施例は、プラズマによりプラスチック容器の内面コーティングを行う工程において特に有用である。プラズマは、前述の供給チューブを急速かつ効果的に通過し容器内部に導入されるガスにより(特に)形成される。金属製のガス供給チューブは、本装置の先端において第2の同軸導波管の内部導体を意味する。ガス供給チューブは、例えばPET製のプラスチックのようなコーティング処理される容器内に突出し、その容器に囲まれている。このように容器は実際の処理チャンバを形成する。適切な導管により処理チャンバすなわちコーティング処理する容器内を所望の減圧に設定することができる。空洞共振器内の処理チャンバの外側は、異なる圧力になる。
【0013】
それらの異なる圧力が順に大気圧より低い圧力、すなわち減圧またはある程度の真空状態である場合、本発明による装置の中央の円筒形の導波管中に配置されるさらなる形状は、装置の縦軸を横切る方向に広がる石英窓であることが望ましい。その縦軸は、ガス供給チューブからアンテナあるいはその逆方向にほぼ一直線に伸びており、石英窓はマイクロ波が窓と同じように通過できる板である。石英板により1つの導波管と他方の導波管との間をガス漏れのないように分離し、導波管部分を2つの異なる領域に分けることができる。このように1つの領域、例えば第2の同軸導波管の領域を排気し、アンテナのある領域を大気圧に保つことが可能である。
【0014】
らせんアンテナはスリーブ形状の受信手段または取付け中に摩擦接合により釈放自在に固定される場合が望ましいこともわかっている。試験結果から、通常好適と考えられるハンダ接合は最適なマイクロ波エネルギーの結合に不適切であることがわかっている。それどころか装置の縦軸方向に伸びるらせんアンテナの後端は、わずかに彎曲した形状で装置の縦軸方向に伸びるスリーブ形状の受信手段中に嵌合され、その中にしっかりと締め付けられていることが適切である。
【0015】
本発明のさらなる優位性、用途と特徴は、添付図面に関してこれから説明する次の実施例より明らかになる。
【0016】
図1および同様な図3において、プラスチック瓶の形の容器2が空洞共振器1中に配置されている。容器2は、容器2の内側に処理チャンバ3を形成するように配置されている。容器2は、瓶の首4を通して下方前端のみが開放されている。頂上である後端および側面は密閉されている。容器2は、瓶の首4を介して容器担持板5により支持されている。図1および図3中の線図に示されるような装置が、例えば図2に示す構造のように複数個関係する場合には、対応する穴6の数は瓶の首4を受ける容器担持板5中に互いに並置される。
【0017】
分割壁7は、実質的に水平な姿勢で容器瓶からある程度間隔を置いて、空洞共振器1の上方に後向きに取り付けられている。図には示されず識別されないが容器担持板5中の穴6の中心から垂直に上方に向かって伸びかつ容器担持板5の表面に垂直な本装置の縦軸方向において、各容器2の上の分割壁7中に、ハウジング端部10により後部上方が密封されている円筒形ハウジング9を受ける穴8が配置されている。
【0018】
ハウジング9の後部上方の外側に突出するマイクロ波供給路11は、ハウジング端部10のほぼ中心に固定されている。マイクロ波供給路11は、典型的には同軸ケーブルあるいは同軸導波管であり、符号12で表され、図1および図2中の実施例において棒の形状であるため棒アンテナと呼ばれるアンテナにマイクロ波を供給する。図3および図4の実施例において、アンテナ12は円錐らせん形状であるが、これも符号12で表される。このアンテナは結合したマイクロ波エネルギーをハウジング9、空洞共振器1およびこれらの実施例においてはコーティングチャンバ3の形状である処理チャンバ3に供給する。導波管全体の空間は、図の下方先端である容器担持板5の内側表面から上方にハウジング端部10の内側表面に及ぶ。マイクロ波が作用する空間は全長Lの部分である。この実質的に円筒構造の構成は、電気的にみると、後端すなわち図1〜図3の上端において、領域aにはアンテナ12の形状である内部導体を有する第1の同軸導波管があるということである。それは領域aの先端で終わっている。中央部分において領域bには、内部導体を持たないほぼ円筒形の導波管がつながっており、図中下方の前端すなわち領域cにおいて第2の同軸導波管を形成している。後者はガス供給チューブ13の形状で内部導体を有する。
【0019】
ハウジング9内のガス圧が空洞共振器1内のガス圧と異なるように、空洞共振器1の空間とハウジング9の空間とをガス漏れのないように分離する石英窓14が、分割壁7中に配置された円筒形ハウジング9の前部下端に取り付けられている。
【0020】
混合ガスは、図2の下端に曲線の矢印で示されるように、前部下方からガス供給チューブ13を介して空洞共振器1中に導入される。
【0021】
容器2がない場合、プラズマは混合ガス中においてマイクロ波エネルギーの作用により空洞共振器1中で発生して活性化し、他の空間やチャンバにも作用することがある。
【0022】
しかしここに示される本実施例においては、図2に示すように容器2は、プラズマ発生用のガスが穴15から流出した後容器2の体積中に完全に留まるよう容器担持板中に容器2の口である首が密封して嵌合されている。このときいわゆるプラズマ領域は、実質的に空洞共振器1の前部の下方領域c内にある。
【0023】
前方下方方向に空洞共振器1へ続く円筒形ハウジング9の物理的構成に関わりなく、後端(領域a)に配置された第1の同軸導波管の長さはアンテナ12の長さにより規定される。円筒形の導波管が内部導体を持たない領域bにおいて、実質的な円筒空間は、たとえ異なる直径をもつ別のハウジング部分により形成されていても、一方はアンテナ12からの間隔により決まり、他方はガス供給チューブ13の内部自由端により決まる。最後に、先端部分である領域cでは、第2の同軸導波管は内部導体の長さすなわちガス供給チューブ13の長さにより決まる。その長さは容器担持板5の内側表面からガス供給チューブ13の上部後端までの長さである。
【0024】
図1および図2に示される棒アンテナは、長さが55mmで外径が8mmの銅線から成る。
【0025】
図2の実施例は、複数のプラスチック瓶を処理する連結型の装置を示す。右手の装置は外観のみを示すが、左手の装置は断面を示している。各ユニットにおいて、マイクロ波はハウジング9を通ってアンテナ12により空洞共振器1中に結合される。アンテナ12は、前部後方からすなわち図2の上方から装置全体を貫く中心軸線に沿って伸びている。アンテナ12は、空洞共振器1の円筒周りに想像的に配置されると見なされる真空チャンバの外側のハウジング9中に配置される。石英窓14は上方で空洞共振器1を閉じており、容器担持板5は前部下方に閉鎖手段を形成する。
【0026】
コーティング処理するプラスチック瓶に処理用のガスを供給しその内部を排気するため、図2に二つが例示されているような瓶の配列や並びの全範囲に及び、互いに重ね合せて配置される二つのチャンバまたは空間がある。ガス供給チューブ13を位置決めし、瓶形状の容器2を処理用ガスと排気系とに接続し、さらに空洞共振器1を密閉するために、共通の容器担持板5上に位置する容器は、二重のチャンバまたは空間16/17に対して相対的に動く。各ユニットのガス供給チューブ13は、ガスの充満する空間である下方のプレナムまたは空間16に接続されている。処理用ガスは、少なくとも1つのガス供給路18を通って供給される。各ガス供給チューブ13は、取り入れ口側に制御フラップまたは開口の形をもち、容器2内に流れ込む処理用ガスの流れを調節するスロットル19を有する。
【0027】
コーティング処理される各瓶2(容器2)の首は、真空に排気される空間である上部プレナム17に接続される。上部プレナム17は、各容器2内を減圧させ、かつそれを維持するために真空排気路20を経由して排気される。
【0028】
プラズマ処理後、容器2の付いた容器担持板5と二重の空間16/17(下部プレナム16と上部プレナム17)は分離され、瓶形状の容器2は取り外し可能となる。
【0029】
図3に示される第2の実施例は、図1の実施例と一つを除いてすべての部品と構造が同じである。その違いはアンテナ12の形状である。図3および図4に示すように、アンテナ12の形状は円錐らせん形状である。ハウジング9内の空間に突出し、らせんアンテナ12の後部上端22は摩擦接合により内部に固定されたスリーブ形状の受信手段または取付け21が、容器端部10に取り付けられている。図4は、受信手段21中のめくら孔の内径より小さいらせんアンテナ12の上端22の外径が、受信手段21中に摩擦接合するように彎曲している様子を示す。
【0030】
らせんアンテナ12の本発明の特に好適な実施例において、ハウジング端部10の下端表面とらせんアンテナ12の最上部の最初の1巻きとの間隔は50mmである。最上部の後端の1巻きの直径も50mmであり、らせんアンテナ12の縦軸方向の長さは60mmである。らせんアンテナ12の最先端における最小の巻きの直径は22mmである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例によるマイクロ波結合装置を切断した部分破断線図である。
【図2】 棒アンテナを有し内部をコーティング処理する複数の容器が、互いに並置された実際の構造の部分破断線図である。
【図3】 図1と同様であるが、棒アンテナに替えてらせんアンテナを用いた場合の図である。
【図4】 スリーブ形状の受信手段を有するらせんアンテナの拡大図である。
【符号の説明】
1 空洞共振器
2 容器
3 処理チャンバ
4 容器の首
5 容器担持板
6 容器担持板中の穴
7 分割壁
8 分割壁中の穴
9 円筒形ハウジング
10 ハウジング端部
11 マイクロ波供給路
12 アンテナ
13 ガス供給チューブ
14 石英窓
15 ガス供給チューブ中の穴
16/17 二重の空間
16 下部プレナム
17 上部プレナム
18 ガス供給路
19 スロットル
20 真空排気路
21 受信手段
22 らせんアンテナの上端
Claims (6)
- マイクロ波供給路(11)とマイクロ波導波管を備え、空洞共振器内に配置されたプラズマCVDコーティングチャンバとしての処理チャンバ(3)中に、マイクロ波エネルギーを結合させる装置であって、
装置の後端が所定形状のアンテナ(12)としての内部導体が配置される前記マイクロ波導波管の領域(a)であり、それに続く装置の中央がほぼ円筒形の前記マイクロ波導波管の領域(b)であり、装置の先端が内部導体が配置される前記マイクロ波導波管の領域(c)である、実質的に円筒構造の装置であり、
前記領域(c)の内部導体は、コーティング処理されるプラスチック容器(2)により囲まれるようになっている金属でできたガス供給チューブ(13)で形成されており、
ガスは前記ガス供給チューブ(13)を通って前記領域(c)中に導入され、結合したマイクロ波エネルギーによりプラズマ状態に活性化され、該領域(c)中でアンテナ(12)によりTMモードが発生することを特徴とする装置。 - 前記領域(a)のアンテナ(12)は棒状であり、該棒状のアンテナの長さは40mm以上100mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記領域(a)のアンテナ(12)は円錐らせん形状であり、該円錐らせん形状のアンテナの長さは50mm以上70mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記プラスチック容器(2)は容器担持板(5)に支持されて前記処理チャンバ(3)を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の装置。
- 装置の中央にある前記領域(b)に、装置の縦軸を横切る方向に広がる石英窓(14)が配置されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の装置。
- アンテナ(12)は、スリーブ形状の受信手段(21)中に摩擦接合により取り外し自在に固定されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19963122A DE19963122A1 (de) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | Anordnung zum Einkoppeln von Mikrowellenenergie in eine Behandlungskammer |
DE19963122.0 | 1999-12-24 | ||
PCT/EP2000/012770 WO2001048788A1 (de) | 1999-12-24 | 2000-12-15 | Anordnung zum einkoppeln von mikrowellenenergie in eine behandlungskammer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003518555A JP2003518555A (ja) | 2003-06-10 |
JP4831591B2 true JP4831591B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=7934583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001548414A Expired - Fee Related JP4831591B2 (ja) | 1999-12-24 | 2000-12-15 | 処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6952949B2 (ja) |
EP (1) | EP1240659B1 (ja) |
JP (1) | JP4831591B2 (ja) |
AT (1) | ATE431618T1 (ja) |
AU (1) | AU3012401A (ja) |
DE (2) | DE19963122A1 (ja) |
ES (1) | ES2323751T3 (ja) |
PT (1) | PT1240659E (ja) |
TW (1) | TW494603B (ja) |
WO (1) | WO2001048788A1 (ja) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4595276B2 (ja) * | 2000-12-25 | 2010-12-08 | 東洋製罐株式会社 | マイクロ波プラズマ処理方法及び装置 |
DE10225609A1 (de) * | 2002-06-07 | 2003-12-24 | Sig Technology Ltd | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Werkstücken |
DE10224547B4 (de) * | 2002-05-24 | 2020-06-25 | Khs Corpoplast Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Werkstücken |
EP1507887B1 (de) * | 2002-05-24 | 2008-07-09 | Schott Ag | Mehrplatz-beschichtungsvorrichtung und verfahren zur plasmabeschichtung |
FR2847912B1 (fr) * | 2002-11-28 | 2005-02-18 | Sidel Sa | Procede et dispositif pour deposer par plasma micro-ondes un revetement sur une face d'un recipient en materiau thermoplastique |
DE10260745A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-01 | Outokumpu Oyj | Verfahren und Anlage zur thermischen Behandlung von körnigen Feststoffen |
US20060137613A1 (en) * | 2004-01-27 | 2006-06-29 | Shigeru Kasai | Plasma generating apparatus, plasma generating method and remote plasma processing apparatus |
EP2495350B1 (en) * | 2003-03-12 | 2014-06-18 | Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. | Microwave plasma processing device with a plasma processing gas supply member |
DE102004039468B4 (de) * | 2004-08-14 | 2008-09-25 | R3T Gmbh Rapid Reactive Radicals Technology | Vorrichtung zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma |
JP4747566B2 (ja) * | 2004-12-01 | 2011-08-17 | 凸版印刷株式会社 | プラズマ処理装置 |
US7545541B2 (en) * | 2005-05-20 | 2009-06-09 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Systems and methods for embedding metadata in a color measurement target |
JP4910403B2 (ja) * | 2006-01-26 | 2012-04-04 | 凸版印刷株式会社 | 2分岐導波管を有するプラズマ処理装置 |
JP4904840B2 (ja) * | 2006-02-15 | 2012-03-28 | 凸版印刷株式会社 | 3次元中空容器の薄膜成膜装置 |
WO2013170052A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
PT2251453E (pt) | 2009-05-13 | 2014-03-13 | Sio2 Medical Products Inc | Retentor de vaso |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
KR20140026605A (ko) | 2011-06-24 | 2014-03-05 | 아마란테 테크놀러지스 인코포레이티드 | 마이크로웨이브 공진 캐비티 |
EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
WO2014071061A1 (en) | 2012-11-01 | 2014-05-08 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
WO2014078666A1 (en) | 2012-11-16 | 2014-05-22 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
WO2014085346A1 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Hollow body with inside coating |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
CN105392916B (zh) | 2013-03-11 | 2019-03-08 | Sio2医药产品公司 | 涂布包装材料 |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
EP2971227B1 (en) | 2013-03-15 | 2017-11-15 | Si02 Medical Products, Inc. | Coating method. |
TWI553700B (zh) * | 2013-11-06 | 2016-10-11 | 東京威力科創股份有限公司 | 多單元共振器微波表面波電漿設備 |
CN106062245B (zh) * | 2014-03-03 | 2020-04-07 | 皮考逊公司 | 用ald涂层保护气体容器的内部 |
EP3693493A1 (en) | 2014-03-28 | 2020-08-12 | SiO2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
EP3337915B1 (en) | 2015-08-18 | 2021-11-03 | SiO2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
CN105396859B (zh) * | 2015-11-27 | 2017-08-25 | 宁国市四方钢球模具设备有限公司 | 密炼机磁致除尘器 |
US10071521B2 (en) | 2015-12-22 | 2018-09-11 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing dielectric materials using microwave energy |
CN112343780B (zh) * | 2019-08-09 | 2021-08-13 | 哈尔滨工业大学 | 微波同轴谐振会切场推力器 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283464A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 筒状部材内面被覆方法および装置 |
JPH0237698A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ発生方法および薄膜堆積方法 |
WO1999017334A1 (en) * | 1997-09-30 | 1999-04-08 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Method and apparatus for treating the inside surface of plastic bottles in a plasma enhanced process |
JP2001518565A (ja) * | 1997-09-30 | 2001-10-16 | テトラ ラヴァル ホールディングズ アンド ファイナンス エス.アー. | プラズマ強化プロセスにおける小口径開口部付きプラスチック製容器の内面処理装置および方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2514033B1 (fr) * | 1981-10-02 | 1985-09-27 | Henaff Louis | Installation pour le depot de couches minces en grande surface en phase vapeur reactive par plasma |
US5153406A (en) * | 1989-05-31 | 1992-10-06 | Applied Science And Technology, Inc. | Microwave source |
EP0907761A1 (en) * | 1996-05-22 | 1999-04-14 | Tetra Laval Holdings & Finance SA | Method and apparatus for treating inside surfaces of containers |
JPH11214196A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-06 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ発生装置 |
DE19960333C2 (de) * | 1999-12-15 | 2002-12-19 | Tetra Laval Holdings & Finance | Vorrichtung zum Herstellen eines Gasgemisches und deren Verwendung |
DE10001936A1 (de) * | 2000-01-19 | 2001-07-26 | Tetra Laval Holdings & Finance | Einkoppelanordnung für Mikrowellenenergie mit Impedanzanpassung |
DE10124225B4 (de) * | 2001-05-18 | 2006-03-02 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Permeation einer Barriereschicht |
-
1999
- 1999-12-24 DE DE19963122A patent/DE19963122A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-12-15 AU AU30124/01A patent/AU3012401A/en not_active Abandoned
- 2000-12-15 ES ES00990762T patent/ES2323751T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-15 US US10/169,698 patent/US6952949B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-15 JP JP2001548414A patent/JP4831591B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-15 AT AT00990762T patent/ATE431618T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-12-15 DE DE50015646T patent/DE50015646D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-15 EP EP00990762A patent/EP1240659B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-15 PT PT00990762T patent/PT1240659E/pt unknown
- 2000-12-15 WO PCT/EP2000/012770 patent/WO2001048788A1/de active Application Filing
- 2000-12-21 TW TW089127575A patent/TW494603B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6283464A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 筒状部材内面被覆方法および装置 |
JPH0237698A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ発生方法および薄膜堆積方法 |
WO1999017334A1 (en) * | 1997-09-30 | 1999-04-08 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Method and apparatus for treating the inside surface of plastic bottles in a plasma enhanced process |
JP2001518565A (ja) * | 1997-09-30 | 2001-10-16 | テトラ ラヴァル ホールディングズ アンド ファイナンス エス.アー. | プラズマ強化プロセスにおける小口径開口部付きプラスチック製容器の内面処理装置および方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001048788A1 (de) | 2001-07-05 |
AU3012401A (en) | 2001-07-09 |
JP2003518555A (ja) | 2003-06-10 |
US20030097986A1 (en) | 2003-05-29 |
ES2323751T3 (es) | 2009-07-24 |
US6952949B2 (en) | 2005-10-11 |
DE19963122A1 (de) | 2001-06-28 |
EP1240659A1 (de) | 2002-09-18 |
DE50015646D1 (de) | 2009-06-25 |
EP1240659B1 (de) | 2009-05-13 |
TW494603B (en) | 2002-07-11 |
ATE431618T1 (de) | 2009-05-15 |
PT1240659E (pt) | 2009-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4831591B2 (ja) | 処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置 | |
KR100189311B1 (ko) | 플라즈마 발생용 마이크로파 플라즈마 토치 및 플라즈마 발생방법 | |
US5973289A (en) | Microwave-driven plasma spraying apparatus and method for spraying | |
US7967945B2 (en) | RF antenna assembly for treatment of inner surfaces of tubes with inductively coupled plasma | |
CN1328751C (zh) | 用于对物体进行涂层的装置 | |
KR101340337B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치 | |
JP2007231386A (ja) | プラズマを使用した容器処理装置 | |
JPH05190103A (ja) | マイクロ波エネルギーを結合するための装置 | |
JPH0219600B2 (ja) | ||
JP2006319127A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
US10290471B2 (en) | Device for generating plasma by means of microwaves | |
US20050040347A1 (en) | Method and device for the generation of far ultraviolet or soft x-ray radiation | |
JPH08236293A (ja) | マイクロ波プラズマトーチおよびプラズマ発生方法 | |
KR20050085174A (ko) | 마이크로파에 의한 플라스마를 이용하여 열가소성 용기표면상에 코팅층을 부착시키는 방법 및 장치 | |
US20030051666A1 (en) | Impedance adapted microwave energy coupling device | |
JP4586495B2 (ja) | マイクロ波処理装置、マイクロ波供給・処理システム及びマイクロ波処理方法 | |
JP2001335947A (ja) | Cvd成膜装置及びcvd成膜方法 | |
JP2007217738A (ja) | 3次元中空容器の薄膜成膜装置 | |
JP2007204065A (ja) | プラズマを使用した容器処理装置 | |
JP2005089814A (ja) | 3次元中空容器の薄膜成膜装置 | |
JP2008106333A (ja) | プラズマcvdによる容器処理装置 | |
JP4876611B2 (ja) | プラズマ成膜装置 | |
JPH11149996A (ja) | プラズマリアクター | |
WO2023243540A1 (ja) | プラズマ処理装置 | |
CN105551927B (zh) | 新型高效可活动射频等离子体放电管 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110428 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110511 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110531 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110607 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110629 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110823 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110914 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110914 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |