JP4818620B2 - エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents
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Description
エポキシ樹脂A(日本化薬株式会社製、商品名:N−670 EXPS;色相2.0、エポキシ当量 205) 16.9質量%、臭素化エポキシ樹脂(DIC製、商品名:エピクロン−153;エポキシ当量 400) 2.0質量%、フェノール樹脂A(明和化成株式会社製、商品名:MEP−6309;色相1.0、水酸基当量 120) 1.1質量%、硬化促進剤A(四国化成株式会社製、商品名:2P4MHZ) 0.5質量%、二酸化チタンA(石原産業株式会社製、商品名:CR−58) 30質量%、三酸化アンチモン(三国精錬株式会社製、商品名:MSE) 2質量%、溶融シリカ粉末(電気化学工業株式会社製、商品名:FB−60) 46.5質量%、カップリング剤(日本ユニカー株式会社製、商品名:A−187) 0.6質量%、カルナバワックス 0.4質量%を配合し、室温で混合してエポキシ樹脂組成物とした後、さらに90〜95℃で混練、冷却した後、粉砕して成形材料とした。
表1、表2の配合割合にしたがって、実施例1と同様の操作を行い、それぞれエポキシ樹脂組成物を製造し、得られた成形材料を用いて成形品を製造した。得られた成形品について反射率等の試験を行い、その結果を表1及び表2に示した。
[配合材料]
エポキシ樹脂A(日本化薬株式会社製、商品名:N−670 EXPS;色相2.0、エポキシ当量 205)
エポキシ樹脂B(日本化薬株式会社製、商品名:NC−6000;色相1.0、エポキシ当量 210)
エポキシ樹脂C(日本化薬株式会社製、商品名:EPPN−502H;色相6.0、エポキシ当量 167)
臭素化エポキシ樹脂(DIC製、商品名:エピクロン−153;エポキシ当量 400)
フェノール樹脂B(明和化成株式会社製、商品名:MEH−1085;色相1.0、水酸基当量 106)
硬化促進剤B(四国化成株式会社製、商品名:2MZ−P)
硬化促進剤C(北興化学株式会社製、商品名:TPP)
二酸化チタンB(チタン産業株式会社製、商品名:KA−80)
二酸化チタンC(ケーシー工業株式会社製、商品名:KA−100)
溶融シリカ粉末(電気化学工業株式会社製、商品名:FB−60)
カップリング剤(日本ユニカー株式会社製、商品名:A−187)
スパイラルフロー:EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用の金型を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間120秒で測定した。
ゲルタイム:混合物を0.5g取って、150℃のヒートプレートの凹み穴に置き、ゲル化に必要とする時間を測定した。
ガラス転移温度:エポキシ樹脂組成物を175℃×120秒で成形し、その後、175℃×8時間の加熱処理を行った成形品を3mm×3mm×17mmの大きさに成形したものをサンプルとした。このサンプルをTMA/SS150(セイコー電子工業株式会社製、商品名)にセットし、昇温5℃/min、荷重10gの条件で測定した。
高温曲げ強度、高温曲げ弾性率:エポキシ樹脂組成物を175℃×120秒で成形し、その後、175℃×8時間の加熱処理を行った成形品を長さ80mm以上、幅10mm、厚さ4mmの大きさに成形したものをサンプルとした。空気を媒体として所定の温度に保たれ、かつ槽内で試験を行える恒温槽を有したオートグラフAG−D1000(株式会社島津製作所製、商品名)の装置を用い、175℃雰囲気下にてサンプルの強度及び弾性率を測定した。
反射率:エポキシ樹脂組成物を170℃×90秒で硬化した後、15×30×0.5mmの帯状に形成し、反射率測定サンプルを作製した。このサンプルを日立製作所製分光光度計U−4001にセットして、450nmの光反射率を測定した(処理前反射率)。次いで、150℃×24時間の加熱処理を行った後の反射率を同様に測定した(処理後反射率)。
Claims (4)
- (A)ガードナー法による色相が4以下であるエポキシ樹脂と、
(B)次の一般式(I)で表されるパラ位アルキル変性フェノール樹脂
(C)イミダゾール系硬化促進剤と、
(D)二酸化チタンと、
(E)二酸化チタン以外の無機充填材と、
を必須の構成成分として含有し、
前記(A)エポキシ樹脂は樹脂組成物中に5〜20質量%、前記(B)フェノール樹脂は樹脂組成物中に0.1〜30質量%〔ここで、(B)フェノール樹脂は、(A)エポキシ樹脂 1化学当量に対して0.05〜0.5当量の割合で配合される。〕、前記(C)イミダゾール系硬化促進剤は樹脂組成物中に0.1〜10質量%、前記(D)二酸化チタンは樹脂組成物中に10〜50質量%、前記(E)二酸化チタン以外の無機充填材は樹脂組成物中に20〜80質量%の範囲の割合で配合されることを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 - 前記(C)イミダゾール系硬化促進剤が、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールであることを特徴とする請求項1記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 前記(D)二酸化チタンが、アルミナ及び/又はシリカで表面処理されていることを特徴とする請求項1又は2記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
- 請求項1乃至3のいずれか1項記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を加熱硬化して得られる樹脂硬化物により、電子部品が封止されてなることを特徴とする電子部品装置。
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