JP4813785B2 - 錫めっき材 - Google Patents
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Description
まず、厚さ0.3mmの黄銅C2600からなる素材を、ニッケル(90g/L)と塩化ニッケル(20g/L)とホウ素(5g/L)からなるニッケルめっき液中に入れ、液温50℃、電流密度5A/dm2で素材上に厚さ1μmのニッケルめっきを施した。
ニッケルめっき皮膜と厚さ1μmの複合めっき皮膜との間に厚さ1μmの錫めっき皮膜を形成した以外は実施例1〜3と同様の方法によって作製した錫めっき材(実施例4)と、ニッケルめっき皮膜と厚さ1μmの錫めっき皮膜との間に厚さ1μmの複合めっき皮膜を形成した以外は実施例1〜3と同様の方法によって作製した錫めっき材(比較例3)について、実施例1〜3と同様の方法により、摩擦係数および接触抵抗の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、実施例4では、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.16、160℃に加熱して150時間保持した後の摩擦抵抗は0.67mΩであり、複合めっき皮膜の下地として錫めっき皮膜を形成することにより、錫めっき皮膜の下地を形成しない実施例1と比べて、低い動摩擦係数を維持しながら摩擦抵抗を低くすることができる。一方、比較例3では、最外層が錫めっき皮膜であるため、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.28と高くなっている。
平均粒径5.8μmで粒度分布1.1〜18.5μmの鱗片状のグラファイト粒子を使用した以外は実施例1〜3と同様の方法によって、それぞれ表1に示す膜厚の錫とグラファイト粒子の複合めっき皮膜が形成された錫めっき材を作製し、実施例1〜3と同様の方法により、錫めっき材の複合めっき皮膜中のCの含有量を算出するとともに、錫めっき材の摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、実施例5〜8のように複合めっき皮膜の厚さが1.2〜9.2μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.12〜0.18であり、特に、実施例5および6のように複合めっき皮膜の厚さが1.2〜4.0μmの場合には、試験片同士の間の動摩擦係数も0.17〜0.19であり、優れた耐摩耗性を維持しながら低い動摩擦係数が得られるが、比較例4のように複合めっき皮膜の厚さが12.7μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間および試験片同士の間の動摩擦係数がそれぞれ0.37および0.54と高くなっている。
平均粒径8.3μmで粒度分布1.1〜31μmの鱗片状のグラファイト粒子を使用した以外は実施例1〜3と同様の方法によって、それぞれ表1に示す膜厚の錫とグラファイト粒子の複合めっき皮膜が形成された錫めっき材を作製し、実施例1〜3と同様の方法により、錫めっき材の複合めっき皮膜中のCの含有量を算出するとともに、錫めっき材の摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、実施例9および10のように複合めっき皮膜の厚さが1.5〜3.4μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.13、試験片同士の間の動摩擦係数が0.18〜0.20であり、優れた耐摩耗性を維持しながら低い動摩擦係数が得られるが、比較例5〜7のように複合めっき皮膜の厚さが5.7〜13.7μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.21〜0.39、試験片同士の間の動摩擦係数が0.41〜0.56と高くなっている。
平均粒径4.0μmで粒度分布0.6〜37μmの土状のグラファイト粒子を使用した以外は実施例1〜3と同様の方法によって、それぞれ表1に示す膜厚の錫とグラファイト粒子の複合めっき皮膜が形成された錫めっき材を作製し、実施例1〜3と同様の方法により、錫めっき材の複合めっき皮膜中のCの含有量を算出するとともに、錫めっき材の摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、実施例11および12のように複合めっき皮膜の厚さが0.9〜3.3μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.13〜0.18、試験片同士の間の動摩擦係数が0.12〜0.19であり、優れた耐摩耗性を維持しながら低い動摩擦係数が得られるが、比較例8〜10のように複合めっき皮膜の厚さが6.1〜16.6μmの場合には、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.23〜0.33、試験片同士の間の動摩擦係数が0.25〜0.54と高くなっている。
実施例1〜3と同様に厚さ1μmのニッケルめっきを施した後、グラファイトを添加しない以外は実施例1〜3と同様のアルカノールスルホン酸浴を使用し、実施例1〜3と同様の方法により厚さ1.4μmの無光沢Snめっきを施すことによって作製した錫めっき材について、実施例1〜3と同様の方法により、摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、この比較例では、Snめっき皮膜の厚さが1.4μmと薄いにもかかわらず、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.24と高くなっている。
厚さ0.25mmのからなるCu−Ni−Sn合金からなる素材(同和鉱業(株)製のNB−109−EH材)を、硫酸(60g/L)、硫酸第一錫(60g/L)、クレゾールスルホン酸(30g/L)および界面活性剤(1ml/L)からなるめっき浴中に入れ、液温25℃、電流密度2A/dm2で電気めっきを行い、素材上に厚さ1.1μmの錫めっきを施した後、リフロー処理を施すことにより作製した錫めっき材について、実施例1〜3と同様の方法により、摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、この比較例では、試験片同士(この比較例のリフロー処理を施した錫めっき材同士)との間の動摩擦係数が0.2であり、実施例1〜12の錫めっき材は、この比較例のリフローSnめっき材と同等またはそれ以下の低い動摩擦係数を有している。
比較例12と同様の素材に、厚さ1μmの光沢Cuめっき、厚さ0.2μmのSnNi合金めっき、厚さ0.4μmのSnめっきを順次施すことによって作製した錫めっき材について、実施例1〜3と同様の方法により、摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、この比較例では、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数が0.17と低いが、160℃に加熱して150時間保持した後の摩擦抵抗が2.44mΩと高くなっている。
Snめっきの厚さを0.1μmとした以外は比較例12と同様の方法により作製した錫めっき材について、実施例1〜3と同様の方法により、摩擦係数、接触抵抗および磨耗性の評価を行った。その結果を表1〜3に示す。これらの表に示すように、この比較例では、160℃に加熱して150時間保持した後の摩擦抵抗は1.23mΩと低くなるが、試験片とリフロー処理を施した錫めっき材との間の動摩擦係数は0.29と高くなっている。
12 雄端子
Claims (4)
- 錫層中に炭素粒子が分散した複合材からなる皮膜が素材上に形成された錫めっき材において、皮膜の厚さが0.5〜5.0μm、皮膜中の炭素粒子の含有量が0.1〜1.0重量%であり、錫めっき材から切り出した試験片同士の間の動摩擦係数が0.12〜0.19であることを特徴とする、錫めっき材。
- 前記皮膜中の炭素粒子の平均粒径が3.4〜8.3μmであることを特徴とする、請求項1に記載の錫めっき材。
- 前記皮膜が最外層に形成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の錫めっき材。
- 雌端子とこの雌端子に嵌合する雄端子とからなり、雌端子と雄端子の少なくとも一方の少なくとも他方と接触する部分が、請求項1乃至3のいずれかの錫めっき材からなることを特徴とする、接続端子。
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