JP4799825B2 - レーザ照射方法 - Google Patents
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Description
本発明が提示するレーザ照射装置の実施形態について図2を用いて説明する。なお、図2(b)は、図2(a)において照射面と直交し、レーザビームの入射位置を含む位置の断面図を表す。まず、連続発振の最大出力10Wのレーザ発振器201(LD励起固体Nd:YVO4レーザ、第2高調波、波長532nm)を用意する。前記レーザ発振器は、TEM00の発振モードで、非線形光学素子により第2高調波に変換されている。特に第2高調波に限定する必要はないがエネルギー効率の点で、第2高調波の方が、さらに高次の高調波と比較して優れている。なお、図2では1つのレーザ発振器201を設けている例について示しているが、本発明のレーザ照射装置が有するレーザ発振器はこの数に限定されない。レーザ発振器から出力される各レーザ光のビームスポットを互いに重ね合わせ、1つのビームスポットとして用いても良い。
本実施形態では、第2高調波を成形して得られる長いビームを幾つか組み合わせ、より長いビームを形成し、さらに、基本波によりエネルギーの補助を施す例を図4に沿って示す。
Claims (6)
- 可視光線以下の波長である連続発振の第1のレーザビームが入射される照射面において、前記第1のレーザビームを楕円状ビームとなるように加工し、基本波である連続発振の第2のレーザビームを前記第1のレーザビームと同時に斜めから照射し、前記第1のレーザビーム及び前記第2のレーザビームと、前記照射面とを相対的に移動させるレーザ照射方法であって、
前記第1のレーザビームを、前記照射面の上方に配置された集光レンズとスリットを通し、長径方向の両端を切り取り、前記スリットの幅より小さい幅で前記照射面に照射し、
前記第2のレーザビームを、前記第1のレーザビームの10倍以上の出力で出力し、前記スリットを通し、前記照射面において前記第1のレーザビームが照射される領域の全てを照射することを特徴とするレーザ照射方法。 - 請求項1において、
前記第2のレーザビームは、光ファイバーを用いて、前記照射面に照射されることを特徴とするレーザ照射方法。 - 請求項1又は請求項2において、
前記第1のレーザビームまたは前記第2のレーザビームは、気体レーザ、固体レーザまたは金属レーザから射出されることを特徴とするレーザ照射方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記第1のレーザビームまたは前記第2のレーザビームは、Arレーザ、Krレーザ、CO2レーザ、YAGレーザ、Y2O3レーザ、YVO4レーザ、YLFレーザ、YAlO3レーザ、アレキサンドライトレーザ、Ti:サファイヤレーザまたはヘリウムカドミウムレーザから射出されることを特徴とするレーザ照射方法。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記照射面は透光性基板上に成膜された半導体膜の面であることを特徴とするレーザ照射方法。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、
前記照射面は前記第1のレーザビームに対して透光性を有する厚さdの基板に成膜された半導体膜の面であり、前記楕円状ビームの長径または短径の長さをWとすると、前記第1のレーザビームの前記照射面に対する入射角度φは、φ≧arctan(W/2d)を満たすことを特徴とするレーザ照射方法。
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