JP4797465B2 - パネルディスプレイ部材の製造方法 - Google Patents
パネルディスプレイ部材の製造方法Info
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Description
また、電子放出素子用部材の隔壁構造は、たとえばサンドブラスト法、凹版転写法、フォトリソ法、プレス法、スクリーン印刷法といった製造方法により形成される。例えば、サンドブラスト法を用いて、隔壁頂部のエッジ部に欠損のない形状の整った隔壁を形成する技術が提案されている。(例えば特許文献3)
隔壁は、主に低融点ガラス 、樹脂バインダー、溶剤、添加剤等の材料からなるペーストを用いて隔壁パターンを形成し、これを焼成することで得ることができる。隔壁の焼成においては、まず溶剤分が蒸発した後、樹脂バインダー等の有機物が焼成炉内の空気と反応して熱・酸化分解されて除去される。このときの分解ガスの放出により隔壁が多孔質化するが、さらに昇温すると低融点ガラスが軟化・流動性を持つようになり、多孔質化した箇所を埋めるように焼結し、隔壁パターン全体に熱収縮が起こる。隔壁パターンの熱収縮は全体に対して一様に起こるので、直立すべき隔壁が熱収縮による引っ張りの力を受けて斜めになり、焼成前の隔壁構造に対し焼成後は、電子が隣ユニットへ放射しやすい構造となり、その結果コントラストが悪化する懸念があった。つまり、ガラスを軟化点温度以上で焼成すると、所望のガラス形状が得られないことがあった。この問題に対し、例えば軟化点が焼成温度よりも高い高融点ガラス粉末と軟化点が焼成温度よりも低い低融点ガラス成分によりパターンを形成し、次いで、低融点ガラス成分で被覆することで、焼成時の熱変形による寸法ずれが改善できる方法が提案されている。(例えば特許文献4)しかしながら、この方法では、高融点ガラスと低融点ガラスを混合しパターン形成する工程と、その後低融点ガラスを被膜する工程とを含むので、隔壁構成のプロセスが煩雑になる。また、充填材料を隔壁パターン内に充填したまま焼成することで、隔壁パターンの形状変形が低減できる方法も提案されている。(例えば特許文献5)しかしながら、この方法でも、焼成後の充填材料を物理的に、または化学的に除去する必要があり、焼成後に除去工程が別途必要となる。
バインダー樹脂:40%のメタアクリル酸(MMA)、30%のメチルメタアクリレート(MMA)、30%のメタクリル酸からなる共重合体のカルボキシル基に対し、0.4当量のグリシジルメタアクリレート(GMA)を付加反応させた重量平均分子量19000、酸価107のものを用いた。
光重合開始剤:2,4−ジメチルオキサントン(日本化薬社製)とイルガキュア369(チバスペシャルティケミカル社製)を1:2(重量比)混合物
紫外線吸光剤:スダン(化学式C24H20N4O、分子量380.45のアゾ系有機染料)
分散剤:花王社製ノプコスパース
重合禁止剤:p−メトキシフェノール、
溶剤:3−メチル−3−メトキシブタノール
(無機成分)
ガラス粉末A:SiO2 25%、Al2O3 19%、B2O3 33%、ZnO 12%、MgO 6%、CaO 2%、BaO 2%、LiO2 1%
ガラス粉末はあらかじめアトラクターにて微粉末にし、平均粒径1.5μmとして用いた。結晶化温度は、510℃であった。
ガラス粉末はあらかじめアトラクターにて微粉末にし、平均粒径1.8μmとして用いた。結晶化温度は、515℃であった。
ガラス粉末はあらかじめアトラクターにて微粉末にし、平均粒径1.7umとして用いた。結晶化温度は、540℃であった。
走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて焼成前の孔径と焼成後の孔径を求め、以下の式で求めた。
なお、孔径は開口面(隔壁の最上面)における径を測定した。
ガラス基板上にペーストAをスクリーン印刷法を用いて一様に塗布した。その後80℃で5分保持して乾燥した。次いで、その上にペーストBをスクリーン印刷を用いて一様に塗布した。その後80℃で10分間保持して乾燥した。続いて、20μm径の円径パターンを40μmピッチで有するネガ型クロムマスクを用いて、上面から0.5kw出力の超高圧水銀灯で紫外線露光した。露光量は1.0J/cm2であった。
実施例1と同様にペーストAとペーストBをスクリーン印刷した後、ペーストB層上にさらにペーストCをスクリーン印刷法により塗布し、その後実施例1と同様に乾燥し、次いで露光、現像、焼成を行って隔壁を形成した。乾燥後のペーストA層の膜厚は12μm、ペーストB層の膜厚は8μm、ペーストC層の膜厚は5μmであった。焼成後の膜厚は17μmであった。
ペーストAを下層に、ペーストCを上層に用いた以外は実施例1と同様にして隔壁を形成した。乾燥後のペーストA層の膜厚は12μm、ペーストC層の膜厚は8μmであった。焼成後の膜厚は14μmであった。
ペーストBを下層に、ペーストAを上層に用いた以外は実施例1と同様にして隔壁を形成した。乾燥後のペーストB層の膜厚は12μm、ペーストA層の膜厚は10μmであった。焼成後の膜厚は15μmであった。
ペーストAを用いて2回塗布を行った以外は実施例1にして隔壁を形成した。乾燥後の下層のペーストA層の膜厚は12μm、上層のペーストA層の膜厚は10μmであった。焼成後の膜厚は14μmであった。
ペーストBの粘度を下げて、上層のペーストB層の膜厚を3μmにした以外は実施例1と同様にして隔壁を形成した。乾燥後の下層のペーストA層の膜厚は14μmであった。焼成後の膜厚は9μmであった。
Claims (7)
- 基板上に少なくともガラス粒子を含む無機成分と少なくともバインダー樹脂を含む有機成分とからなるペーストAを塗布する工程と、前記ペーストAによる層の上に少なくともガラス粒子を含む無機成分と少なくともバインダー樹脂を含む有機成分とからなるペーストBを塗布する工程、そして焼結工程を有するパネルディスプレイ部材の製造方法であって、前記ペーストAに含まれるガラス粒子の結晶化温度をTCA、前記ペーストBに含まれるガラス粒子の結晶化温度をTCBとした時、TCA<TCBを満たすことを特徴とするパネルディスプレイの隔壁の製造方法。
- 前記ペーストBを塗布する工程と前記焼結工程との間に、所望のパターンを形成する工程を含む請求項1記載のパネルディスプレイの隔壁の製造方法。
- TCBがTCAよりも5℃以上高いことを特徴とする請求項1または2に記載のパネルディスプレイの隔壁の製造方法。
- 前記ペーストAおよび前記ペーストBに含まれるガラス粒子の結晶化温度が600℃以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のパネルディスプレイの隔壁の製造方法。
- 前記ペーストAによる層の厚みtaと前記ペーストBによる層の厚みtbの関係が0.5×ta≦tb≦taであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のパネルディスプレイの隔壁の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法により得られた隔壁を有するパネルディスプレイ基板。
- 請求項6記載のパネルディスプレイ基板を背面板とするパネルディスプレイ。
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