JP3384400B2 - プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物、プラズマディスプレイパネルの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物、プラズマディスプレイパネルの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法Info
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- JP3384400B2 JP3384400B2 JP2001129002A JP2001129002A JP3384400B2 JP 3384400 B2 JP3384400 B2 JP 3384400B2 JP 2001129002 A JP2001129002 A JP 2001129002A JP 2001129002 A JP2001129002 A JP 2001129002A JP 3384400 B2 JP3384400 B2 JP 3384400B2
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの背面基板、および背面基板と前面基板とか
らなるプラズマディスプレイパネル全体に関するもので
ある。特に、隔壁材料に関する。
レイパネルの背面基板、および背面基板と前面基板とか
らなるプラズマディスプレイパネル全体に関するもので
ある。特に、隔壁材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から画像表示装置としてはCRTが
多用されてきているが、CRTは、外形容積が大きく重
量が大であること、高電圧が必要なことなどの欠点があ
り、近年、発光ダイオード(LED)や液晶表示装置
(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、
あるいはプラズマアドレス液晶(PALC)などの平面
画像表示装置が開発され、これらの利用範囲が拡大しつ
つある。
多用されてきているが、CRTは、外形容積が大きく重
量が大であること、高電圧が必要なことなどの欠点があ
り、近年、発光ダイオード(LED)や液晶表示装置
(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、
あるいはプラズマアドレス液晶(PALC)などの平面
画像表示装置が開発され、これらの利用範囲が拡大しつ
つある。
【0003】中でも、マルチメディアの浸透に伴い、情
報のインターフェイスとして大型画面用カラー表示装置
などに用いられるPDPは、プラズマ発光を利用した単
純な構造で、大型画面、高画質、軽量薄型で設置場所な
どの制約を受けない画像表示装置として将来性が注目さ
れている。
報のインターフェイスとして大型画面用カラー表示装置
などに用いられるPDPは、プラズマ発光を利用した単
純な構造で、大型画面、高画質、軽量薄型で設置場所な
どの制約を受けない画像表示装置として将来性が注目さ
れている。
【0004】かかるPDPは、2枚の平たんな絶縁基板
とその空間を仕切る隔壁で囲まれた微小な空間を放電表
示セルとし、この放電表示セル内にそれぞれに一対の放
電電極と、その底部に、放電表示セルの発光スイッチン
グを行うアドレス電極を設け、前記空間に希ガスなどの
放電可能なガスを封入した気密構造をなしており、前記
対向する電極間に電圧を選択的に印加して放電によりプ
ラズマを発生させ、該プラズマから放出される真空紫外
線により放電表示セル内に形成された蛍光体を発光させ
て画像表示装置の発光素子として利用するものである。
とその空間を仕切る隔壁で囲まれた微小な空間を放電表
示セルとし、この放電表示セル内にそれぞれに一対の放
電電極と、その底部に、放電表示セルの発光スイッチン
グを行うアドレス電極を設け、前記空間に希ガスなどの
放電可能なガスを封入した気密構造をなしており、前記
対向する電極間に電圧を選択的に印加して放電によりプ
ラズマを発生させ、該プラズマから放出される真空紫外
線により放電表示セル内に形成された蛍光体を発光させ
て画像表示装置の発光素子として利用するものである。
【0005】ここで、放電表示セルを構成するための隔
壁は、絶縁物からなり、一般的には所望の焼成温度で焼
結する低融点ガラスフリット、隔壁の形状を維持し、熱
膨張係数を調節するための無機酸化物などによる骨材
(低膨張フィラー)、隔壁の色を既定する無機顔料より
構成されている。
壁は、絶縁物からなり、一般的には所望の焼成温度で焼
結する低融点ガラスフリット、隔壁の形状を維持し、熱
膨張係数を調節するための無機酸化物などによる骨材
(低膨張フィラー)、隔壁の色を既定する無機顔料より
構成されている。
【0006】この隔壁の製造方法については、スクリー
ン印刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法、埋め
込み法、転写法など様々な方法が提案されている。これ
らのいずれの方法であっても、隔壁を形成するために使
用される組成物は、すべてペースト状であり、無機材料
と、隔壁を成形する機能を付与する樹脂や溶剤などの有
機材料から構成されている。
ン印刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法、埋め
込み法、転写法など様々な方法が提案されている。これ
らのいずれの方法であっても、隔壁を形成するために使
用される組成物は、すべてペースト状であり、無機材料
と、隔壁を成形する機能を付与する樹脂や溶剤などの有
機材料から構成されている。
【0007】ここで、有機成分は、隔壁を成形するため
に必要であり、焼成により焼失させる成分である。無機
成分中の低融点ガラスフリットは、有機成分が焼失した
ことによって発生した空間を埋めるように流動し、ち密
な隔壁を得ている。用いる低融点ガラスフリット、骨材
の添加量などによっては、焼成後の形状がち密ではない
ものも形成することができるが、疎である隔壁は、強度
が不十分である、隔壁の開気孔によりパネル化するとき
の真空排気に時間がかかるなどの欠点から、現在ち密な
隔壁が用いられている。
に必要であり、焼成により焼失させる成分である。無機
成分中の低融点ガラスフリットは、有機成分が焼失した
ことによって発生した空間を埋めるように流動し、ち密
な隔壁を得ている。用いる低融点ガラスフリット、骨材
の添加量などによっては、焼成後の形状がち密ではない
ものも形成することができるが、疎である隔壁は、強度
が不十分である、隔壁の開気孔によりパネル化するとき
の真空排気に時間がかかるなどの欠点から、現在ち密な
隔壁が用いられている。
【0008】ところで、最近PDPの輝度の向上、消費
電力の低下を目指して発光効率の改善が大きな課題とな
っており、様々な提案がなされている。その中で、隔壁
の形状を改良して、発光有効面積を向上させる試みがな
されている。今まで、作製することが比較的容易である
ストライブ状の隔壁(図1)が一般的であったが、その
中を細くしたり、格子型構造(図2)や特開平9−50
768号に示されるように規則的に蛇行する帯状の構造
であるミアンダ隔壁(図3)などが提案されている。
電力の低下を目指して発光効率の改善が大きな課題とな
っており、様々な提案がなされている。その中で、隔壁
の形状を改良して、発光有効面積を向上させる試みがな
されている。今まで、作製することが比較的容易である
ストライブ状の隔壁(図1)が一般的であったが、その
中を細くしたり、格子型構造(図2)や特開平9−50
768号に示されるように規則的に蛇行する帯状の構造
であるミアンダ隔壁(図3)などが提案されている。
【0009】このように、隔壁が細くなったり複雑化し
てくると焼成による形状変化が問題となってくる。この
形状変化によって、隔壁が大きくよれてしまったり、割
れや切れなどの欠陥を生じるようになる。隔壁は、前述
したように焼失した有機成分を埋めるように焼成によっ
て構造変化する。現状一般に用いられている隔壁形成用
組成物の無機粉末においては、この形状変化を防止する
ため、骨材と呼ばれる高融点の無機粉末が添加されてい
る。形状保持性を高めようとしてこの骨材の含有量を増
やすと、形状保持性は保たれるが、焼成後のち密性が失
われるという問題点がある。一方、骨材量が少ない場
合、ち密性は得られるが形状保持性が失われるという問
題点があった。今までのストライプ形状の隔壁のように
単純な形状の場合、骨材の含有量や使用するガラスフリ
ットの熱特性の最適化によってち密性と形状保持性の両
立が可能であった。しかし、隔壁構造が複雑化した場
合、この両立が難しくなるという問題があった。
てくると焼成による形状変化が問題となってくる。この
形状変化によって、隔壁が大きくよれてしまったり、割
れや切れなどの欠陥を生じるようになる。隔壁は、前述
したように焼失した有機成分を埋めるように焼成によっ
て構造変化する。現状一般に用いられている隔壁形成用
組成物の無機粉末においては、この形状変化を防止する
ため、骨材と呼ばれる高融点の無機粉末が添加されてい
る。形状保持性を高めようとしてこの骨材の含有量を増
やすと、形状保持性は保たれるが、焼成後のち密性が失
われるという問題点がある。一方、骨材量が少ない場
合、ち密性は得られるが形状保持性が失われるという問
題点があった。今までのストライプ形状の隔壁のように
単純な形状の場合、骨材の含有量や使用するガラスフリ
ットの熱特性の最適化によってち密性と形状保持性の両
立が可能であった。しかし、隔壁構造が複雑化した場
合、この両立が難しくなるという問題があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題点を解決するためになされたものであり、その課題
とするところは、従来のストライプ形状より細いものや
複雑な形状を有する隔壁にも対応できるち密でかつ焼成
後の形状の崩れが小さい隔壁を有するプラズマディスプ
レイパネルの背面基板、及び背面基板と前面基板とから
なるプラズマディスプレイパネル全体、及び隔壁形成用
ガラスペースト組成物を提供することにある。
問題点を解決するためになされたものであり、その課題
とするところは、従来のストライプ形状より細いものや
複雑な形状を有する隔壁にも対応できるち密でかつ焼成
後の形状の崩れが小さい隔壁を有するプラズマディスプ
レイパネルの背面基板、及び背面基板と前面基板とから
なるプラズマディスプレイパネル全体、及び隔壁形成用
ガラスペースト組成物を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペ
ースト組成物において、結晶性ガラスフリットと非結晶
性ガラスフリットの両方を含有し、かつ、前記結晶性ガ
ラスフリットの軟化点が前記非結晶性ガラスフリットの
軟化点よりも低いことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
は、プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペ
ースト組成物において、結晶性ガラスフリットと非結晶
性ガラスフリットの両方を含有し、かつ、前記結晶性ガ
ラスフリットの軟化点が前記非結晶性ガラスフリットの
軟化点よりも低いことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
【0012】請求項2に記載の発明は、前記結晶性ガラ
スフリットの結晶化温度が前記非結晶性ガラスフリット
の軟化点よりも低いことを特徴とする請求項1に記載の
プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペース
ト組成物である。
スフリットの結晶化温度が前記非結晶性ガラスフリット
の軟化点よりも低いことを特徴とする請求項1に記載の
プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペース
ト組成物である。
【0013】請求項3に記載の発明は、前記結晶性ガラ
スフリットの含有重量が前記非結晶性ガラスフリットの
含有重量の0.3〜4倍であることを特徴とする請求項
1あるいは2のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
スフリットの含有重量が前記非結晶性ガラスフリットの
含有重量の0.3〜4倍であることを特徴とする請求項
1あるいは2のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
【0014】請求項4に記載の発明は、プラズマディス
プレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物におい
て、少なくとも2種類以上の結晶性ガラスフリットを含
有し、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの軟化
点と別のもう1種類の結晶性ガラスフリットの軟化点と
が20℃以上差があるか、あるいは、そのうちの1種類
の結晶性ガラスフリットの結晶化温度と別のもう1種類
の結晶性ガラスフリットの結晶化温度とが20℃以上差
があることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
隔壁形成用ペースト組成物である。
プレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物におい
て、少なくとも2種類以上の結晶性ガラスフリットを含
有し、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの軟化
点と別のもう1種類の結晶性ガラスフリットの軟化点と
が20℃以上差があるか、あるいは、そのうちの1種類
の結晶性ガラスフリットの結晶化温度と別のもう1種類
の結晶性ガラスフリットの結晶化温度とが20℃以上差
があることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
隔壁形成用ペースト組成物である。
【0015】請求項5に記載の発明は、プラズマディス
プレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物におい
て、少なくとも2種類以上の結晶性ガラスフリットを含
有し、かつ、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリット
の結晶化温度より、別のもう1種類の結晶性ガラスフリ
ットの軟化点が高いことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
プレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物におい
て、少なくとも2種類以上の結晶性ガラスフリットを含
有し、かつ、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリット
の結晶化温度より、別のもう1種類の結晶性ガラスフリ
ットの軟化点が高いことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物である。
【0016】請求項6に記載の発明は、プラズマディス
プレイの背面基板において、隔壁が、少なくとも結晶性
ガラスフリットと非結晶性ガラスフリットとの両方から
形成されたものであり、かつ、前記結晶性ガラスフリッ
トの軟化点が前記非結晶性ガラスフリットの軟化点より
も低いことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
背面基板である。
プレイの背面基板において、隔壁が、少なくとも結晶性
ガラスフリットと非結晶性ガラスフリットとの両方から
形成されたものであり、かつ、前記結晶性ガラスフリッ
トの軟化点が前記非結晶性ガラスフリットの軟化点より
も低いことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
背面基板である。
【0017】請求項7に記載の発明は、前記隔壁が、少
なくとも結晶性ガラスフリットと非結晶性ガラスフリッ
トとの両方から形成されたものであり、かつ、前記結晶
性ガラスフリットの結晶化温度が前記非結晶性ガラスフ
リットの軟化点よりも低いことを特徴とする請求項6に
記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板である。
なくとも結晶性ガラスフリットと非結晶性ガラスフリッ
トとの両方から形成されたものであり、かつ、前記結晶
性ガラスフリットの結晶化温度が前記非結晶性ガラスフ
リットの軟化点よりも低いことを特徴とする請求項6に
記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板である。
【0018】請求項8に記載の発明は、前記結晶性ガラ
スフリットの含有量が前記非結晶性ガラスフリットの含
有重量の0.3〜4倍であることを特徴とする請求項6
あるいは7のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの背面基板。
スフリットの含有量が前記非結晶性ガラスフリットの含
有重量の0.3〜4倍であることを特徴とする請求項6
あるいは7のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの背面基板。
【0019】請求項9に記載の発明は、プラズマディス
プレイパネルの背面基板において、隔壁が、少なくとも
2種類以上の結晶性ガラスフリットから形成されたもの
であり、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの軟
化点と別のもう1種類の結晶化ガラスの軟化点とが20
℃以上差があるか、あるいは、そのうちの1種類の結晶
性ガラスフリットの結晶化温度と別のもう1種類の結晶
性ガラスフリットの結晶化温度とが20℃以上差がある
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面基
板である。
プレイパネルの背面基板において、隔壁が、少なくとも
2種類以上の結晶性ガラスフリットから形成されたもの
であり、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの軟
化点と別のもう1種類の結晶化ガラスの軟化点とが20
℃以上差があるか、あるいは、そのうちの1種類の結晶
性ガラスフリットの結晶化温度と別のもう1種類の結晶
性ガラスフリットの結晶化温度とが20℃以上差がある
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面基
板である。
【0020】請求項10に記載の発明は、プラズマディ
スプレイパネルの背面基板において、隔壁が、少なくと
も2種類以上の結晶性ガラスフリットから形成されたも
のであり、かつ、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリ
ットの結晶化温度より、別のもう1種類の結晶性ガラス
フリットの軟化点が高いことを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの背面基板である。
スプレイパネルの背面基板において、隔壁が、少なくと
も2種類以上の結晶性ガラスフリットから形成されたも
のであり、かつ、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリ
ットの結晶化温度より、別のもう1種類の結晶性ガラス
フリットの軟化点が高いことを特徴とするプラズマディ
スプレイパネルの背面基板である。
【0021】請求項11に記載の発明は、前記隔壁が、
格子型あるいはミアンダ型であることを特徴とする請求
項6乃至10のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの背面基板である。
格子型あるいはミアンダ型であることを特徴とする請求
項6乃至10のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネルの背面基板である。
【0022】請求項12に記載の発明は、プラズマディ
スプレイパネルの背面基板の製造方法において、請求項
1乃至5のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの隔壁形成用ガラスペースト組成物を凹版に充填し、
転写することにより隔壁を形成することを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの背面基板の製造方法であ
る。
スプレイパネルの背面基板の製造方法において、請求項
1乃至5のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
ルの隔壁形成用ガラスペースト組成物を凹版に充填し、
転写することにより隔壁を形成することを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの背面基板の製造方法であ
る。
【0023】請求項13に記載の発明は、前記隔壁が格
子型あるいはミアンダ型であることを特徴とする請求項
12に記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板の
製造方法である。
子型あるいはミアンダ型であることを特徴とする請求項
12に記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板の
製造方法である。
【0024】請求項14に記載の発明は、前面基板と背
面基板とから構成されるプラズマディスプレイパネルに
おいて、請求項6乃至11のいずれかに記載のプラズマ
ディスプレイパネルの背面基板と前面基板とをはりあわ
せて作成したことを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルである。
面基板とから構成されるプラズマディスプレイパネルに
おいて、請求項6乃至11のいずれかに記載のプラズマ
ディスプレイパネルの背面基板と前面基板とをはりあわ
せて作成したことを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルである。
【0025】請求項15に記載の発明は、前面基板と背
面基板とから構成されるプラズマディスプレイパネルの
製造方法において、請求項12あるいは13のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板の製造
方法により背面基板を製造し、前面基板とをはりあわせ
ることにより製造することを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの製造方法である。
面基板とから構成されるプラズマディスプレイパネルの
製造方法において、請求項12あるいは13のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板の製造
方法により背面基板を製造し、前面基板とをはりあわせ
ることにより製造することを特徴とするプラズマディス
プレイパネルの製造方法である。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
説明する。まず、本発明のプラズマディスプレイパネル
の隔壁形成用ガラスペースト組成物の実施の形態につい
て説明する。
説明する。まず、本発明のプラズマディスプレイパネル
の隔壁形成用ガラスペースト組成物の実施の形態につい
て説明する。
【0027】隔壁形成用ガラスペースト組成物は、隔壁
を構成する基本材料となる無機材料と隔壁を成形するた
めの機能を有する有機成分から構成される。以下に、各
成分について、詳述する。
を構成する基本材料となる無機材料と隔壁を成形するた
めの機能を有する有機成分から構成される。以下に、各
成分について、詳述する。
【0028】一般的なプラズマディスプレイの隔壁形成
用ガラスペースト組成物の無機粉末は、低融点ガラスフ
リット、形状保持性を付与し熱膨張係数を調整する低膨
張フィラー、着色顔料から構成されている。
用ガラスペースト組成物の無機粉末は、低融点ガラスフ
リット、形状保持性を付与し熱膨張係数を調整する低膨
張フィラー、着色顔料から構成されている。
【0029】本発明における低融点ガラスフリットとし
て、結晶性ガラスフリットおよび非結晶性ガラスフリッ
トをもちいる。
て、結晶性ガラスフリットおよび非結晶性ガラスフリッ
トをもちいる。
【0030】なお、本発明における「結晶化温度」と
「軟化点」は、DTAの変曲点から測定した値である。
(測定条件は、昇温速度10℃/minとしている。)
「軟化点」は、DTAの変曲点から測定した値である。
(測定条件は、昇温速度10℃/minとしている。)
【0031】本発明における結晶性ガラスフリットの組
成は、PbO−B2O3−SiO2−BaO系、PbO−
TiO2−SiO2系、SiO2−ZnO−BaO−Al2
O3系、TiO2−SiO2−ZnO−CaO−Al2O3
系、PbO−SiO2−Al2O3系、PbO−ZnO−
B2O3系、P2O5−ZnO−SnO系、P2O5−ZnO
−Li2O−Na2O−K2O系などを用いることが好ま
しいが、これに限るものではない。結晶性ガラスフリッ
トの軟化点は、350℃〜600℃が好ましい。軟化点
が350℃以下であると、ペースト中の有機成分が焼失
する前にガラスフリットが軟化する恐れがあり、このよ
うな場合、焼成後の隔壁に泡の発生、割れなどの欠陥を
引き起こすので好ましくない。一方、軟化点が600℃
以上であると、最高焼成温度を上げる必要があり、この
温度を上げるとプラズマディスプレイパネルに使用され
るガラス基板が大きく変形する可能性があり好ましくな
い。本発明における結晶性ガラスフリットは、核生成物
質を1〜10000ppm程度の微量を添加した系でも
良いし、ガラス粉末の表面を核として利用する形のどち
らでもかまわない。
成は、PbO−B2O3−SiO2−BaO系、PbO−
TiO2−SiO2系、SiO2−ZnO−BaO−Al2
O3系、TiO2−SiO2−ZnO−CaO−Al2O3
系、PbO−SiO2−Al2O3系、PbO−ZnO−
B2O3系、P2O5−ZnO−SnO系、P2O5−ZnO
−Li2O−Na2O−K2O系などを用いることが好ま
しいが、これに限るものではない。結晶性ガラスフリッ
トの軟化点は、350℃〜600℃が好ましい。軟化点
が350℃以下であると、ペースト中の有機成分が焼失
する前にガラスフリットが軟化する恐れがあり、このよ
うな場合、焼成後の隔壁に泡の発生、割れなどの欠陥を
引き起こすので好ましくない。一方、軟化点が600℃
以上であると、最高焼成温度を上げる必要があり、この
温度を上げるとプラズマディスプレイパネルに使用され
るガラス基板が大きく変形する可能性があり好ましくな
い。本発明における結晶性ガラスフリットは、核生成物
質を1〜10000ppm程度の微量を添加した系でも
良いし、ガラス粉末の表面を核として利用する形のどち
らでもかまわない。
【0032】結晶性ガラスフリットの結晶化温度の制御
方法について説明する。結晶化温度は、その主成分比に
よりほぼ決定されるが、微量添加物や核生成物質の種
類、量等によって、制御することもできる。例えば、一
般的に、SiO2−B2O3−PbO系の結晶性ガラスフ
リットでは、580℃〜600℃付近、P2O5−ZnO
−SnO系の結晶性ガラスフリットでは、460〜50
0℃付近に結晶化温度がある。ただし、上記の値から外
れるものでも、本願の発明の効果を満たすものであれ
ば、採用することが出来る。結晶化を十分に進行させる
ためには、焼成時に結晶化温度付近で10分から120
分の間で、低温保持することが好ましい。
方法について説明する。結晶化温度は、その主成分比に
よりほぼ決定されるが、微量添加物や核生成物質の種
類、量等によって、制御することもできる。例えば、一
般的に、SiO2−B2O3−PbO系の結晶性ガラスフ
リットでは、580℃〜600℃付近、P2O5−ZnO
−SnO系の結晶性ガラスフリットでは、460〜50
0℃付近に結晶化温度がある。ただし、上記の値から外
れるものでも、本願の発明の効果を満たすものであれ
ば、採用することが出来る。結晶化を十分に進行させる
ためには、焼成時に結晶化温度付近で10分から120
分の間で、低温保持することが好ましい。
【0033】本発明における非結晶性ガラスフリットと
しては、PbO−B2O3−SiO2系、PbO−ZnO
−B2O3系、PbO−ZnO−B2O3−SiO2、Zn
O−B2O3−SiO2系などを用いることが好ましい
が、これに限るものではない。非結晶性ガラスフリット
の軟化点は、400℃〜600℃程度が好ましい。軟化
点が400℃以下であると、結晶性ガラスフリットが結
晶を析出する前にガラスフリットが流動性を有するよう
になり、結晶性ガラスフリットが形状保持する骨材とし
て機能しなくなるため好ましくない。一方、軟化点が6
00℃以上であると、最高焼成温度を上げる必要があ
り、この温度を上げるとプラズマディスプレイパネルに
使用されるガラス基板が大きく変形する可能性があり好
ましくない。
しては、PbO−B2O3−SiO2系、PbO−ZnO
−B2O3系、PbO−ZnO−B2O3−SiO2、Zn
O−B2O3−SiO2系などを用いることが好ましい
が、これに限るものではない。非結晶性ガラスフリット
の軟化点は、400℃〜600℃程度が好ましい。軟化
点が400℃以下であると、結晶性ガラスフリットが結
晶を析出する前にガラスフリットが流動性を有するよう
になり、結晶性ガラスフリットが形状保持する骨材とし
て機能しなくなるため好ましくない。一方、軟化点が6
00℃以上であると、最高焼成温度を上げる必要があ
り、この温度を上げるとプラズマディスプレイパネルに
使用されるガラス基板が大きく変形する可能性があり好
ましくない。
【0034】なお、結晶性ガラスフリットと非結晶性ガ
ラスフリットの熱膨張係数は、基板とマッチングさせる
ことが好ましく、基板としてソーダライムガラス(熱膨
張係数80〜90×10-7/℃)を用いる場合には、5
0〜100×10-7/℃になるように設定することが望
ましい。また、結晶性ガラスフリット、非結晶性ガラス
フリットの軟化点は、その主成分比によってほぼ決定さ
れるが、微量添加物によって、変化させることも可能で
ある。例えば、PbO−SiO2−B2O3系の場合、B2
O3量が多いほど、また、SiO2量が少ないほど、軟化
点が低くなる傾向がある。アルカリ土類金属の酸化物の
微量添加によっても軟化点を下げることができる。
ラスフリットの熱膨張係数は、基板とマッチングさせる
ことが好ましく、基板としてソーダライムガラス(熱膨
張係数80〜90×10-7/℃)を用いる場合には、5
0〜100×10-7/℃になるように設定することが望
ましい。また、結晶性ガラスフリット、非結晶性ガラス
フリットの軟化点は、その主成分比によってほぼ決定さ
れるが、微量添加物によって、変化させることも可能で
ある。例えば、PbO−SiO2−B2O3系の場合、B2
O3量が多いほど、また、SiO2量が少ないほど、軟化
点が低くなる傾向がある。アルカリ土類金属の酸化物の
微量添加によっても軟化点を下げることができる。
【0035】焼成温度を上昇させて、隔壁が形成されて
いく過程について説明する。温度上昇に伴い、最初に結
晶性ガラスフリットが軟化し、流動性を有するようにな
る。結晶性ガラスフリットが流動性を有する時点では、
非結晶性ガラスフリットは流動性を有していない。その
ため、結晶性ガラスフリットが流動性を有する時点で
は、非結晶性ガラスフリットが、隔壁形状を維持する骨
材として機能して形状変化が起こりに難くなる。その
後、更に温度が上昇すると結晶性ガラスフリットが微細
な結晶を析出する。この状態で、更に温度上昇させ次に
非結晶性ガラスフリットを軟化、流動性を有するように
する。今度は、析出した結晶が骨材(骨格)となり非結
晶性のガラスフリットが軟化しても、形状を維持しなが
らち密性を増していく。以上のプロセスをたどることに
よって、ち密で形状安定性に優れた隔壁を形成すること
が可能となる。
いく過程について説明する。温度上昇に伴い、最初に結
晶性ガラスフリットが軟化し、流動性を有するようにな
る。結晶性ガラスフリットが流動性を有する時点では、
非結晶性ガラスフリットは流動性を有していない。その
ため、結晶性ガラスフリットが流動性を有する時点で
は、非結晶性ガラスフリットが、隔壁形状を維持する骨
材として機能して形状変化が起こりに難くなる。その
後、更に温度が上昇すると結晶性ガラスフリットが微細
な結晶を析出する。この状態で、更に温度上昇させ次に
非結晶性ガラスフリットを軟化、流動性を有するように
する。今度は、析出した結晶が骨材(骨格)となり非結
晶性のガラスフリットが軟化しても、形状を維持しなが
らち密性を増していく。以上のプロセスをたどることに
よって、ち密で形状安定性に優れた隔壁を形成すること
が可能となる。
【0036】結晶化温度は、非結晶性ガラスフリットの
軟化点よりも低いことが好ましいが、それよりも高い場
合であっても、結晶性ガラスフリットの軟化点が非結晶
性ガラスフリットの軟化点より低く、さらに昇温速度に
対して結晶化の速度が速い場合や結晶化率が高い場合に
は、本発明の効果であるガラスフリットの流動化、結晶
化の組み合わせによる形状保持性および緻密性の向上の
効果が発揮できる。
軟化点よりも低いことが好ましいが、それよりも高い場
合であっても、結晶性ガラスフリットの軟化点が非結晶
性ガラスフリットの軟化点より低く、さらに昇温速度に
対して結晶化の速度が速い場合や結晶化率が高い場合に
は、本発明の効果であるガラスフリットの流動化、結晶
化の組み合わせによる形状保持性および緻密性の向上の
効果が発揮できる。
【0037】なお、結晶性ガラスフリットの含有重量が
非結晶性ガラスフリット含有重量の0.3倍以下である
と非結晶性ガラスフリットが流動性を有するようになっ
た時点で、骨材として機能しなくなり形状変化が大きく
なる。一方、結晶性ガラスフリットの含有量が非結晶性
ガラスフリット含有重量の4倍以上であると結晶性ガラ
スフリットが軟化し、流動性を有するようになった時点
での形状安定性に欠け、この場合も形状変化が大きくな
ってしまう。以上のことより、結晶性ガラスフリットの
含有量が非結晶性ガラスフリットの含有重量の0.3〜
4倍であることが好ましい。
非結晶性ガラスフリット含有重量の0.3倍以下である
と非結晶性ガラスフリットが流動性を有するようになっ
た時点で、骨材として機能しなくなり形状変化が大きく
なる。一方、結晶性ガラスフリットの含有量が非結晶性
ガラスフリット含有重量の4倍以上であると結晶性ガラ
スフリットが軟化し、流動性を有するようになった時点
での形状安定性に欠け、この場合も形状変化が大きくな
ってしまう。以上のことより、結晶性ガラスフリットの
含有量が非結晶性ガラスフリットの含有重量の0.3〜
4倍であることが好ましい。
【0038】また、請求項4の発明においては、2つの
結晶性ガラスフリットの間の軟化点あるいは結晶化温度
の差は20℃以上であることが好ましい。この差が20
℃以下の場合、温度による流動性の差異が小さく、本発
明の効果であるガラスフリットの流動化、結晶化の組み
合わせによる形状保持特性および緻密性の向上の効果が
十分に発揮できない。
結晶性ガラスフリットの間の軟化点あるいは結晶化温度
の差は20℃以上であることが好ましい。この差が20
℃以下の場合、温度による流動性の差異が小さく、本発
明の効果であるガラスフリットの流動化、結晶化の組み
合わせによる形状保持特性および緻密性の向上の効果が
十分に発揮できない。
【0039】本発明においても、結晶性ガラスフリット
や非結晶性ガラスフリットの他に熱膨張係数を調整する
ための低膨張フィラー、着色顔料を好適に添加すること
が好ましい。
や非結晶性ガラスフリットの他に熱膨張係数を調整する
ための低膨張フィラー、着色顔料を好適に添加すること
が好ましい。
【0040】低膨張フィラーとしては、アルミナ、ジル
コニア、チタン酸鉛、シリカ、コーディエライト、β−
ユークリプタイト、β−スポジュメン、β−石英固容体
などを用いることができるがこれに限るものではない。
低膨張フィラーの添加量は、ガラスフリット成分に対し
て0〜20重量%が好ましい。低膨張フィラーの添加量
を少なくするとコストは高くなるが、焼成物がより緻密
になる。
コニア、チタン酸鉛、シリカ、コーディエライト、β−
ユークリプタイト、β−スポジュメン、β−石英固容体
などを用いることができるがこれに限るものではない。
低膨張フィラーの添加量は、ガラスフリット成分に対し
て0〜20重量%が好ましい。低膨張フィラーの添加量
を少なくするとコストは高くなるが、焼成物がより緻密
になる。
【0041】着色顔料としては、隔壁の色によって添加
する材料が異なってくる。隔壁の色は、白色あるいは黒
色が一般的である。白色顔料としては、チタニア、アル
ミナ、ジルコニアなどがありこれらの中から選ばれた少
なくとも1種類を添加する。黒色顔料としては、黒の着
色顔料としては、Cr、Fe、Co、Mn、Cu、Ni
等の酸化物があげられる、これらを添加する。着色顔料
の添加量としては、ガラスフリット成分に対して0〜2
0重量%が好ましい。
する材料が異なってくる。隔壁の色は、白色あるいは黒
色が一般的である。白色顔料としては、チタニア、アル
ミナ、ジルコニアなどがありこれらの中から選ばれた少
なくとも1種類を添加する。黒色顔料としては、黒の着
色顔料としては、Cr、Fe、Co、Mn、Cu、Ni
等の酸化物があげられる、これらを添加する。着色顔料
の添加量としては、ガラスフリット成分に対して0〜2
0重量%が好ましい。
【0042】こうしたプラズマディスプレイパネルの隔
壁形成用ガラスペースト組成物の無機粉末と、適当な有
機成分と混練して隔壁形成用ガラスペースト組成物を作
製することができ、以下に、その作製方法、有機成分を
示す。混練する有機成分は、隔壁形成方法により異な
り、その隔壁形成方法に適応した有機成分を選択する。
壁形成用ガラスペースト組成物の無機粉末と、適当な有
機成分と混練して隔壁形成用ガラスペースト組成物を作
製することができ、以下に、その作製方法、有機成分を
示す。混練する有機成分は、隔壁形成方法により異な
り、その隔壁形成方法に適応した有機成分を選択する。
【0043】隔壁形成方法としては、サンドブラスト法
(特開平10−283938号参照)、スクリーン印刷
法(特開平5−101776号参照)、感光性ペースト
法(特開平6−295676号参照)、埋め込み法(特
開平11−7126号参照)、プレス法(特開2000
−98352号参照)、転写法(特開2000−299
067号参照)などがあり、本発明の隔壁形成用ペース
ト組成物は、その成分を調整することにより、これらの
各々の隔壁形成方法に適用させることができる。
(特開平10−283938号参照)、スクリーン印刷
法(特開平5−101776号参照)、感光性ペースト
法(特開平6−295676号参照)、埋め込み法(特
開平11−7126号参照)、プレス法(特開2000
−98352号参照)、転写法(特開2000−299
067号参照)などがあり、本発明の隔壁形成用ペース
ト組成物は、その成分を調整することにより、これらの
各々の隔壁形成方法に適用させることができる。
【0044】例えば、スクリーン印刷法やサンドブラス
ト法などには、バインダー樹脂、溶剤などを有機成分と
して選択する。感光性ペーストの場合、感光性モノマ
ー、光重合開始剤、溶剤、バインダー樹脂などを有機成
分として選択する。また、これら有機成分の他に各種添
加剤も好適に添加される。転写法の場合は、ペーストの
硬化方式により選択する成分が異なってくる。例えば、
熱硬化の場合、バインダー樹脂、溶剤が主成分となり、
その他添加物を適宜選択する。紫外線硬化の場合、感光
性モノマー、光重合開始剤、溶剤、バインダー樹脂、そ
の他添加物などを適宜選択する。
ト法などには、バインダー樹脂、溶剤などを有機成分と
して選択する。感光性ペーストの場合、感光性モノマ
ー、光重合開始剤、溶剤、バインダー樹脂などを有機成
分として選択する。また、これら有機成分の他に各種添
加剤も好適に添加される。転写法の場合は、ペーストの
硬化方式により選択する成分が異なってくる。例えば、
熱硬化の場合、バインダー樹脂、溶剤が主成分となり、
その他添加物を適宜選択する。紫外線硬化の場合、感光
性モノマー、光重合開始剤、溶剤、バインダー樹脂、そ
の他添加物などを適宜選択する。
【0045】バインダー樹脂としては、例えば、ニトロ
セルロース、アセチルセルロース、エチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース等のセ
ルロース系高分子、天然ゴム、ポリブタジエンゴム、ク
ロロプレンゴム、アクリルゴム、イソプレン系合成ゴ
ム、環化ゴム等の天然高分子、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアクリルニトリル、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミド、ポリウレタン等の合成高分子などがある。こ
れらの樹脂を単独、混合又は共重合体として用いる。
セルロース、アセチルセルロース、エチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース等のセ
ルロース系高分子、天然ゴム、ポリブタジエンゴム、ク
ロロプレンゴム、アクリルゴム、イソプレン系合成ゴ
ム、環化ゴム等の天然高分子、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアクリルニトリル、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミド、ポリウレタン等の合成高分子などがある。こ
れらの樹脂を単独、混合又は共重合体として用いる。
【0046】溶剤としては、トルエン、キシレンテトラ
リン等の炭化水素系、メタノール、エタノール等のアル
コール系、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、エチレン
グリコール系、ジエチレングリコール系溶剤などが使用
できる。
リン等の炭化水素系、メタノール、エタノール等のアル
コール系、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、エチレン
グリコール系、ジエチレングリコール系溶剤などが使用
できる。
【0047】感光性モノマーとしては、メトキシポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−メト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
カルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート等のエーテル系、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フ
ェノキシポロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ
系、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソステリアル
(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,3−ブタジオールジ(メタ)アクリレ
ート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,
10−デカンブジオールジ(メタ)アクリレートエポキ
シアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステル
アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート系、プロピレン(メタ)アクリレート系、ビスフェ
ノール(メタ)アクリレート系、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート系、ペンタエリスリトール
(メタ)アクリレート系、ジペンタエリスリトール(メ
タ)アクリレート系 等その他にアミン系、ハロゲン
系、シリコーン系などの(メタ)アクリレート類があげ
られる。これらは、単独もしくは2種類以上を混合して
用いることができる。
チレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−メト
キシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
カルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート等のエーテル系、2−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フ
ェノキシポロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ
系、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソステリアル
(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,3−ブタジオールジ(メタ)アクリレ
ート、1,6−ヘキサジオールジ(メタ)アクリレー
ト、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,
10−デカンブジオールジ(メタ)アクリレートエポキ
シアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステル
アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート系、プロピレン(メタ)アクリレート系、ビスフェ
ノール(メタ)アクリレート系、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート系、ペンタエリスリトール
(メタ)アクリレート系、ジペンタエリスリトール(メ
タ)アクリレート系 等その他にアミン系、ハロゲン
系、シリコーン系などの(メタ)アクリレート類があげ
られる。これらは、単独もしくは2種類以上を混合して
用いることができる。
【0048】光重合開始剤としては、アセトフェノン、
2、2’−ジトキシアセトフェノン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メ
チル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロ
ピオフェノン、2−メチルチオキサントン、2−クロロ
チオキサントン等を用いることができる。これらは、単
独又は2種類以上を混合して用いることができる。
2、2’−ジトキシアセトフェノン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メ
チル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロ
ピオフェノン、2−メチルチオキサントン、2−クロロ
チオキサントン等を用いることができる。これらは、単
独又は2種類以上を混合して用いることができる。
【0049】その他に、添加剤としては、イソビタン脂
肪酸エステル、ベンゼンスルホン酸等の分散剤、ブチル
セテアレート、ブチルベンジルフタレート、ジブチルフ
タレート、ジイソデシルフタレート等の可塑剤、湿潤
剤、分散剤、重合禁止剤等を必要に応じて添加してよ
い。
肪酸エステル、ベンゼンスルホン酸等の分散剤、ブチル
セテアレート、ブチルベンジルフタレート、ジブチルフ
タレート、ジイソデシルフタレート等の可塑剤、湿潤
剤、分散剤、重合禁止剤等を必要に応じて添加してよ
い。
【0050】これらの材料をロールミル、ビーズミル、
自動乳鉢等の混合装置を用いて、ペーストに調合する。
自動乳鉢等の混合装置を用いて、ペーストに調合する。
【0051】次に、隔壁形成方法について実施の形態を
説明する。調合したペーストを用いて、隔壁の形成を行
う。隔壁の形成方法は、上述したように、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法、凹版や剥
離フィルムを利用した転写法による方法などがあるが、
どの方法を用いてもよい。それぞれの方法に適したペー
ストを調合し、上記に示した方法などによって隔壁パタ
ーンを基板上に形成する。隔壁パターン形成後、500
℃以上の高温で焼成を行うことによって、所望の形状を
持ったち密で形状安定性に優れた隔壁を有するプラズマ
ディスプレイの背面基板を形成することができる。
説明する。調合したペーストを用いて、隔壁の形成を行
う。隔壁の形成方法は、上述したように、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法、感光性ペースト法、凹版や剥
離フィルムを利用した転写法による方法などがあるが、
どの方法を用いてもよい。それぞれの方法に適したペー
ストを調合し、上記に示した方法などによって隔壁パタ
ーンを基板上に形成する。隔壁パターン形成後、500
℃以上の高温で焼成を行うことによって、所望の形状を
持ったち密で形状安定性に優れた隔壁を有するプラズマ
ディスプレイの背面基板を形成することができる。
【0052】以下に、凹版を使用した転写法などについ
て詳述する。
て詳述する。
【0053】凹版は隔壁の逆形状を有するものであり、
金属凹版、樹脂凹版等が使用でき、形状としてはシリン
ダー版や平版の状態で用いる。金属凹版の代表例として
は、凹版印刷に用いられているような銅版に彫刻や腐食
させたものがある。樹脂凹版としては、凹版の母型とな
る金属凸版に樹脂を充填して凹版を写し取る方法や、フ
ォトマスクを介して感光性樹脂を硬化、現像して凹版を
形成する方法がある。
金属凹版、樹脂凹版等が使用でき、形状としてはシリン
ダー版や平版の状態で用いる。金属凹版の代表例として
は、凹版印刷に用いられているような銅版に彫刻や腐食
させたものがある。樹脂凹版としては、凹版の母型とな
る金属凸版に樹脂を充填して凹版を写し取る方法や、フ
ォトマスクを介して感光性樹脂を硬化、現像して凹版を
形成する方法がある。
【0054】この凹版に、隔壁形成用ガラスペーストを
電極保護層(誘電体層)が同時に形成できるように充填
する。具体的には隔壁形成用ガラスペーストをドクター
ブレードコート、ロールプレス、平プレス、スクリーン
印刷、ロールコート等によって凹版11の溝に充填する
だけでなく、版上に均一な厚さの層を形成するようにす
る。それによって同時に凹版の頂部に電極保護層が形成
される。
電極保護層(誘電体層)が同時に形成できるように充填
する。具体的には隔壁形成用ガラスペーストをドクター
ブレードコート、ロールプレス、平プレス、スクリーン
印刷、ロールコート等によって凹版11の溝に充填する
だけでなく、版上に均一な厚さの層を形成するようにす
る。それによって同時に凹版の頂部に電極保護層が形成
される。
【0055】また、電極保護層の膜厚は薄すぎると電極
部分が露出し、電極保護層の役割を果たさなくなり、厚
すぎると基板焼成時に割れやひびの原因となる。
部分が露出し、電極保護層の役割を果たさなくなり、厚
すぎると基板焼成時に割れやひびの原因となる。
【0056】さらに、十分な反射率を得る為には電極保
護層の膜厚が5μm以上必要となる。また50μm以上
になるとアドレス電圧の上昇や正確なアドレスができな
くなる恐れがあり好ましくない。以上の理由から電極保
護層の膜厚は5〜50μmが好ましいが、特にアドレス
電圧を低くして、駆動回路の動作電圧をできるだけ下
げ、誘電体のコスト低下を考えると、20μm以下であ
ることがさらに好ましい。
護層の膜厚が5μm以上必要となる。また50μm以上
になるとアドレス電圧の上昇や正確なアドレスができな
くなる恐れがあり好ましくない。以上の理由から電極保
護層の膜厚は5〜50μmが好ましいが、特にアドレス
電圧を低くして、駆動回路の動作電圧をできるだけ下
げ、誘電体のコスト低下を考えると、20μm以下であ
ることがさらに好ましい。
【0057】つぎに、凹版に隔壁形成用ガラスペースト
を充填した後 、予め電極パターンを形成したガラス基
板に位置決めし、転写する。このとき、隔壁形成用ガラ
スペーストを硬化させてからガラス基板へ転写する方法
と、未硬化のままガラス基板と接触させ、その状態で隔
壁形成用ガラスペーストを硬化させる方法があり、いず
れかの方法を選択することができる。前者の転写方法に
おいては、隔壁形成用ガラスペーストとガラス基板の間
に接着剤や粘着剤等が必要である。後者の転写方法で
は、ガラス基板の上で硬化させるために接着剤や粘着剤
等は不要であるが、強度の向上を図るために接着剤や粘
着剤等を用いてもよい。
を充填した後 、予め電極パターンを形成したガラス基
板に位置決めし、転写する。このとき、隔壁形成用ガラ
スペーストを硬化させてからガラス基板へ転写する方法
と、未硬化のままガラス基板と接触させ、その状態で隔
壁形成用ガラスペーストを硬化させる方法があり、いず
れかの方法を選択することができる。前者の転写方法に
おいては、隔壁形成用ガラスペーストとガラス基板の間
に接着剤や粘着剤等が必要である。後者の転写方法で
は、ガラス基板の上で硬化させるために接着剤や粘着剤
等は不要であるが、強度の向上を図るために接着剤や粘
着剤等を用いてもよい。
【0058】そして、隔壁を転写したガラス基板を焼成
し、有機分を消失させ、ガラス分を焼き固めることによ
って、無機物の隔壁及び電極保護層を備えたプラズマデ
ィスプレイパネルの背面板を形成する。
し、有機分を消失させ、ガラス分を焼き固めることによ
って、無機物の隔壁及び電極保護層を備えたプラズマデ
ィスプレイパネルの背面板を形成する。
【0059】次に、背面基板と前面基板の両方からなる
プラズマディスプレイパネル全体について実施の形態を
説明する。
プラズマディスプレイパネル全体について実施の形態を
説明する。
【0060】プラズマディスプレイパネルの前面基板と
しては、現在、プラズマディスプレイパネルの前面基板
として公知の前面基板を採用することができる。さら
に、本発明のプラズマディスプレイの製造方法として、
現在、公知の方法(前面基板と背面基板を封着し放電空
間を形成し排気した後、放電ガスを封入する)を使用す
ることができる。
しては、現在、プラズマディスプレイパネルの前面基板
として公知の前面基板を採用することができる。さら
に、本発明のプラズマディスプレイの製造方法として、
現在、公知の方法(前面基板と背面基板を封着し放電空
間を形成し排気した後、放電ガスを封入する)を使用す
ることができる。
【0061】
【実施例】以下に、具体的な実施例により本発明を説明
する。なお、本発明は後述する実施例に何ら限定される
ものではない。
する。なお、本発明は後述する実施例に何ら限定される
ものではない。
【0062】<実施例1〜4>本実施例で使用する結晶
性ガラスフリット2種類と非結晶性ガラスフリット2種
類の計4種類を以下に示す。 (1)低軟化点型結晶性ガラスフリット PbO−ZnO−B2O3系、軟化点380℃、結晶化温
度430℃ (2)高軟化点型結晶性ガラスフリット PbO−ZnO−SiO2−B2O3系、軟化点500
℃、結晶化温度570℃ (3)低軟化点型非結晶性ガラスフリット PbO−B2O3−SiO2系、軟化点450℃ (4)高軟化点型非結晶性ガラスフリット PbO−B2O3−SiO2系、軟化点520℃なお、軟
化点及び結晶化温度は、DTAにより測定した。
性ガラスフリット2種類と非結晶性ガラスフリット2種
類の計4種類を以下に示す。 (1)低軟化点型結晶性ガラスフリット PbO−ZnO−B2O3系、軟化点380℃、結晶化温
度430℃ (2)高軟化点型結晶性ガラスフリット PbO−ZnO−SiO2−B2O3系、軟化点500
℃、結晶化温度570℃ (3)低軟化点型非結晶性ガラスフリット PbO−B2O3−SiO2系、軟化点450℃ (4)高軟化点型非結晶性ガラスフリット PbO−B2O3−SiO2系、軟化点520℃なお、軟
化点及び結晶化温度は、DTAにより測定した。
【0063】次に、これらガラスフリットと低膨張フィ
ラー、着色顔料、有機成分を3本ロールミルにて混練
し、ペースト化した。本実施例においては、隔壁の形成
方法はスクリーン印刷法と転写法による。したがって、
スクリーン印刷用と転写法用のペーストを2種類を作製
した。これらペーストを用いて、10cm角のソーダラ
イムガラス基板上に格子型隔壁パターン又は、ミアンダ
隔壁を有する基板の2種類を作製した。格子型隔壁パタ
ーンの形状は、隔壁幅60μm、ピッチは、ストライプ
方向が270μm、垂直方向のピッチが810μmであ
る。一方、ミアンダ隔壁の形状は、隔壁幅70μm、サ
ブピクセルピッチが360μmである。
ラー、着色顔料、有機成分を3本ロールミルにて混練
し、ペースト化した。本実施例においては、隔壁の形成
方法はスクリーン印刷法と転写法による。したがって、
スクリーン印刷用と転写法用のペーストを2種類を作製
した。これらペーストを用いて、10cm角のソーダラ
イムガラス基板上に格子型隔壁パターン又は、ミアンダ
隔壁を有する基板の2種類を作製した。格子型隔壁パタ
ーンの形状は、隔壁幅60μm、ピッチは、ストライプ
方向が270μm、垂直方向のピッチが810μmであ
る。一方、ミアンダ隔壁の形状は、隔壁幅70μm、サ
ブピクセルピッチが360μmである。
【0064】スクリーン印刷法による隔壁形成方法を以
下に示す。スクリーン印刷用のペースト組成は、以下に
示すとおりである。なお、ガラスフリットは上述の
(1)〜(4)の4種類を用いており、その配合比は、
表1に示す。
下に示す。スクリーン印刷用のペースト組成は、以下に
示すとおりである。なお、ガラスフリットは上述の
(1)〜(4)の4種類を用いており、その配合比は、
表1に示す。
【0065】作製したペーストを用いて、スクリーン印
刷、120℃にて15分の熱乾燥を8回から12回繰り
返すことによって、高さ170μmの隔壁を形成した。
これを最高焼成温度580℃で焼成を行うことによっ
て、隔壁を形成した。
刷、120℃にて15分の熱乾燥を8回から12回繰り
返すことによって、高さ170μmの隔壁を形成した。
これを最高焼成温度580℃で焼成を行うことによっ
て、隔壁を形成した。
【0066】次に転写法による隔壁形成方法を以下に示
す。転写法によるペースト組成は以下の通りである。こ
のペーストは感光性を有するものであり、紫外線によっ
てペーストを硬化する機能を有するペーストである。な
お、ガラスフリットは上述の(1)〜(4)の4種類を
用いており、その配合比は、表1に示す。 ガラスフリット 62重量部 チタン酸鉛 11重量部 チタニア 7重量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 9重量部 2ーヒドロキシプロピルアクリレート 6重量部 ベンゾフェノン 1重量部 ブチルカルビトールアセテート 4重量部
す。転写法によるペースト組成は以下の通りである。こ
のペーストは感光性を有するものであり、紫外線によっ
てペーストを硬化する機能を有するペーストである。な
お、ガラスフリットは上述の(1)〜(4)の4種類を
用いており、その配合比は、表1に示す。 ガラスフリット 62重量部 チタン酸鉛 11重量部 チタニア 7重量部 ジエチレングリコールジメタクリレート 9重量部 2ーヒドロキシプロピルアクリレート 6重量部 ベンゾフェノン 1重量部 ブチルカルビトールアセテート 4重量部
【0067】作製したペーストを、深さ170μmを有
するシリコーンゴム製の凹版にブレードコートにより埋
め込み、紫外線を2000mJ/cm2で照射した。次
に、粘着剤としてアクリル樹脂系粘着剤を厚さ5μmで
全面塗工したガラス基板上に、隔壁形成材料を充填した
凹版を位置決めして当てて、0.5MPaの圧力で平プ
レスを行った。その後、凹版を剥離して、最高焼成温度
580℃で焼成することによって、隔壁を有する基板を
得た。
するシリコーンゴム製の凹版にブレードコートにより埋
め込み、紫外線を2000mJ/cm2で照射した。次
に、粘着剤としてアクリル樹脂系粘着剤を厚さ5μmで
全面塗工したガラス基板上に、隔壁形成材料を充填した
凹版を位置決めして当てて、0.5MPaの圧力で平プ
レスを行った。その後、凹版を剥離して、最高焼成温度
580℃で焼成することによって、隔壁を有する基板を
得た。
【0068】こうして作製した隔壁を有する基板につい
て、ち密性と形状安定性の評価を行った。ち密性は、隔
壁の断面像を観察し、この像を画像処理し気孔率を測定
することによって評価した。ここでは、気孔率20%以
下の場合、ち密性が良好である(○)と評価した。形状
安定性は、図2に示した格子型構造の場合、切れや割れ
の発生を確認することによって評価した(切れ、割れの
発生がある場合は×、ない時に○とした。)。図3に示
したミアンダ隔壁については、切れや割れの評価と最も
隔壁の間隔が接近している部分の幅の広がり(図3のb
で示した部分)を測定することによって形状安定性の評
価を行った。この部分の広がりが焼成前の20%以内の
時、形状安定性の評価を良好とした。
て、ち密性と形状安定性の評価を行った。ち密性は、隔
壁の断面像を観察し、この像を画像処理し気孔率を測定
することによって評価した。ここでは、気孔率20%以
下の場合、ち密性が良好である(○)と評価した。形状
安定性は、図2に示した格子型構造の場合、切れや割れ
の発生を確認することによって評価した(切れ、割れの
発生がある場合は×、ない時に○とした。)。図3に示
したミアンダ隔壁については、切れや割れの評価と最も
隔壁の間隔が接近している部分の幅の広がり(図3のb
で示した部分)を測定することによって形状安定性の評
価を行った。この部分の広がりが焼成前の20%以内の
時、形状安定性の評価を良好とした。
【0069】表1に実施例1〜4、比較例1〜8におけ
る、使用したガラスフリットの配合比、隔壁作製方法、
及びその評価結果を示す。表1より明らかなように、本
発明の基板の実施例では、ち密性と形状安定性の両方が
優れている。
る、使用したガラスフリットの配合比、隔壁作製方法、
及びその評価結果を示す。表1より明らかなように、本
発明の基板の実施例では、ち密性と形状安定性の両方が
優れている。
【0070】<実施例5>実施例1で製造したプラズマ
ディスプレイパネルの背面基板(ミアンダ隔壁)と、前
面基板を一体化しパネル全体にする例について説明す
る。前面ガラス基板に第1の電極として表示電極をスク
リーン印刷法を用いて形成する。次にこの表示電極上に
誘電体ガラス層をスクリーン印刷にて形成し、さらに、
この誘電体ガラス層上に保護層として酸化マグネシウム
をスパッタリング法にて0.5μm形成し、前面基板を
形成する。
ディスプレイパネルの背面基板(ミアンダ隔壁)と、前
面基板を一体化しパネル全体にする例について説明す
る。前面ガラス基板に第1の電極として表示電極をスク
リーン印刷法を用いて形成する。次にこの表示電極上に
誘電体ガラス層をスクリーン印刷にて形成し、さらに、
この誘電体ガラス層上に保護層として酸化マグネシウム
をスパッタリング法にて0.5μm形成し、前面基板を
形成する。
【0071】次に、実施例1で作成した背面基板を用意
し、相隣り合うリブ間にR,G,B三色の蛍光体層を形
成し、次に、上記の前面基板と重ねて封着し、放電空間
を形成し排気した後、放電ガスを封入しパネル全体(図
4)として完成させた。隔壁のよれがないので、封着の
際の密着性が良好であった。
し、相隣り合うリブ間にR,G,B三色の蛍光体層を形
成し、次に、上記の前面基板と重ねて封着し、放電空間
を形成し排気した後、放電ガスを封入しパネル全体(図
4)として完成させた。隔壁のよれがないので、封着の
際の密着性が良好であった。
【0072】
【表1】
【0073】
【発明の効果】本発明による、プラズマディスプレイパ
ネルの背面基板は、隔壁形状が複雑化した場合に発生す
る、隔壁の切れや割れ、よれ、端部のはねあがりなどの
形状の崩れを改善することができる。更に、作製した隔
壁は、ち密であるのでプラズマディスプレイパネルの真
空排気工程において短時間でガス置換を行うことが可能
となる。以上のことより、形状安定性とち密性を兼ね備
えた隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの背面基
板を提供できる。さらに、上記の背面基板と前面基板を
はりあわせたプラズマディスプレイパネル全体を提供す
ることができる。さらに、上記特性を有する隔壁を形成
するために必要なプラズマディスプレイの隔壁形成用ガ
ラスペースト組成物を提供できる。また、本発明は、プ
ラズマディスプレイパネルだけでなくプラズマ液晶表示
装置(PALC)にも隔壁が必要であり、適用すること
ができる。
ネルの背面基板は、隔壁形状が複雑化した場合に発生す
る、隔壁の切れや割れ、よれ、端部のはねあがりなどの
形状の崩れを改善することができる。更に、作製した隔
壁は、ち密であるのでプラズマディスプレイパネルの真
空排気工程において短時間でガス置換を行うことが可能
となる。以上のことより、形状安定性とち密性を兼ね備
えた隔壁を有するプラズマディスプレイパネルの背面基
板を提供できる。さらに、上記の背面基板と前面基板を
はりあわせたプラズマディスプレイパネル全体を提供す
ることができる。さらに、上記特性を有する隔壁を形成
するために必要なプラズマディスプレイの隔壁形成用ガ
ラスペースト組成物を提供できる。また、本発明は、プ
ラズマディスプレイパネルだけでなくプラズマ液晶表示
装置(PALC)にも隔壁が必要であり、適用すること
ができる。
【図1】ストライプ構造の隔壁の形成例である。
【図2】格子型構造の隔壁の形成例である。
【図3】ミアンダ隔壁の形成例である。
【図4】前面基板と背面基板から構成されるプラズマデ
ィスプレイパネルの断面図である。
ィスプレイパネルの断面図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平10−114541(JP,A)
特開 平11−188630(JP,A)
特開 平10−92327(JP,A)
特開 平10−125236(JP,A)
特開2000−67742(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01J 9/02
H01J 11/02
C03C 8/24
Claims (15)
- 【請求項1】プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用
ガラスペースト組成物において、結晶性ガラスフリット
と非結晶性ガラスフリットの両方を含有し、かつ、前記
結晶性ガラスフリットの軟化点が前記非結晶性ガラスフ
リットの軟化点よりも低いことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物。 - 【請求項2】前記結晶性ガラスフリットの結晶化温度が
前記非結晶性ガラスフリットの軟化点よりも低いことを
特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネ
ルの隔壁形成用ガラスペースト組成物。 - 【請求項3】前記結晶性ガラスフリットの含有重量が前
記非結晶性ガラスフリットの含有重量の0.3〜4倍で
あることを特徴とする請求項1あるいは2のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラス
ペースト組成物。 - 【請求項4】プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用
ガラスペースト組成物において、少なくとも2種類以上
の結晶性ガラスフリットを含有し、そのうちの1種類の
結晶性ガラスフリットの軟化点と別のもう1種類の結晶
化ガラスの軟化点とが20℃以上差があるか、あるい
は、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの結晶化
温度と別のもう1種類の結晶性ガラスフリットの結晶化
温度とが20℃以上差があることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルの隔壁形成用ペースト組成物。 - 【請求項5】プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用
ガラスペースト組成物において、少なくとも2種類以上
の結晶性ガラスフリットを含有し、かつ、そのうちの1
種類の結晶性ガラスフリットの結晶化温度より、別のも
う1種類の結晶性ガラスフリットの軟化点が高いことを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガ
ラスペースト組成物。 - 【請求項6】プラズマディスプレイの背面基板におい
て、隔壁が、少なくとも結晶性ガラスフリットと非結晶
性ガラスフリットとの両方から形成されたものであり、
かつ、前記結晶性ガラスフリットの軟化点が前記非結晶
性ガラスフリットの軟化点よりも低いことを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの背面基板。 - 【請求項7】前記結晶性ガラスフリットの結晶化温度が
前記非結晶性ガラスフリットの軟化点よりも低いことを
特徴とする請求項6に記載のプラズマディスプレイパネ
ルの背面基板。 - 【請求項8】前記結晶性ガラスフリットの含有量が前記
非結晶性ガラスフリットの含有重量の0.3〜4倍であ
ることを特徴とする請求項6あるいは7のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネルの背面基板。 - 【請求項9】プラズマディスプレイパネルの背面基板に
おいて、隔壁が、少なくとも2種類以上の結晶性ガラス
フリットから形成されたものであり、そのうちの1種類
の結晶性ガラスフリットの軟化点と別のもう1種類の結
晶化ガラスの軟化点とが20℃以上差があるか、あるい
は、そのうちの1種類の結晶性ガラスフリットの結晶化
温度と別のもう1種類の結晶性ガラスフリットの結晶化
温度とが20℃以上差があることを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルの背面基板。 - 【請求項10】プラズマディスプレイパネルの背面基板
において、隔壁が、少なくとも2種類以上の結晶性ガラ
スフリットから形成されたものであり、かつ、そのうち
の1種類の結晶性ガラスフリットの結晶化温度より、別
のもう1種類の結晶性ガラスフリットの軟化点が高いこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルの背面基
板。 - 【請求項11】前記隔壁が、格子型あるいはミアンダ型
であることを特徴とする請求項6乃至10のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの背面基板。 - 【請求項12】プラズマディスプレイパネルの背面基板
の製造方法において、請求項1乃至5のいずれかに記載
のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペー
スト組成物を凹版に充填し、転写することにより隔壁を
形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の背面基板の製造方法。 - 【請求項13】前記隔壁が格子型あるいはミアンダ型で
あることを特徴とする請求項12に記載のプラズマディ
スプレイパネルの背面基板の製造方法。 - 【請求項14】前面基板と背面基板とから構成されるプ
ラズマディスプレイパネルにおいて、請求項6乃至11
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの背面
基板と前面基板とをはりあわせて作成したことを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項15】前面基板と背面基板とから構成されるプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法において、請求項
12あるいは13のいずれかに記載のプラズマディスプ
レイパネルの背面基板の製造方法により背面基板を製造
し、前面基板とをはりあわせることにより製造すること
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001129002A JP3384400B2 (ja) | 2000-05-25 | 2001-04-26 | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物、プラズマディスプレイパネルの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000154663 | 2000-05-25 | ||
JP2000-154663 | 2000-05-25 | ||
JP2001129002A JP3384400B2 (ja) | 2000-05-25 | 2001-04-26 | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物、プラズマディスプレイパネルの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002050280A JP2002050280A (ja) | 2002-02-15 |
JP3384400B2 true JP3384400B2 (ja) | 2003-03-10 |
Family
ID=26592587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001129002A Expired - Fee Related JP3384400B2 (ja) | 2000-05-25 | 2001-04-26 | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成用ガラスペースト組成物、プラズマディスプレイパネルの背面基板及びその製造方法、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3384400B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4765179B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2011-09-07 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスペースト |
KR100497763B1 (ko) * | 2002-08-02 | 2005-08-03 | 일동화학 주식회사 | 퓸드 실리카 입자로 표면 처리된 격벽 분말을 포함하는감광성 격벽 페이스트 조성물 및 그의 제조방법, 그리고그를 사용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법 |
JP4797465B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2011-10-19 | 東レ株式会社 | パネルディスプレイ部材の製造方法 |
-
2001
- 2001-04-26 JP JP2001129002A patent/JP3384400B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2002050280A (ja) | 2002-02-15 |
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