JP4775806B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
凸部の幅 :95nm
凹部の幅 :55nm
凹凸 段差 :20nm
Arガス圧 :0.3Pa
バイアスパワー :250W
ガス圧 :0.05Pa
ビーム電圧 :500V
ビーム電流 :500mA
サプレッサー電圧 :400V
イオンビーム入射角:30°
最大高さRmax :5.55nm
平均段差 :1.0nm
混合ガス中のArガスの流量比率:0%
ガス圧 :0.05Pa
ビーム電圧 :500V
ビーム電流 :500mA
サプレッサー電圧 :400V
イオンビーム入射角 :90°
混合ガス中のArガスの流量比率 :約85%
ガス圧 :0.05Pa
ビーム電圧 :500V
ビーム電流 :500mA
サプレッサー電圧 :400V
イオンビーム入射角 :90°
最大高さRmax :4.19nm
平均段差 :0.0nm
上記実施例1に対し、前段平坦化工程(S106)を省略し、後段平坦化工程(S108)で非磁性材36を記録層32の上面まで除去した。尚、後段平坦化工程(S108)の条件は上記実施例1と同様に設定した。後段平坦化工程(S108)に要した時間は約9分30秒だった。
最大高さRmax :5.87nm
平均段差 :1.2nm
上記実施例1に対し、後段平坦化工程(S108)を省略し、前段平坦化工程(S106)で非磁性材36を記録層32の上面まで除去した。尚、前段平坦化工程(S106)の条件は上記実施例1と同様に設定した。
最大高さRmax :9.28nm
平均段差 :2.8nm
12…ガラス基板
14…下地層
16…軟磁性層
18…配向層
20…連続記録層
22…第1のマスク層
24…第2のマスク層
26…レジスト層
30…磁気記録媒体
32…記録層
32A…記録要素
34…凹部
36…非磁性材
38…保護層
40…潤滑層
S102…記録層加工工程
S104…非磁性材充填工程
S106…前段平坦化工程
S108…後段平坦化工程
S110…保護層形成工程
S112…潤滑層形成工程
Claims (4)
- 基板上に所定の凹凸パターンで形成された記録層上に非磁性材を成膜することにより前記凹凸パターンの凹部を充填する非磁性材充填工程と、前記記録層上の余剰の前記非磁性材をドライエッチングにより除去して表面を平坦化する平坦化工程と、前記非磁性材及び前記記録層の上に保護層を形成する保護層形成工程と、を含み、該平坦化工程は、前段平坦化工程と、仕上げのための後段平坦化工程と、に分割され、前記前段平坦化工程及び前記後段平坦化工程の各工程に要する時間の方が、これらを合計した時間よりも、前記平坦化工程の前工程である前記非磁性材充填工程に要する時間に近く、且つ、前記前段平坦化工程及び前記後段平坦化工程の各工程に要する時間の方が、これらを合計した時間よりも、前記平坦化工程の後工程である前記保護層形成工程に要する時間に近いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1において、
前記平坦化工程において前記ドライエッチングの加工用ガスとして希ガス及びハロゲン系ガスの混合ガスを用いて前記凹部に前記非磁性材が残存するように前記余剰の前記非磁性材を除去し、前記加工用ガス中の前記ハロゲン系ガスの流量の比率を前記前段平坦化工程において前記後段平坦化工程におけるよりも高く設定し、前記前段平坦化工程における前記非磁性材のエッチングレートが前記後段平坦化工程における前記非磁性材のエッチングレートよりも高いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項2において、
前記記録層はCoCr合金であり、前記非磁性材は二酸化ケイ素であり、前記希ガスはアルゴンガスであり、前記前段平坦化工程において前記加工用ガス中の前記アルゴンガスの流量の比率を0〜70%の範囲に設定し、前記後段平坦化工程において前記加工用ガス中の前記アルゴンガスの流量の比率を75〜90%の範囲に設定し、前記前段平坦化工程における前記非磁性材のエッチングレートを前記記録層のエッチングレートで除した値よりも前記後段平坦化工程における前記非磁性材のエッチングレートを前記記録層のエッチングレートで除した値が1に近いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項3において、
前記ハロゲン系ガスは6フッ化エタンであることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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