JPH0997418A

JPH0997418A - 磁気ディスク用基板およびその製造方法

Info

Publication number: JPH0997418A
Application number: JP25336195A
Authority: JP
Inventors: Yuzo Yamamoto; 裕三山本; Yuhei Tosaka; 雄平登坂
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1995-09-29
Filing date: 1995-09-29
Publication date: 1997-04-08

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの低浮上量化を実現でき、かつＣ
ＳＳ耐久性に優れている磁気ディスクを製造できる基板
を提供する。【解決手段】磁気ディスク用の基板表面に、エッチン
グ、研磨等の適当な方法により円環状凹部を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク用の
非磁性基板およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ハードディスクドライブに用いら
れる磁気ディスクにおいては、ディスク上の任意の位置
で磁気ヘッドが停止、起動するいわゆるコンタクト・ス
タート・ストップ（以下、ＣＳＳと表記する）方式が採
用されていたが、この方式では停止、起動時に磁気ヘッ
ドとディスクが摺動するため、ディスクに損傷が生じた
りデータが破壊されたりする等の問題が生じていた。そ
のため、今日では、磁気ディスク上に、磁気ヘッドがＣ
ＳＳを行なう領域（以下、ＣＳＳ領域と表記する）、デ
ータが磁気記録され磁気ヘッドが摺動動作を行なわない
データ領域とを形成してデータの破壊や磁気ディスクの
機械的損傷を防ぐ方式が主流となっている。

【０００３】この方式では、磁気ヘッド浮上量をより少
なくして高密度記録を達成するためにデータ領域の表面
はできるだけ平滑にされる。一方、ＣＳＳ領域は、磁気
ヘッドが着脱するという機能から、磁気ヘッドのより速
い離脱や、ヘッドの停泊時の液体成分（潤滑剤や水分
等）の凝集を防止することが必要であり、そのため一般
にＣＳＳ領域を適当な方法で粗面化して、その表面粗さ
をデータ領域の表面粗さよりも粗くすることが行なわれ
ている。このような粗面化は、一般にテクスチャーと呼
ばれる各種の方法により対象とする表面に突起を形成し
て行なわれる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にＣＳＳ領域の表面粗さを、より粗くすることにより、
ＣＳＳ領域にはデータ領域よりも高い突起が多数形成さ
れる。そのような突起の存在は、今日要求される磁気ヘ
ッドの低浮上量化には大きな障害となる。すなわち、磁
気ヘッドがＣＳＳゾーンで摺動し、浮上してデータゾー
ンに移動する際の磁気ディスク表面形状の差によって生
ずる磁気ヘッドの浮上姿勢の乱れが磁気ディスクと磁気
ヘッドの高速度での接触を引起し、その結果、磁気ヘッ
ドの損傷、磁気ディスクのクラッシュ、デジタルデータ
のバースト的な破壊等が生ずる。

【０００５】ＣＳＳゾーンの突起を研磨等により低くす
る方法も考えられるが、この場合、突起上部の表面積が
大きくなってしまうので、磁気ヘッドとの接触面積も大
きくなり、停止時から作動する際の摩擦係数も増大し消
費電力が大きくなり、またＣＳＳ領域の寿命が短くな
り、いわゆるＣＳＳ耐久性の低下をもたらす。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の点
に鑑み、さらに磁気ヘッドの浮上安定性を改良すべく鋭
意研究した結果、磁気ディスクを形成する基板のＣＳＳ
領域となる部分を一旦掘り下げることにより、テクスチ
ャー処理を施しても磁気ヘッドが起動・停泊時に突起に
衝突せずＣＳＳ耐久性が向上し、磁気ヘッドの超低浮上
量を実現できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００７】すなわち本発明は、ＣＳＳ領域とデータ領
域とを有する磁気ディスク用の基板であって、前記ＣＳ
Ｓ領域となる部分が前記基板表面に形成された円環状凹
部であることを特徴とする磁気ディスク用基板を提供す
るものである。かかる磁気ディスク用基板は、基板表面
の一部を円環状に掘り下げて該基板表面に円環状凹部を
形成する工程を含む製造方法により製造することができ
る。

【０００８】本発明の基板は、ＣＳＳ領域とデータ領域
とを有する磁気ディスク用の基板として特に有用であ
る。本発明においてＣＳＳ領域とは、主として磁気記録
媒体の停止時に磁気ヘッドとの接触が生じる領域であ
り、データ領域とは磁気記録媒体の停止時・起動時に磁
気ヘッドとの接触が生じず、主として磁気記録を行なう
領域であるが、ＣＳＳ領域は必要に応じて磁気記録を行
なう領域として使用することもできる。

【０００９】本発明において用いられる基板は、通常の
磁気ディスク等に用いられる非磁性支持体であり、たと
えば、ガラス状カーボン材料等のカーボン、強化ガラ
ス、結晶化ガラス、アルミニウムおよびアルミニウム合
金、チタンおよびチタン合金、セラミックス、樹脂、あ
るいはこれらの複合材料からなる基板が用いられる。

【００１０】これらのなかでも、ガラス状カーボン材料
製の基板は、耐熱性、軽量性等の点において特に優れた
ものであり、本発明において特に好ましく用いることが
できる。ここで、「ガラス状カーボン材料」とは、ガラ
ス状カーボン単体だけでなく、ガラス状カーボンを母材
とする複合材料を含むものとする。

【００１１】また、本発明では、ガラス状カーボン材料
の集合体、ガラス状カーボン材料と合成樹脂および／ま
たは炭素質フィラーを含有する複合材料集合体を使用す
ることもできる。これらは、注型、圧縮、押出し等の広
く知られた各種成型法により成型し、これを乾燥、硬化
後、高温で炭素化された形態、または基体表面にスパッ
タリング法や蒸着法等で直接ガラス状カーボン材料を析
出させた析出体の形態をなすものであり、具体的には、
特開昭６０−３５３３３号に記載された材料を使用する
のが好ましい。

【００１２】本発明のディスク用基板は、空孔の数がで
きるだけ少ないガラス状カーボン材料集合体、または、
ガラス状カーボン材料を含む複合材料集合体によって製
作されることが好ましいが、このような集合体を得るた
めには、注型法による場合はたとえばカーボン材料の前
駆体（熱硬化性樹脂を硬化剤あるいは熱で硬化させた状
態のもの）を得る段階において、硬化剤を均一に分散さ
せ、あるいは均一に加熱し、かつ硬化速度があまり速く
ならないように調整する。また圧縮あるいは押出し成型
法の場合は、たとえばカーボン材料あるいは上記複合材
料を熱硬化性樹脂で濡らして空隙を極力減少させて成型
することにより得られる。

【００１３】さらに、ガラス質炭素に超高温ＨＩＰ（熱
間静水圧加圧）処理等を施すことにより、気孔を殆ど消
失させて密度を高くし、その特性をグラファイトに近づ
けた高密度アモルファスカーボンを用いることもでき、
具体的には特開平１−２３０４７１号等に記載されたガ
ラス状カーボンを使用することができる。

【００１４】一般に磁気ディスク用の基板の製造工程
は、例えばカーボン基板の場合、原料樹脂の混合、成
型、ラッピング、焼成、仕上げ研磨などの工程を適宜組
み合わせてなる。本発明の製造方法も成型後の基板表面
にＣＳＳ領域となる円環状凹部を形成する以外の工程は
公知の方法に準じて行なわれるが、円環状凹部の形成は
仕上げ研磨の前に行なうことが望ましい。基板に円環状
凹部を形成する方法は限定されないが、固定砥粒ホイー
ルを用いた研削、電解エッチングなどにより行なうこと
ができる。具体的には、固定砥粒ホイールを用いた研削
は、砥粒を樹脂やガラス質、金属バインダーで固定した
固定砥粒砥石を使った延性モード研削により行うのが好
ましい。基板表面に研削する際に、研削に用いる砥石の
設定切り込み深さを０．０５〜２０μｍとして砥石中に
ある個々の砥粒の切り込み深さをその基板の延性−脆性
遷移点以下に保ちつつ平面研削機を用いて研削を行う。

【００１５】ここで、「延性モード加工」とは、脆性材
料においてもクラックの発生を伴わない塑性流動的な除
去加工、即ち脆性破壊（破砕）ではなく材料の無損傷を
特徴とする研削加工を意味する。かかる加工技術は、材
料への個々の砥粒の切り込み深さを常に延性−脆性遷移
点以下に保つことにより達成される。このことを達成す
る手段としては特に限定されるものではなく、通常公知
の方法を用いることができる。

【００１６】したがって、本発明に用いられる研削装置
としては、上記の諸条件を満たすものであれば特に限定
されるものではない。具体的には、例えば、 (株) 日進
機械製作所製超精密平面研削装置（ＨＰＧ−２Ａ）、
(株) 不二越製ロータリー平面研削盤（ＨＳＧ−１０
Ａ、ＲＧＳ−２０Ｎ）、芝技研製加工機ＳＧ−Ｔ等が挙
げられる。

【００１７】また、研削に用いられる固定砥粒（ホイー
ル）は特に限定されるものではなく、通常用いられるス
トレートホイール、カップホイール等公知のものが用い
られるが、基板材料、中間研削の程度、加工しろ（砥石
の設定切り込み深さ）により砥粒の種類、および形、粒
度、ボンド剤、ホイール形状が違ってくるため一概には
言えない。例えば上記研削装置（ＨＰＧ−２Ａ）を用
い、基板がカーボン基板、中間研削の程度がＲａ１００
ｎｍ、加工しろ２０μｍ／片面の場合、砥粒には工業用
ダイヤモンド砥粒を用い（砥粒の平均粒径は１〜５μ
ｍ、より好ましくは１〜２．５μｍ）、ボンド剤はメタ
ル等が用いられる。ＥＬＩＤ（電解インプロセスドレッ
シング）法を用いる場合には、ボンド剤は、Ｆｅ（鋳鉄
など）、Ｃｕ、Ｎｉ等の単体もしくはこれらの一種以上
を含む合金を用いることが好ましい。また、この場合の
他の条件、例えば砥石周速度、送り速度、ワークテーブ
ル回転数等、については特に限定されるものではなく、
通常用いられる公知の程度でよい。

【００１８】さらに、研削をＥＬＩＤを用いて延性モー
ド加工で行うことにより、より高精度で高能率な研削を
行うことができる。具体的には、例えば研削装置におい
て、固定砥粒をメタルボンドホイール（ストレートホイ
ールの外周上に砥粒をメタルバインダーで固定させたも
の）とし、電極をホイール外周の一部を覆うように設置
し、電解質を含んだ水溶液クーラントをホイール外周表
面／被加工基板間に供給し、ホイール側にプラスの電場
を印加し、基板とホイールの双方を回転させながら研削
することによりＥＬＩＤ型延性加工が達成できる。電解
により金属バインダーが溶け出し、研削しながら同時に
目だてが行われるので、目詰まりすることがなく、常に
ホイールの切れ味が維持される。

【００１９】また、電解エッチングは、基板の凹部とな
る部分以外にホトレジスト等で電気絶縁性のマスキング
を施し、アルカリ又は酸等の電解質溶液中で基板を陽極
とし電解することにより達成される。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の磁気ディスク用基板の製
造方法について、カーボン基板の場合を例に説明する。
まず、原料となる熱硬化性樹脂、各種添加剤、溶剤など
を混合し、これを所望の型に注入し、加熱下で硬化させ
る。次いでこれをドーナツ状に加工した後、更に昇温し
つつ加熱し、真空中で加熱焼成した後、冷却する。つい
で、チャンファーリング（面取り加工）を施す。そして
前記したような適当な方法により基板に円環状凹部を形
成し、その後仕上げ研磨を行って製品とする。基板がそ
の他の材質、例えばアルミニウムおよびアルミニウム合
金などの金属やガラスなどからなる場合でも、ドーナツ
状に成型された後、適当な時期に円環状凹部を形成する
工程を導入すればよい。

【００２１】本発明の磁気ディスク用基板の一例を図１
に示した。図１（ａ）は本発明の磁気ディスクの平面略
示図、（ｂ）はそのＡ−Ａ線断面略示図である。この基
板には円形の凹部２がディスクの内周に形成されてい
る。また図２はその円環状凹部の拡大略示図である。基
板１はＣＳＳ領域となる部分が掘り下げられており、凹
部２が形成されている。

【００２２】また、図３に本発明の基板の他の例を示
す。図３の基板は環状のＣＳＳ領域を有する磁気ディス
ク用のものであり、環状の凹部２が基板の内周に形成さ
れている。

【００２３】磁気ディスクを製造する際には、図２
（ｂ）に示すように凹部２にテクスチャー処理が施され
る。すわなち、凹部２に、パウダービームテクスチャ
ー、スパッタテクスチャー、テープテクスチャー等の適
当なテクスチャー処理を施すことにより、図２（ｂ）に
示すように、基板表面の粗面化された部分の中心線平均
高さ（Ｒｐ）は平滑な部分のＲｐとほぼ同じかそれ以下
となり、ＣＳＳ時の磁気ヘッドの浮上特性が向上する。

【００２４】なお、テクスチャー処理の基板のＣＳＳ領
域のＲｐは１０〜５００Åが好ましく、さらに好ましく
は１００〜３００Åである。また、基板のデータ領域に
も適当のテクスチャー方法を施すことができるが、鏡面
加工された状態が好ましく、Ｒｐは１０〜５０Å程度と
することが好ましい。また、テクスチャー後の基板のＣ
ＳＳ領域のＲａは１０〜３０Å、データ領域のＲａは１
〜１０Åが好ましい。

【００２５】テクスチャー後のＣＳＳ領域の中心線平均
高さ（Ｒｐ）をデータ領域の中心線平均高さと同じかも
しくは低くい方がよい。その高低差は２００Å以下が好
ましく、更に好ましくは１００Å以下であるとヘッドの
浮上安定性が良くなるので好ましい。

【００２６】また、磁気ディスクの磁性層、保護層、潤
滑層等は常法により適宜形成される。

【００２７】磁性層としては、たとえば、ＰＶＤ手段に
より形成された金属薄膜型の磁性層を挙げることができ
る。該金属薄膜型の磁性層を形成する材料としては、た
とえばＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒＸ、ＣｏＮｉＸ、
ＣｏＷＸ、ＣｏＳｍ、ＣｏＳｍＸ（ここで、Ｘは、Ｔ
ａ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｂ、
Ｃａ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａ
ｇ、ＳｂおよびＨｆ等からなる群より選ばれる１種また
は２種以上を示す）等で表されるＣｏを主成分とするＣ
ｏ系の磁性合金等を好ましく挙げることができ、使用に
際しては、単独または２種以上の混合物として用いるこ
とができる。上記磁性層の膜厚は、２０〜５０ｎｍであ
るのが好ましい。

【００２８】金属薄膜型の磁性層を有する記録媒体で
は、磁性層を保護する観点から、磁性層上に保護層を設
けることが一般的に行われている。この保護層は、耐磨
耗性の観点から硬度の高いものが選ばれる。たとえば、
Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ
等の金属の酸化物、窒化物、炭化物、あるいはカーボン
やボロンナイトライド等が挙げられる。この他にも、た
とえば特開平５−２１７１５４号公報、特開平５−２１
７１５６号公報、特開平５−２２５５５５号公報、特開
平５−２２５５５７号公報、特開平５−２８２６６１号
公報、特開平６−２５８４０号公報、特願平４−２６８
９５２号明細書、特願平５−１７２０号明細書、特願平
５−２１７１５６号明細書、特願平５−４０１４２号明
細書に開示されているものを用いることが出来る。なか
でも好ましいものは炭素、炭化ケイ素、炭化タングステ
ン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、ある
いはこれらの材料の複合されたものである。特に好まし
いものはカーボン、特にダイヤモンドライクカーボンで
ある。この保護層は、厚さが５〜２５ｎｍが好ましい。
保護層は、スパッタ等のＰＶＤ手段により形成できる。

【００２９】また、走行性を向上させるために、磁性層
上或いは保護層上には、たとえば厚さが５〜１００Å、
好ましくは１０〜５０Å程度の潤滑剤層を設けてもよ
い。潤滑剤としては、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持
たない潤滑剤とを単独で用いてもよいが併用することが
好ましい。たとえば、極性基を持つ潤滑剤溶液を塗布し
た後、末端に極性基を持たない潤滑剤溶液を塗布した
り、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持たない潤滑剤との
混合溶液を塗布し、主として保護層側に近い下層側に極
性基を持つ潤滑剤を、上層側に極性基を持たない潤滑剤
を存在させるようにしても良い。用いられる極性基を持
つ潤滑剤は、分子量が２０００〜４０００のパーフロロ
ポリエーテル系のものであり、末端に芳香族環を持つも
のが好ましい。即ち、−(ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ)_n−(ＣＦ₂Ｏ)_m
−の骨格を有し、末端に芳香族環を持ち、分子量が２０
００〜４０００であるものが好ましい。具体例として
は、フォンブリンＡＭ２００１（モンテカチーニ社製）
やデムナムＳＰ（ダイキン工業社製）等が挙げられる。
極性基を持たない潤滑剤は、分子量が２０００〜１００
００のパーフロロポリエーテル系のものが好ましい。す
なわち、ＣＦ₃−(ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ)_n−(ＣＦ₂Ｏ)_m−ＣＦ₃
で表され、分子量が２０００〜１００００のものが好ま
しい。具体例としては、フォブリンＺ０３（モンテカチ
ーニ社製）等が挙げられる。塗布方法は限定されず、通
常用いられるディップコート法やスピンコート法が挙げ
られる。

【００３０】また、潤滑剤層は、気相重合により形成す
ることもできる。具体的には、フッ化炭素系化合物の気
相重合によって潤滑剤を合成し、これを垂直方向に立て
た、あるいは水平方向に寝かせた被析出物体の表面に析
出させることによって潤滑剤層が形成される。つまり、
気相で重合したフッ素系化合物（潤滑剤組成物）は拡散
により表面に到達して付着し、フッ素系化合物中に残存
しているラジカル等で表面と反応し、固定される。これ
によって潤滑剤層が形成される。そして、この重合反応
は気相中で進行するので、ディスク表面の不均一性に左
右されず、又、表面凝縮を促進させる為にディスクを冷
却する必要がなく、生産性にも優れている。気相重合
は、たとえば、プラズマ重合やＣＶＤ（特に、光ＣＶ
Ｄ）によって行われる。光ＣＶＤで行う場合、レーザ光
を被析出物体表面には直接照射せず、原料ガス中にのみ
照射して行うのがよい。

【００３１】最終的に得られた磁気ディスクは、テクス
チャーの形状が反映されるので、ＣＳＳ領域のＲｐはデ
ータ領域のＲｐと同じかそれ以下となる。具体的には、
最終的に得られた磁気ディスクは、ＣＳＳ領域のＲａが
１０〜５０Åであるのが好ましく、特に好ましくは１５
〜３０Åである。またＣＳＳ領域のＲｐは１０〜５００
Åであるのが好ましく、特に好ましくは１００〜３００
Åである。一方、最終的に得られた本発明の磁気ディス
クは、データ領域のＲａが１〜１０Å、Ｒｐが１０〜５
０Åであるのが好ましい。

【００３２】

【発明の効果】本発明の磁気ディスク用基板によれば、
磁気ヘッドの姿勢乱れの少ない極めて信頼性の高い磁気
ディスク得ることができる。

【００３３】

【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。

【００３４】実施例１ (1) 電解エッチングによる環状凹部の形成常法により得られたガラス状カーボン基板（サイズ：
２．５インチ、２５ミル、比重１．５）に、電解エッチ
ングにより段差加工を施した。即ち、基板のデータ領域
となる部分にＰＶＡ−重クロム酸アンモニウム系ホトレ
ジストによりマスキングを施し、１０％ＮａＯＨ水溶液
中で陽極酸化（５０ｍＡ／ｃｍ²の陽極電圧）を行い、
マスキングされていないＣＳＳとなる部分に幅（図４
（ａ）中のｂ）２．８ｍｍ、深さ（図４（ａ）中のａ）
２５ｎｍの環状凹部２を設けた。これにより図３に示す
ような基板を得た。 (2) パウダービームによるテクスチャー工程次いで、この円環状凹部２に対して微小粒子（平均粒径
１．０μｍのアルミナ）を噴射してパウダービームテク
スチャーを行なった。テクスチャー後のＣＳＳ領域およ
びデータ領域のＲａ、Ｒｐを表１に示す。Ｒａ、Ｒｐは
触針式粗さ計（ＴＥＮＣＯＲ社製、型式Ｐ２）により、
下記の条件で測定した。触針径：０．６μｍ（針曲率半径）触針押し付け圧力：７ｍｇ測定長：２５０μｍ×８ヶ所トレース速度：２．５μｍ／秒カットオフ：１．２５μｍ（ローパスフィルタ） (3) 成膜工程テクスチャー処理を終えた後、基板上に、スパッタによ
りＴｉ膜（５０ｎｍ）、Ｃｒ膜（４０ｎｍ）、ＣｏＣｒ
ＰｔＢ膜（３０ｎｍ）、Ｃ膜（１５ｎｍ）を順次成膜
し、更に潤滑剤〔フォンブリンＡＭ２００１（アオジモ
ント社製）〕を２ｎｍの膜厚になるように塗布した。ス
パッタ条件は以下の通りである。・真空中Ａｒガス圧５ｍＴｏｒｒ・基板温度２４０℃ ・基板バイアス電圧−１００Ｖ (4) 特性評価得られた磁気ディスクについて、ＣＳＳテストおよびグ
ライドハイトテスト（ＧＨＴ）を以下の方法により行な
った。その結果も表１に示す。＊ＣＳＳテスト；ヤマハ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッ
ド荷重３．５ｇ、ヘッド浮上量２．８μインチ、４５０
０ｒｐｍで５秒間稼働、５秒間停止のサイクルを繰り返
して行い、その際の静摩擦係数（μｓ）が０．６になる
までの回数を調べた。なお、ＣＳＳテストはディスクを
円とみなした場合の中心から１２ｍｍの位置で行なっ
た。＊ＧＨＴ；ＰＲＯＱＵＩＰ社製テスターを用い、５０％
スライダヘッドを用いて行った。サンプル基板を１０枚
用い、０．０２５μｍの浮上高さの通過率により、以下
ように評価した。Ｓ：通過率が９０％以上Ａ：通過率が５０％以上〜９０％未満Ｂ：通過率が３０％以上〜５０％未満Ｃ：通過率が３０％未満。

【００３５】実施例２実施例１において、環状凹部の形成を下記条件による固
定砥粒研削により行い、テクスチャー処理を下記条件に
よるスパッタテクスチャーにより行なった。その他の工
程は実施例１と同様として磁気ディスクを製造し、実施
例１と同様の特性評価を行なった。 (i) 固定砥粒研削（ストレートホイール）による凹部形
成 (株) 日進機械製作所製、超精密横型平面研削装置（Ｈ
ＰＧ−２Ａ）を用い、＃８０００のダイヤモンドストレ
ートホイール（新東ブレータ (株) 製、鉄ボンド砥石、
ＳＤ８０００Ｎ１００ＦＸ３、３ｍｍ幅）を用い、基板
を回転させ、かつホイールも回転させながら基板表面に
対し垂直に接触させて内周部の３ｍｍ幅につき、深さ３
００Åの加工を行った。加工深さは前記と同じ粗さ計に
より測定した。

【００３６】(ii)スパッタテクスチャー基板をスパッタ装置内にセットした後、チャンバー内を
排気し、３×１０^-7の真空度とし、次いでＡｒガスを導
入して５ｍＴｏｒｒとした。この後、基板をヒーターに
より２００℃まで加熱して、基板にバイアス電圧−１０
０Ｖを印加して下記の層をこの順で形成した。・Ｔｉ層（５０ｎｍ）・ＡｌＳｉ(Ａｌ：Ｓｉ＝９０：１０原子比)層(３０ｎ
ｍ)(テクスチャー層) ・Ｃ層（２０ｎｍ）。

【００３７】実施例３実施例１において、環状凹部の形成を下記条件による固
定砥粒研削により行い、テクスチャー処理を下記条件に
よるテープテクスチャーにより行なった。その他の工程
は実施例１と同様として磁気ディスクを製造し、実施例
１と同様の特性評価を行なった。 (i) 固定砥粒研削（カップホイール）による凹部形成 (株) 不二越製、ロータリー平面研削盤ＨＳＧ−１０Ａ
を用い、＃４０００ダイヤモンドカップホイール（新東
ブレータ (株) 製、ＳＤ４０００Ｎ１００ＦＸ３、ホイ
ール幅２ｍｍ）を用いる、ストレートホイールと同様に
ホイールを基板平面に対し垂直に接触させて内周部の３
ｍｍ幅につき、深さ３００Åの加工を行った。加工深さ
は前記と同じ粗さ計により測定した。

【００３８】(ii)テープテクスチャー下記条件にてテープテクスチャーを行なった。＜テープテクスチャー条件＞・テープ：日本ミクロコーティング社製＃４０００〜
＃８０００・テープ送り速度：３００〜５００ｍｍ／分・圧子荷重：２〜３ｋｇ／ｃｍ² ・基板回転速度：４０〜１００ｒｐｍ・テープ揺動：２００〜５００往復／分、揺動巾１ｍｍ・圧子硬度：ショア硬度６０度、凸部形状を有するシリ
コンゴムを使用・加工時間：２０秒。

【００３９】実施例４実施例１において、磁気ディスク用基板として強化ガラ
ス基板（２．５インチ、２５ミル）を用いた以外は実施
例１と同様として磁気ディスクを製造し、実施例１と同
様の特性評価を行なった。比較例１実施例１において、基板に円環状凹部を形成せずに基板
全体にテープテクスチャー（条件は実施例３と同じ）を
施してディスク基板を作製し、実施例２と同様に磁気デ
ィスクを作製し、磁気ディスクのＣＳＳ領域およびデー
タ領域のＲａ、Ｒｐ、ＧＨＴ、ＣＳＳを評価した。その
結果を表１に示す。

【００４０】比較例２比較例１で作製した基板のＣＳＳ領域の突起を、下記条
件の研磨により削り、突起高さを揃えたディスク基板を
作製し、実施例１と同様に基板のＣＳＳ領域およびデー
タ領域のＲａ、Ｒｐ、ＧＨＴ、ＣＳＳを評価した。その
結果を表１に示す。＜研磨条件＞・テープ：日本ミクロコーティング社製＃６０００〜
＃１００００・テープ送り速度：３００〜５００ｍｍ／分・圧子荷重：２〜３ｋｇ／ｃｍ² ・基板回転速度：４０〜１００ｒｐｍ・テープ揺動速度：２００〜５００往復／分・圧子硬度：ショア硬度６０度・加工時間：１５秒〜１５０秒

【００４１】

【表１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ディスク用基板の一例を示す略示
図である。

【図２】本発明の磁気ディスク基板の凹部の拡大略示図
である。

【図３】本発明の磁気ディスク用基板の他の例を示す略
示図である。

【図４】図３の磁気ディスク基板の凹部の拡大略示図で
ある。

【符号の説明】

１：基板２：円環状凹部３：テクスチャー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ＣＳＳ領域とデータ領域とを有する磁気
ディスク用の基板であって、前記ＣＳＳ領域となる部分
が前記基板表面に形成された円環状凹部であることを特
徴とする磁気ディスク用基板。
【請求項２】前記基板がカーボンからなる請求項１記
載の磁気ディスク用基板。
【請求項３】磁気ディスク用の基板の表面の一部を円
環状に掘り下げて該基板表面に円環状凹部を形成する工
程を含むことを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方
法。
【請求項４】前記円環状凹部の形成を固定砥粒ホイー
ルを用いた研磨により行なう請求項３記載の磁気ディス
ク用基板の製造方法。
【請求項５】前記円環状凹部の形成を電解エッチング
により行なう請求項３記載の磁気ディスク用基板の製造
方法。
【請求項６】前記円環状凹部の形成を仕上げ研磨前に
行う請求項３〜５の何れか１項記載の磁気ディスク用基
板の製造方法。