JP4767562B2 - ナノ粒子の製造方法 - Google Patents

ナノ粒子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4767562B2
JP4767562B2 JP2005082062A JP2005082062A JP4767562B2 JP 4767562 B2 JP4767562 B2 JP 4767562B2 JP 2005082062 A JP2005082062 A JP 2005082062A JP 2005082062 A JP2005082062 A JP 2005082062A JP 4767562 B2 JP4767562 B2 JP 4767562B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polymer
particle source
particle
nanoparticles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005082062A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006282399A (ja
Inventor
真治 柴本
暢 木下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority to JP2005082062A priority Critical patent/JP4767562B2/ja
Publication of JP2006282399A publication Critical patent/JP2006282399A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4767562B2 publication Critical patent/JP4767562B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Description

本発明は、ナノ粒子の製造方法に関し、特に、単分散性に優れたナノ粒子を大量に製造することが可能な製造方法に関するものである。
従来、単分散のナノ粒子を合成する技術としては、さまざまな合成法が提唱されており、大きく分けて、気相合成法と液相合成法に分けられる。
気相合成法としては、例えば、気相中の原料の凝縮により粒子を生成させる方法(PVD法)、気相中の原料ガスの化学反応により粒子を生成させる方法(CVD法)などが挙げられる。特に、CVD法では、用いる熱源によってプラズマ法(例えば、非特許文献1参照)、火炎法(例えば、特許文献1参照)などがあり、プラズマ法は不純物を少なくできるという特徴があり、火炎法は生産量を大きくすることができるという特徴がある。
液相合成法としては、例えば、ゾルゲル法、均一沈殿法、水熱合成法などが挙げられる。また、液相合成法の一種として、粒子原料を含んだ液滴を高温の雰囲気下に噴霧して、噴霧液滴中で粒子原料を熱分解させることにより球状粒子を生成させる噴霧熱分解法(例えば、非特許文献2参照)が挙げられる。
K.Ishizaki et al.,Journal ofMaterial Science,vol.24,p3553(1989) Y.C.Kang,S.B.Park,Journal of Material Science,vol.31,p409(1996) 特開昭47−46274号公報
しかしながら、一般的に気相合成法は、製造コストが高いだけでなく、粒子の凝集により、単分散性の高いナノ粒子が得られ難いなどの問題点があった。
気相合成法の中でも、プラズマ法は、合成量が少ないだけでなく、原料ガスの種類によっては装置の管理が大変である。
また、火炎法は、火炎の中で粒子を合成するため、熱により粒子が互いに融着して凝集するため、得られるナノ粒子の単分散性が低いという問題点があった。
ゾルゲル法や均一沈殿法は、得られるナノ粒子の結晶性が低いという問題点があった。
水熱合成法は、粒子の凝集が激しいだけでなく、合成速度が遅いという問題点があった。
また、噴霧熱分解法は、噴霧する液滴の大きさにより粒子径が決まるため、生成可能な粒子径がサブミクロン程度であるだけでなく、粒子径の小さいナノ粒子を合成した場合、液滴の大きさのばらつきに起因して粒子径にばらつきが生じるという問題点があった。さらに、噴霧熱分解法は、生産量が少ない上に、合成速度が遅いという問題点があった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、結晶性が高く、純度も高く、単分散性に優れたナノ粒子を大量にかつ安価に製造することができるナノ粒子の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者等は、結晶性が高く、純度も高く、単分散性に優れたナノ粒子の製造方法について鋭意検討した結果粒子源Aを含有するポリマー粒子Bと、これらのポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cとを混合し、これらの混合物を熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を形成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を熱処理することにより、結晶性が高く、純度も高く、単分散性に優れたナノ粒子を大量にかつ安価に製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明のナノ粒子の製造方法は、金属の無機塩、金属の有機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体、金属錯体オリゴマー、金属の高分子錯体の群から選択される1種または2種以上からなる粒子源Aを含有しかつ平均粒子径が10nm以上かつ10μm以下のポリマー粒子Bと、これらのポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cと、水、一価アルコール類、二価アルコール類、エチレングリコールエーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、エーテルアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの群から選択される1種を含む溶媒とを混合し、これらの混合物を熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を生成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を600以上かつ1000℃以下にて熱処理することにより粒成長させることを特徴とする。
前記物質Cは、水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、イミノ基、カルボキシル基、ケトン基、スルホ基、チオール基、ニトロ基、ニトロソ基、フェニル基、シアノ基、ピリジル基の群から選択される1種または2種以上の官能基を少なくとも1つ以上有する高分子化合物からなることが好ましい。
本発明のナノ粒子の製造方法によれば、金属の無機塩、金属の有機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体、金属錯体オリゴマー、金属の高分子錯体の群から選択される1種または2種以上からなる粒子源Aを含有しかつ平均粒子径が10nm以上かつ10μm以下のポリマー粒子Bと、これらのポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cと、水、一価アルコール類、二価アルコール類、エチレングリコールエーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、エーテルアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの群から選択される1種を含む溶媒とを混合し、これらの混合物を熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を生成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を600以上かつ1000℃以下にて熱処理することにより粒成長させるので、より単分散性に優れたナノ粒子を得ることができる。
また、粒子源Aをポリマー粒子Bに含有させ、さらに、この粒子源Aを含有するポリマー粒子Bの周囲を物質Cで覆うことにより、熱処理によりポリマー粒子Bが互いに融着するおそれが少なくなり、それゆえに熱処理温度を高くすることができるので、より結晶性の高いナノ粒子を合成することができる。
本発明のナノ粒子の製造方法の最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
「第一の実施形態」
本実施形態のナノ粒子の製造方法は、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を生成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を熱処理することにより粒成長させることにより、ナノ粒子を生成するものである。
以下に、本実施形態のナノ粒子の製造方法をさらに詳細に説明する。
本実施形態のナノ粒子の製造方法では、まず、粒子源Aをポリマー粒子Bの内部に導入する(第一の工程)。
粒子源Aをポリマー粒子Bの内部に導入する方法は、特に限定されるものではないが、粒子源Aを溶媒に溶解して溶液とした後、この溶液中にポリマー粒子Bを分散、膨潤させることにより、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを形成する方法が好ましい。この状態では、粒子源Aとポリマー粒子Bは水素結合、配位結合、イオン結合などにより結合していることが好ましい。
粒子源Aのポリマー粒子Bの内部への導入を促進するために、必要に応じて、超音波照射、加熱、攪拌などの処理を併用してもよい。
ここで、ポリマー粒子Bに対する粒子源Aの重量比(A/B)は、0.053〜19.0が好ましく、0.11〜1.5がより好ましい。
重量比(A/B)が0.053未満では、粒子の生成量が少なくなり、製造コストの点で好ましくない。一方、重量比(A/B)が19.0を超えると、ポリマー粒子Bの内部以外に粒子源Aが多く存在するおそれがあり好ましくない。
また、溶媒に対する粒子源Aとポリマー粒子Bの混合物の重量比((A+B)/溶媒)は、0.031〜4.0が好ましく、0.053〜1.5がより好ましい。
重量比((A+B)/溶媒)が0.031未満では、粒子の生成量が少なくかつ粒子を製造する上で多くの不必要な溶媒を除去する必要が生じるため好ましくない。一方、重量比((A+B)/溶媒)が4.0を超えると、ポリマー粒子Bの内部に粒子源Aが均一に導入される効果が小さくなり好ましくない。
上記の第一の工程よってポリマー粒子Bの内部に導入された粒子源Aは、このままでは不安定である。
そこで、次に、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに、熱処理および化学反応を利用した処理(以下、「化学反応処理」と略す。)の両方、または、熱処理もしくは化学反応処理のいずれか一方を施す。これにより、ポリマー粒子Bの内部に粒子源Aに起因した、目的とするナノ粒子の核を生成する(第二の工程)。
粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施す方法としては、例えば、電熱を利用する方法、マイクロ波を利用する方法、高周波を利用する方法などが挙げられる。これらの方法には、真空吸引を併用してもよい。
この第二の工程の熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度は、特に限定されないが、100〜350℃が好ましく、150〜300℃がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度が100℃未満では、ポリマー粒子B内における粒子源Aの核生成が不十分である。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度が350℃を超えると、粒子源Aの核形成と同時にポリマー粒子Bが融着されやすく生成するナノ粒子の単分散性が低下する。
この熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間は、特に限定されないが、0.5秒〜3時間が好ましく、1.0秒〜1時間がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間が0.5秒未満では、粒子源Aの核形成が不十分である。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間が3時間を超えると、粒子源Aの核形成が十分に行われている上での不必要な加熱となるだけでなく、ポリマー粒子Bが加熱により不必要な融着を起こす原因ともなり好ましくない。
粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに化学反応処理を施す方法としては、例えば、酸化反応を利用する方法、還元反応を利用する方法、反応性ガスと接触させる方法などが挙げられる。
酸化反応を利用する方法としては、例えば、過酸化水素などの酸化剤を、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが分散している溶媒に添加する方法が挙げられる。この方法によれば、ナノ粒子の核として酸化物微粒子を生成することができる。
還元反応を利用する方法としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤を、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが分散している溶媒に添加する方法が挙げられる。この方法によれば、例えば、粒子源Aに起因する金属イオンを還元し、ナノ粒子の核として金属粒子を生成することができる。
これらの酸化反応または還元反応を促進するために、超音波照射などの物理化学的処理を併用してもよい。
反応性ガスと接触させる方法としては、例えば、硫化水素などの反応性ガスを、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bと接触させることにより、反応性ガスと粒子源Aを反応させる方法が挙げられる。反応性ガスとして硫化水素を用いれば、例えば、ナノレベルの金属硫化物を形成することができる。
次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて、粒子源Aに起因するナノ粒子の核に熱処理を施す、すなわち、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施すことにより粒成長させる(第三の工程)。
次いで、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理または化学反応処理を施すことにより、粒子源Aの副生成物およびポリマー粒子Bを除去して、ナノ粒子を得る(第四の工程)。
なお、粒子を成長させる工程(第三の工程)と、粒子源Aの副生成物およびポリマー粒子Bを除去する工程(第四の工程)とは、別々に行なう必要はなく、組み合わせて行っても、一工程で行なってもよい。例えば、熱処理によれば、粒子源Aに起因する核を粒成長させてナノ粒子を生成することができると同時に、粒子源Aの副生成物およびポリマー粒子Bを分解除去することができるので、上記の第三の工程と第四の工程を、一工程とすることができる。
第三の工程または第四の工程にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施す方法としては、例えば、火炎によりポリマーを燃焼させる方法、電熱を利用する方法、マイクロ波を利用する方法、高周波を利用する方法などが挙げられる。特に、火炎により粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを燃焼させれば、ナノ粒子を一瞬にして生成することができると同時に、粒子源Aの副生成物およびポリマー粒子Bを分解除去することができる。
この第三の工程または第四の工程の熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度は、特に限定されないが、400〜1200℃が好ましく、600〜1000℃がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度が400℃未満では、得られるナノ粒子の結晶性が低いだけでなく、ポリマー粒子Bが分解せずに残留する。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する温度が1200℃を超えると、得られたナノ粒子が溶融したり、焼結したりして、単分散性が劣化するおそれがある。
この熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間は、特に限定されないが、1.0秒〜3時間が好ましく、2.0秒〜1時間がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間が1.0秒未満では、得られるナノ粒子の結晶性が充分でない上に、ポリマー粒子Bおよび粒子源Aの分解が充分でなく、カーボンなどのポリマー残留物が残る。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを加熱する時間が3時間を超えると、得られたナノ粒子が溶融したり、焼結することにより単分散性が損なわれるおそれがある。
上記の粒子源Aとしては、特に限定されるものではないが、例えば、金属の無機塩、金属の有機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体、金属錯体オリゴマー、金属の高分子錯体などが挙げられ、目的とするナノ粒子の組成に応じて1種または2種以上を用いることができる。
金属の無機塩としては、例えば、硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩などが挙げられる。金属の有機酸塩としては、例えば、乳酸塩などが挙げられる。金属アルコキシドとしては、例えば、金属イソプロポキシドなどが挙げられる。金属錯体としては、例えば、アセチルアセトナート錯体などが挙げられる。金属錯体オリゴマーとしては、例えば、アセチルアセトナート錯体を数個から数百個架橋した錯体などが挙げられる。金属の高分子錯体としては、例えば、クエン酸錯体がエステル架橋した高分子などが挙げられる。
特に、粒子源Aとして、金属錯体オリゴマーまたは金属の高分子錯体を用いれば、金属成分を熱処理により粒子化する場合に、特定の成分のみ粒子化したり、抜け出したりして、成分が偏るのを防ぐことができるため、結果として、ナノ粒子の組成を均一にすることができるため好ましい。また、多成分系の複合金属ナノ粒子、複合酸化物ナノ粒子を生成する場合に、この金属錯体オリゴマーまたは金属の高分子錯体を用いれば、組成が均一で、不純物が少なく、結晶性の高いナノ粒子を生成することができる。このように、この金属錯体オリゴマーまたは金属の高分子錯体を用いれば、目的とするナノ粒子の成分を精密に制御することができる。
例えば、チタン酸バリウムストロンチウムナノ粒子を生成する場合に、粒子源Aとして、チタン、バリウム、ストロンチウムなどのアセチルアセトナートを架橋したアセチルアセトナート高分子錯体や、チタン、バリウム、ストロンチウムなどのポリエステル錯体(高分子錯体)を用いれば、金属塩(無機塩、有機酸塩)や金属錯体を用いた場合に比べて、得られるナノ粒子の組成がより均一で、原料の組成比に限りなく近くなる。
ポリマー粒子Bとしては、粒子源Aを含有できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、イミノ基、カルボキシル基、ケトン基、スルホ基、チオール基、ニトロ基、ニトロソ基、フェニル基、アセチル基、シアノ基、ピリジル基の群から選択される1種または2種以上の官能基を有する高分子化合物を用いることができる。
また、ポリマー粒子Bの平均粒子径は、10nm〜10μmであることが望ましく、20nm〜500nmであることがより望ましい。ポリマー粒子Bの平均粒子径が上記の範囲内であれば、目的とするナノ粒子を大量にかつ安価に製造することができる。
ポリマー粒子Bの平均粒子径が10μmを超えると、ポリマー粒子Bに含有される粒子源Aの濃度が低下するため、得られるナノ粒子の量(生成量)が少なくなるので好ましくない。一方、平均粒子径が10nm未満では、粒子径がほぼ均一なポリマー粒子Bを合成することが困難である。
本実施形態で用いられる溶媒としては、粒子源Aを溶解し、かつ、ポリマー粒子Bの内部に浸透することができるか、または、ポリマー粒子Bを膨潤させることができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、ブタノールなどの一価アルコール類、エチレングリコールなどの二価アルコール類、β−オキシエチルメチルエーテル(メチルセロソルブ)、β−オキシエチルエーテル(エチルセロソルブ)、β−オキシエチルプロピルエーテル(プロピルセロソルブ)、ブチル−β−オキシエチルエーテル(ブチルセロソルブ)などのエチレングリコールエーテル(セロソルブ)類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ベンジルなどのエステル類、メトキシエタノール、エトキシエタノールなどのエーテルアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。
また、粒子源Aのポリマー粒子Bの内部への導入を促進するために、この溶媒には必要に応じて界面活性剤などを添加してもよい。
本実施形態のナノ粒子の製造方法によって得られたナノ粒子は、単分散性に優れ、平均粒子径が0.1nm以上かつ100nm以下の粒子である。
本実施形態のナノ粒子の製造方法によれば、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施すことにより、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて、粒子源Aの核を生成させ、次いで粒成長させ、この粒成長が完了すると、単分散性に優れたノ粒子が得られる。なお、粒子源Aの核の生成または粒成長は、熱処理の際にポリマー粒子Bが溶融する前に生じても、後に生じても、得られるナノ粒子の単分散性に影響がない。
また、上記の粒子源Aの副生成物およびポリマー粒子Bを除去することにより、ポリマー粒子Bに対応した単分散性のナノ粒子を、粒子単独で取り出すことができる。
さらに、粒子源Aをポリマー粒子Bに含有させることにより、熱処理により粒子源Aが互いに融着するおそれが少なくなり、それゆえに熱処理温度を高くすることができるので、結晶性の高いナノ粒子を合成することができる。
「第二の実施形態」
本実施形態のナノ粒子の製造方法は、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bと、これらのポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cとを混合し、これらの混合物を熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を生成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を熱処理することにより粒成長させることにより、ナノ粒子を合成するものである。
すなわち、本実施形態のナノ粒子の製造方法が、上記の第一の実施形態と異なる点は、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cを混合する点である。本実施形態において、上記の第一の実施形態と同様の工程については説明を省略または簡略にする。
以下に、本実施形態のナノ粒子の製造方法をさらに詳細に説明する。
本実施形態のナノ粒子の製造方法では、まず、粒子源Aをポリマー粒子Bの内部に導入する(第一の工程)。
次いで、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが分散している溶媒に、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cを混合、分散する(第二の工程)。
これにより、物質Cは、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bの周囲に均一に分散していることが好ましい。
物質Cを溶媒中に均一に分散するために、必要に応じて、超音波照射、加熱、攪拌などの処理を施してもよい。
ここで、粒子源Aおよびポリマー粒子Bに対する物質Cの重量比(C/(A+B))は、0.053〜5.0が好ましく、0.11〜1.0がより好ましい。
重量比(C/(A+B))が0.053未満では、ポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する効果が小さい。一方、重量比(C/(A+B))が5.0を超えると、ナノ粒子の生成量の低下および後述する第五の工程にて物質Cの除去量が増加するという点において好ましくない。
また、溶媒に対する粒子源A、ポリマー粒子Bおよび物質Cの混合物の重量比((A+B+C)/溶媒)は、0.031〜4.0が好ましく、0.053〜1.5がより好ましい。
重量比((A+B+C)/溶媒)が0.031未満では、粒子の生成量が少なく、かつ粒子を製造する上で多くの不必要な溶媒を除去する必要が生じるため好ましくない。一方、重量比((A+B+C)/溶媒)が4.0を超えると、ポリマー粒子Bの内部に粒子源Aが均一に導入される効果が小さくなり好ましくない。
次に、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに、熱処理および化学反応処理の両方、または、熱処理もしくは化学反応処理のいずれか一方を施す。これにより、ポリマー粒子Bの内部に粒子源Aに起因した、目的とするナノ粒子の核を生成する(第三の工程)。
次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて、粒子源Aに起因するナノ粒子の核に熱処理を施す、すなわち、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施すことにより粒成長させる(第四の工程)。
次いで、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bおよび物質Cに熱処理または化学反応処理を施すことにより、粒子源Aの副生成物、ポリマー粒子Bおよび物質Cを除去して、ナノ粒子を得る(第五の工程)。
なお、粒成長させる工程(第四の工程)と、粒子源Aの副生成物、ポリマー粒子Bおよび物質Cを除去する工程(第五の工程)とは、別々に行なう必要はなく、組み合わせて行っても、一工程で行なってもよい。例えば、熱処理によれば、粒子源Aに起因する核を粒成長させてナノ粒子を合成することができると同時に、粒子源Aの副生成物、ポリマー粒子Bおよび物質Cを分解除去することができるので、上記の第四の工程と第五の工程を、一工程とすることができる。
第四の工程または第五の工程にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cに熱処理を施す方法としては、例えば、火炎によりポリマーを燃焼させる方法、電熱を利用する方法、マイクロ波を利用する方法、高周波を利用する方法などが挙げられる。特に、火炎により粒子源Aを含有するポリマー粒子Bを燃焼させれば、ナノ粒子を一瞬にして合成することができると同時に、粒子源Aの副生成物、ポリマー粒子Bおよび物質Cを分解除去することができる。
この第四の工程または第五の工程の熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する温度は、特に限定されないが、400〜1200℃が好ましく、600〜1000℃がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する温度が400℃未満では、得られるナノ粒子の結晶性が低いだけでなく、ポリマー粒子Bが分解せずに残留する。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する温度が1200℃を超えると、得られたナノ粒子が溶融したり、焼結したりして、単分散性が劣化するおそれがある。
この熱処理にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する時間は、特に限定されないが、1.0秒〜3時間が好ましく、2.0秒〜80分がより好ましい。粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する時間が1.0秒未満では、得られるナノ粒子の結晶性が充分でない上に、ポリマー粒子B、粒子源Aの分解が充分でない。また、物質Cが段落0053に示すような有機化合物の場合、物質Cの分解が充分でない。このため、粒子源A、ポリマー粒子B、物質Cに起因するカーボンなどの残留物が残る。一方、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bまたは物質Cを加熱する時間が3時間を超えると、得られたナノ粒子が溶融したり、焼結することにより、単分散性が損なわれるおそれがある。
上記の粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cとしては、目的とするナノ粒子を合成する際に不純物として取り込まれるものでなければ特に限定されるものではないが、熱分解により除去できる高分子化合物が好ましく、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する効果に優れていることから分子量の比較的大きな高分子化合物がより好ましい。このような高分子化合物としては、炭素−炭素骨格を主骨格にもつ高分子化合物が挙げられ、例えば、水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、イミノ基、カルボキシル基、ケトン基、スルホ基、チオール基、ニトロ基、ニトロソ基、フェニル基、シアノ基、ピリジル基の群から選択される1種または2種以上の官能基を少なくとも1つ以上有する高分子化合物を用いることができる。
また、炭素−炭素骨格の数をN、上記の官能基の数をRとすると、N/Rは3以上が望ましく、10以上がより望ましい。
本実施形態のナノ粒子の製造方法によれば、上記の物質Cの存在下にて、粒子源Aを含有するポリマー粒子Bに熱処理を施すことにより、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて、粒子源Aの核を形成させ、次いで、粒成長させ、この粒成長が完了すると、より単分散性に優れたノ粒子が得られる。なお、粒子源Aの核の生成または粒成長は、熱処理の際にポリマー粒子Bが溶融する前に生じても、後に生じても、得られるナノ粒子の単分散性に影響がない。
また、物質Cが熱可塑性樹脂である場合、熱処理によりポリマー粒子Bの周囲に物質Cが溶融して付着するものの、物質Cの官能基の数が分子量に比して小さい場合、すなわち、上記の炭素−炭素骨格を主骨格にもつ高分子化合物を例に挙げた場合、N/Rの値が大きいほど、物質Cの粒子源Aに対する相互作用が低くなるため、ポリマー粒子Bから粒子源Aが溶出するおそれが低下するので、ポリマー粒子Bに囲まれた領域外(溶媒中のポリマー粒子Bに囲まれていない領域)での粒成長や、ナノ粒子が互いに融着するのを防止することができ、ナノ粒子の単分散性を保つことができる。
また、上記の粒子源Aの副生成物、ポリマー粒子Bおよび物質Cを除去することにより、ポリマー粒子Bに対応した単分散性のナノ粒子を、粒子単独で取り出すことができる。
さらに、粒子源Aをポリマー粒子Bに含有させ、さらに、この粒子源Aを含有するポリマー粒子Bの周囲を物質Cで覆うことにより、熱処理によりポリマー粒子Bが互いに融着するおそれが少なくなり、それゆえに熱処理温度を高くすることができるので、結晶性の高いナノ粒子を生成することができる。
以下、実施例および比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
(実施例1)
水分散ビニルピロリドン−スチレン共重合体(平均粒子径:100nm、住友大阪セメント社製)20gに、硝酸銅(関東化学社製)0.6gを溶解した後、この溶液にポリエチレングリコール(重合度:800、Aldrich社製)5gを加えた。さらに、この溶液を、管状炉(いすゞ製作所社製)を用いて、大気雰囲気下、昇温速度20℃/minで室温から200℃まで加熱し、200℃にて30分間保持した後、昇温速度20℃/minで700℃まで加熱し、700℃にて30分間保持して、粉末を得た。
その後、得られた粉末を電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)にて観察したところ、平均粒子径4.3nmの単分散微粒子であった。また、X線回折の結果、この単分散微粒子は酸化銅であった。
(実施例2)
水分散ビニルピロリドン−スチレン共重合体(平均粒子径:100nm、住友大阪セメント社製)20gに、Ba−Sr−Ti複合錯体(0.25:0.75:1.00、住友大阪セメント社製)0.4gを溶解した後、この溶液にポリエチレングリコール(重合度:800、Aldrich社製)0.5gを加えた。さらに、この溶液を、管状炉(いすゞ製作所社製)を用いて、大気雰囲気下、昇温速度20℃/minで室温から200℃まで加熱し、200℃にて1時間保持した後、昇温速度20℃/minで700℃まで加熱し、700℃にて1時間保持して、粉末を得た。
その後、得られた粉末を電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)にて観察したところ、平均粒子径27nmの単分散微粒子であった。また、X線回折の結果、この単分散微粒子はBa0.25Sr0.75TiOであった。
(実施例3)
マレイン酸−ポリビニルアルコール共重合体(平均粒子径:220nm、住友大阪セメント社製)10gに、酢酸亜鉛(和光純薬社製)0.18gを溶解した後、この溶液にポリエチレングリコール(重合度:1000、Aldrich社製)0.5gを加えた。さらに、この溶液を、管状炉(いすゞ製作所社製)を用いて、大気雰囲気下、昇温速度10℃/minで室温から200℃まで加熱し、200℃にて1時間保持した後、昇温速度10℃/minで400℃まで加熱し、700℃にて30分間保持して、粉末を得た。
その後、得られた粉末を透過型電子顕微鏡(TEM)にて観察したところ、平均粒子径3.1nmの単分散微粒子であった。また、X線回折の結果、この単分散微粒子はZnOであった。
(比較例1)
水分散ビニルピロリドン−スチレン共重合体(平均粒子径:100nm、住友大阪セメント社製)10gに、Ba−Sr−Ti複合錯体(0.25:0.75:1.00、住友大阪セメント社製)0.4gを溶解した。さらに、この溶液を、管状炉(いすゞ製作所社製)を用いて、大気雰囲気下、昇温速度20℃/minで室温から200℃まで加熱し、200℃にて1時間保持した後、昇温速度20℃/minで700℃まで加熱し、700℃にて1時間保持して、粉末を得た。
その後、得られた粉末を電界放射型走査電子顕微鏡(FE−SEM)にて観察したところ、平均粒子径260nmの単分散微粒子であった。また、X線回折の結果、この単分散微粒子はBa0.25Sr0.75TiOであった。
本発明のナノ粒子の製造方法は、結晶性が高く、純度も高く、単分散性に優れたナノ粒子を大量にかつ安価に製造することができるものであるから、ナノ粒子としての機能を保持しつつハンドリングし易い微粒子粉体の製造に用いるのはもちろんのこと、セラミックス、高分子などとのコンポジット化を図ることでナノ粒子の分散性が確保されたコンポジット粒子を製造する際にも極めて有用なものである。

Claims (2)

  1. 金属の無機塩、金属の有機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体、金属錯体オリゴマー、金属の高分子錯体の群から選択される1種または2種以上からなる粒子源Aを含有しかつ平均粒子径が10nm以上かつ10μm以下のポリマー粒子Bと、これらのポリマー粒子Bが互いに接触することを阻害する物質Cと、水、一価アルコール類、二価アルコール類、エチレングリコールエーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、エーテルアルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの群から選択される1種を含む溶媒とを混合し、これらの混合物を熱処理もしくは化学反応、または、熱処理および化学反応することより、粒子源Aに起因するナノ粒子の核を生成し、次いで、ポリマー粒子Bに囲まれた領域にて前記核を600以上かつ1000℃以下にて熱処理することにより粒成長させることを特徴とするナノ粒子の製造方法。
  2. 前記物質Cは、水酸基、アミノ基、アルデヒド基、アシル基、イミノ基、カルボキシル基、ケトン基、スルホ基、チオール基、ニトロ基、ニトロソ基、フェニル基、シアノ基、ピリジル基の群から選択される1種または2種以上の官能基を少なくとも1つ以上有する高分子化合物からなることを特徴とする請求項1記載のナノ粒子の製造方法。
JP2005082062A 2005-03-11 2005-03-22 ナノ粒子の製造方法 Expired - Fee Related JP4767562B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005082062A JP4767562B2 (ja) 2005-03-11 2005-03-22 ナノ粒子の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005069024 2005-03-11
JP2005069024 2005-03-11
JP2005082062A JP4767562B2 (ja) 2005-03-11 2005-03-22 ナノ粒子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006282399A JP2006282399A (ja) 2006-10-19
JP4767562B2 true JP4767562B2 (ja) 2011-09-07

Family

ID=37404701

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005082062A Expired - Fee Related JP4767562B2 (ja) 2005-03-11 2005-03-22 ナノ粒子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4767562B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5350106B2 (ja) * 2008-07-28 2013-11-27 キヤノン株式会社 ナノ粒子−分散剤複合体、ナノ粒子分散液およびナノ粒子−マトリックス材料複合体
WO2014181329A1 (en) * 2013-05-06 2014-11-13 Bar-Ilan University Doped metal oxide nanoparticles of and uses thereof

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0156491A2 (en) * 1984-03-19 1985-10-02 General Motors Corporation Formation of fine particle sinterable ceramic powders
JPH06218276A (ja) * 1993-01-27 1994-08-09 Mitsui Toatsu Chem Inc 安定化された金属酸化物超微粒子とその製造方法
JP2002523618A (ja) * 1998-08-19 2002-07-30 ザ ダウ ケミカル カンパニー ナノサイズ金属酸化物粉末の製造方法
JP4045707B2 (ja) * 1999-12-06 2008-02-13 日亜化学工業株式会社 金属酸化物微粒子の製造方法
US6752979B1 (en) * 2000-11-21 2004-06-22 Very Small Particle Company Pty Ltd Production of metal oxide particles with nano-sized grains
JP3900860B2 (ja) * 2001-06-12 2007-04-04 日亜化学工業株式会社 金属複合酸化物粉末用組成物及び金属複合酸化物粉末の製造方法
JP3662208B2 (ja) * 2001-08-07 2005-06-22 大塚化学ホールディングス株式会社 多孔質無機粉末の製造方法
JP4112250B2 (ja) * 2002-03-13 2008-07-02 住友大阪セメント株式会社 金属酸化物ナノ粒子の製造方法
JP2005161238A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd ナノ粒子あるいはナノ構造体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006282399A (ja) 2006-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20090025510A1 (en) Method for manufacturing nickel nanoparticles
AU2010295253B2 (en) Method of manufacture
US20070180954A1 (en) Copper nano-particles, method of preparing the same, and method of forming copper coating film using the same
JP2010037647A (ja) ニッケルナノ粒子の製造方法
TWI716526B (zh) 鎳粉末
EP3509408B1 (en) Electromagnetic wave absorbent material
CN103842285A (zh) 由碳纳米管和金属氧化物组成的纳米复合材料以及制造其的方法
KR101509878B1 (ko) 기상 공정에 의해 합성된 적층 세라믹 커패시터용 금속-세라믹 코어-쉘 구조의 복합체 분말 및 이의 제조방법
KR20100062989A (ko) 전이금속산화물의 탄소코팅된 나노입자 제조방법
KR20090072445A (ko) 디스프로슘 산화물 나노입자 제조방법 및 디스프로슘산화물 나노졸 제조방법
JP4767562B2 (ja) ナノ粒子の製造方法
Chazot et al. Enhancement of ZnSe stability during optical composite processing via atomic layer deposition
EP4082972A1 (en) Near-infrared absorbing material particles, near-infrared absorbing material particle dispersing solution, and near-infrared absorbing material particle dispersion
JP2007084351A (ja) TiC又はTiCNの製造方法
CN118401463A (zh) 由g-C3N4/金属复合材料制备纳米片的方法
JP2006247791A (ja) ナノ粒子含有ポリマー微粒子の製造方法並びにこれを用いたナノ粒子の製造方法およびナノ粒子複合体の製造方法
KR100424804B1 (ko) 결정성이 확보된 구형 형광체의 제조방법
JP2005161238A (ja) ナノ粒子あるいはナノ構造体の製造方法
JP7072145B2 (ja) 複合タングステン酸化物粒子の製造方法
KR101753665B1 (ko) 열플라즈마 제트를 이용한 아나타제 상과 루타일 상 이산화티탄 나노 분말의 선택적 제조방법 및 이에 따라 제조되는 이산화티탄 나노 분말
JP2017128458A (ja) 酸窒化物微粒子、水分解用光触媒、水素・酸素生成用光触媒電極、水素・酸素生成用光触媒モジュールおよび酸窒化物微粒子の製造方法
KR100707855B1 (ko) 분말사출성형용 금속 미세입자 피드스톡의 제조방법
Jung‐König et al. Microemulsion‐made Magnesium Carbonate Hollow Nanospheres
JP2017057488A (ja) ナノ銀粒子製造方法及びナノ銀粒子
KR100503132B1 (ko) 구형 니켈 금속 미세분말의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070808

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110607

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110615

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4767562

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees