JP4756145B2 - ダイヤモンド膜製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、前記中間層にSiC膜を用いるダイヤモンド膜製造方法である。
このダイヤモンド膜製造装置1は、真空槽10と、ホルダ17と、一乃至複数台の蒸着源13を有している。
蒸着源13は筒状のアノード電極131を有している。
ホルダ17は真空槽10内に配置されており、蒸着源13は、アノード電極131の筒の一方の開口である放出口136をホルダ17に向けて配置されている。
アノード電極131と真空槽10は接地電位に接続されている。
棒状電極135はアーク電源141に接続されており、トリガ電極134はトリガ電源142に接続されている。
真空槽10は真空排気系31に接続されており、真空槽10内を真空排気し、10-5Paの真空雰囲気を形成する。
この成膜対象物20は、基体21と、該基体21表面に形成された中間層22とを有しており、中間層22が蒸着源13に向けられている。ここでは基体21は直径4インチの金型であり、ニッケルを主成分とし、モリブデン、クロム、鉄が含有された合金で構成されている。中間層22は、SiC膜で構成されている。
ホルダ17の裏面には、ヒータ19が配置されており、成膜対象物20は、予め400℃以上の温度に加熱されている。
中間層22は炭化物膜などの化学構造中に炭素を含む膜を用いることができる。
その他に中間層として用いることができる炭化物膜を形成できる材料には、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Co、Ni、Fe、Y、Al、B等の金属や、SiO2、Si3N4等の化合物がある。
10……真空槽
20……成膜対象物
21……基体
22……中間層
32……水素ガス導入系
131……アノード電極
132……カソード電極
134……トリガ電極
Claims (2)
- 金属の基体表面に炭素を含む中間層が形成された成膜対象物を真空槽内に配置し、
前記真空槽内を1.33×10 3 Pa以下の圧力の水素ガス雰囲気にし、
筒状のアノード電極内に配置されたグラファイトから成るカソード電極と、前記カソード電極とは絶縁されたトリガ電極内にトリガ放電を発生させ、前記カソード電極と前記アノード電極の間にアーク放電を誘起させ、
前記カソード電極からカーボン蒸気を放出させ、前記成膜対象物表面に到達させ、ウルトラ・ナノ・結晶・ダイヤモンドの膜を形成するダイヤモンド膜製造方法。 - 前記中間層にSiC膜を用いる請求項1記載のダイヤモンド膜製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006075404A JP4756145B2 (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | ダイヤモンド膜製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006075404A JP4756145B2 (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | ダイヤモンド膜製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2007247032A JP2007247032A (ja) | 2007-09-27 |
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JP2006075404A Active JP4756145B2 (ja) | 2006-03-17 | 2006-03-17 | ダイヤモンド膜製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4756145B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4899032B2 (ja) * | 2007-02-19 | 2012-03-21 | 国立大学法人九州大学 | ダイヤモンド薄膜形成方法 |
JP5963132B2 (ja) * | 2012-05-22 | 2016-08-03 | 独立行政法人国立高等専門学校機構 | ダイヤモンド合成方法およびダイヤモンド合成装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02120245A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-08 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子成形用型 |
DE3941202A1 (de) * | 1989-12-14 | 1990-06-07 | Krupp Gmbh | Verfahren zur erzeugung von schichten aus harten kohlenstoffmodifikationen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
CA2065581C (en) * | 1991-04-22 | 2002-03-12 | Andal Corp. | Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition |
JP2000008155A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
JP2004018899A (ja) * | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着源及び成膜装置 |
JP2004307241A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Ulvac Japan Ltd | カーボンナノチューブの製造方法 |
JP2005350763A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-12-22 | Sonac Kk | 成膜装置および成膜方法 |
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2006
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007247032A (ja) | 2007-09-27 |
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