JP4755566B2 - 高周波プラズマ供給装置の出力エネルギーを開ループ制御するおよび/または閉ループ制御する方法およびプラズマエネルギーをプラズマ負荷に供給するための高周波プラズマ供給装置 - Google Patents
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Description
a.少なくとも1つの第1の高周波エネルギー信号および第2の高周波エネルギー信号を、それぞれ高周波ジェネレータによって生成する;
b.少なくとも2つの高周波エネルギー信号を、高周波エネルギー信号の位相位置および/またはレベル(振幅)に依存して、結合された高周波エネルギーに結合させ;
c.結合された高周波エネルギーを、プラズマ負荷に供給されるプラズマエネルギーと、補償負荷に供給される補償エネルギーとに分ける。
Claims (14)
- a.第1の高周波エネルギー信号を第1の高周波ジェネレータ(6)によって形成し、第2の高周波エネルギー信号を第2の高周波ジェネレータ(7)によって形成し、
b.前記第1の高周波エネルギー信号と前記第2の高周波エネルギー信号とを、前記第1の高周波エネルギー信号および第2の高周波エネルギー信号の位相位置および/またはレベルに依存して、第1の結合素子(8)によって1つの高周波エネルギー信号に結合し、
c.当該結合された高周波エネルギー信号を、プラズマ負荷(2)に供給されるプラズマエネルギー信号と、補償負荷(10)に供給される補償エネルギー信号とに分ける、
ステップを有する、高周波プラズマ供給装置(1)の出力エネルギーを開ループ制御するおよび/または閉ループ制御する方法において、
d.前記プラズマエネルギー信号のエネルギーが、設定された下方のエネルギー境界と設定された定格出力の間の領域にある場合、前記プラズマエネルギー信号のエネルギーは前記補償エネルギー信号のエネルギーよりも大きく、
前記プラズマエネルギー信号のエネルギーが、前記設定された下方のエネルギー境界を下回る場合、前記補償エネルギー信号のエネルギーは、前記プラズマエネルギー信号のエネルギーよりも大きくなるように、
前記第1の高周波エネルギー信号および前記第2の高周波エネルギー信号のレベルおよび/または位相位置を開ループ制御および/または閉ループ制御する、
ステップを有し、
前記高周波エネルギー信号の周波数は1〜30MHzの領域にある、
ことを特徴とする、高周波プラズマ供給装置の出力エネルギーを開ループ制御するおよび/または閉ループ制御する方法。 - a.第1の高周波エネルギー信号を第1の高周波ジェネレータ(24)によって形成し、第2の高周波エネルギー信号を第2の高周波ジェネレータ(25)によって形成し、
b.前記第1の高周波エネルギー信号と前記第2の高周波エネルギー信号とを、前記第1の高周波エネルギー信号および第2の高周波エネルギー信号の位相位置および/またはレベルに依存して、第1の結合素子(27)によって1つの高周波エネルギー信号に結合し、
c.当該結合された高周波エネルギー信号を、エネルギー信号と、第1の補償負荷(29)に供給される第1の補償エネルギー信号とに分け、
d.さらなる高周波エネルギー信号をさらなる高周波ジェネレータ(26)によって形成し、
e.当該さらなる高周波エネルギー信号と、前記第1の結合素子(27)によって出力された前記エネルギー信号とを、さらなる結合素子(28)によって結合して、さらなる結合された高周波エネルギー信号を生成し、
f.当該さらなる結合された高周波エネルギー信号を、プラズマ負荷(2)に供給されるプラズマエネルギー信号と、さらなる補償負荷(32)に供給されるさらなる補償エネルギー信号とに分ける、
ステップを有する、高周波プラズマ供給装置(21)の出力エネルギーを開ループ制御するおよび/または閉ループ制御する方法において
g.前記プラズマエネルギー信号のエネルギーが、設定された下方のエネルギー境界と設定された定格出力の間の領域にある場合、前記プラズマエネルギー信号のエネルギーは前記さらなる補償エネルギー信号のエネルギーよりも大きく、
前記プラズマエネルギー信号のエネルギーが、前記設定された下方のエネルギー境界を下回る場合、前記さらなる補償エネルギー信号のエネルギーは、前記プラズマエネルギー信号のエネルギーよりも大きくなるように、
前記第1の高周波エネルギー信号および前記第2の高周波エネルギー信号および前記さらなる高周波エネルギー信号のレベルおよび/または位相位置を開ループ制御および/または閉ループ制御する、
ステップを有し、
前記高周波エネルギー信号の周波数は1〜30MHzの領域にある、
ことを特徴とする、高周波プラズマ供給装置の出力エネルギーを開ループ制御するおよび/または閉ループ制御する方法。 - 各高周波ジェネレータによって生成された各高周波エネルギー信号のレベルおよび/または位相位置を調整し、
当該調整を前記各高周波ジェネレータの直流電流供給および/または直流電圧供給を開ループ制御するおよび/または閉ループ制御することによって行う、請求項1または2記載の方法。 - スイッチング素子(43、44、49、50)を各高周波ジェネレータ内で駆動制御することによって、各高周波エネルギー信号を形成する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記スイッチング素子(43、44、49、50)を位相シフト方法で駆動制御することによって、各高周波ジェネレータによって生成された各高周波エネルギー信号のレベルおよび/または位相位置を調整する、請求項4記載の方法。
- 前記各高周波ジェネレータの直流電流供給および/または直流電圧供給を開ループ制御および/または閉ループ制御することによって、前記結合された各高周波エネルギー信号の大まかな調整を行い、
前記各高周波ジェネレータの位相シフト制御を行うことによって、前記結合された各高周波エネルギー信号の微調整を行う、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。 - 各結合素子によって前記各高周波エネルギー信号の間の90°ハイブリッド結合を行う、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 各高周波ジェネレータの出力側で、当該各高周波ジェネレータによって生成された高周波エネルギー信号のエネルギーを、当該エネルギーの閉ループ制御のために測定し、
前記プラズマ負荷(2)と結合されている各結合素子の出力側で、出力されたプラズマエネルギー信号のエネルギーを、当該エネルギーの閉ループ制御のために測定する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。 - ・第1の高周波エネルギー信号を形成する第1の高周波ジェネレータ(6)と第2の高周波エネルギー信号を形成する第2の高周波ジェネレータ(7)を有しており、
・結合素子(8)を有しており、当該結合素子(8)によって、前記第1の高周波エネルギー信号と前記第2の高周波エネルギー信号から、1つの結合された高周波エネルギー信号が生成され、ここで
前記結合素子は、前記結合された高周波エネルギー信号から分けられたプラズマエネルギー信号を出力するための第1の出力側(9)と、前記結合された高周波エネルギー信号から分けられた補償エネルギー信号を出力するための第2の出力側(11)とを有しており、前記第1の出力側(9)は前記プラズマ負荷(2)と接続されており、前記第2の出力側(11)は補償負荷(10)と接続されており、
・開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)を有しており、当該開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)は前記第1および第2の高周波ジェネレータ(6、7)を開ループ制御および/または閉ループ制御する、プラズマエネルギーをプラズマ負荷(2)に供給するための高周波プラズマ供給装置(1)において、
当該開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)は、請求項1記載の方法を実行するように調整されている、
ことを特徴とする、プラズマエネルギーをプラズマ負荷に供給するための高周波プラズマ供給装置。 - ・第1の高周波エネルギー信号を形成する第1の高周波ジェネレータ(24)と第2の高周波エネルギー信号を形成する第2の高周波ジェネレータ(25)を有しており、
・第1の結合素子(27)を有しており、当該第1の結合素子(27)内で、前記第1の高周波エネルギー信号と前記第2の高周波エネルギー信号から、1つの結合された高周波エネルギー信号が生成され、ここで
当該第1の結合素子(27)は、前記結合された高周波エネルギー信号から分けられたエネルギー信号を出力するための第1の出力側と、前記結合された高周波エネルギー信号から分けられた補償エネルギー信号を出力するための第2の出力側とを有しており、当該第2の出力側は第1の補償負荷(29)と接続されており、
・さらなる高周波エネルギー信号を形成する、さらなる高周波ジェネレータ(26)を有しており、
・さらなる結合素子(28)を有しており、当該さらなる結合素子(28)は前記第1の結合素子(27)の前記第1の出力側と接続されており、当該第1の結合素子(27)の第1の出力側から出力された前記高周波エネルギー信号を、前記さらなる高周波ジェネレータ(26)によって形成されたさらなるエネルギー信号と結合して、さらなる結合された高周波エネルギー信号を生成し、
前記さらなる結合素子(28)は、前記さらなる結合された高周波エネルギー信号から分けられたプラズマエネルギー信号を出力するための第1の出力側(30)と、前記さらなる結合された高周波エネルギー信号から分けられた補償エネルギー信号を出力するための第2の出力側(31)とを有しており、
・前記さらなる結合素子(28)の前記第1の出力側(30)は前記プラズマ負荷(2)と接続されており、前記さらなる結合素子(28)の前記第2の出力側(31)はさらなる補償負荷(32)と接続されており、
・開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)を有しており、当該開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)は前記第1の高周波ジェネレータおよび前記第2の高周波ジェネレータおよび前記さらなる高周波ジェネレータ(24、25、26)を開ループ制御および/または閉ループ制御する、プラズマエネルギーをプラズマ負荷(2)に供給するための高周波プラズマ供給装置(21)において、
当該開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)は、請求項2記載の方法を実行するように調整されている、
ことを特徴とする、プラズマエネルギーをプラズマ負荷に供給するための高周波プラズマ供給装置。 - 前記方法はハードウェア、ファームウェアおよび/またはソフトウェア内に実装されている、請求項9または10記載の高周波プラズマ供給装置。
- 各結合素子は90°ハイブリッドとして構成されている、請求項9から11までのいずれか1項記載の高周波プラズマ供給装置。
- 前記各高周波ジェネレータの出力側に、高周波エネルギーを測定するための少なくとも1つの測定装置が設けられており、かつ各結合素子の出力側に、高周波エネルギーを測定するための少なくとも1つの測定装置(15)が設けられている、請求項9から12までのいずれか1項記載の高周波プラズマ供給装置。
- 少なくとも1つの直流電流供給部が各高周波ジェネレータに対して設けられており、当該高周波ジェネレータは、前記開ループ制御装置および/または閉ループ制御装置(12)によって開ループ制御されるおよび/または閉ループ制御される、請求項9から12までのいずれか1項記載の高周波プラズマ供給装置。
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