JP4887197B2 - 高周波装置 - Google Patents
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- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 58
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 9
- 238000010248 power generation Methods 0.000 claims description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 description 36
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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Description
高周波電源装置50は、インピーダンス調整器6を介して、高周波電力を負荷5に供給するものであり、出力周波数を可変できる機能を有している。
図7に示した例では、コンデンサC1、コンデンサC2の2つのコンデンサと、インダクタL1が、インピーダンス調整器に設けられている。なお、リアクタンス素子のリアクタンス値(コンデンサの場合はキャパシタンス、インダクタの場合はインダクタンス)は、シミュレーションや実験によって得られたデータから、負荷の特性に応じて求められた固定値である。
Z1=R+jX=R+j(2πfL−1/(2πfC))・・ (1)
すなわち、インピーダンス調整器6のリアクタンス素子は、固定のリアクタンス値を有するものとなる。このように固定のリアクタンス値にした方が、装置の小型化や価格の観点から見て望ましいので、可能である限り、固定のリアクタンス値のものが採用される。
負荷に高周波電力を供給するための高周波装置であって、
発振周波数を可変できる発振手段と、
前記発振手段から出力される発振信号を増幅させて電力発生源となり、前記負荷に高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、
反射波電力に関係する反射波情報を演算して、演算した反射波情報を出力する反射波情報演算手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御する周波数制御手段と、
前記高周波電力供給手段と負荷との間に設けられ、且つ少なくとも1つの可変リアクタンス素子を有し、前記可変リアクタンス素子の1つが制御可能なインピーダンス調整手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御する素子制御手段と、
を備えたものである。
負荷に高周波電力を供給するための高周波装置であって、
発振周波数を可変できる発振手段と、
前記発振手段から出力される発振信号を増幅させて電力発生源となり、前記負荷に高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、
反射波電力に関係する反射波情報を演算して、演算した反射波情報を出力する反射波情報演算手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御する周波数制御手段と、
前記高周波電力供給手段と負荷との間に設けられ、且つ複数の可変リアクタンス素子を有し、前記複数の可変リアクタンス素子のうちの2つが制御可能なインピーダンス調整手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子のいずれか1つを制御する素子制御手段と、
を備えたものである。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る高周波装置の構成例と高周波装置と負荷5との接続関係を示す図である。なお、高周波電源装置1とインピーダンス調整器3とを組み合わせて構成された装置を高周波装置とする。
反射係数絶対値Γ=√Pr/√Pf ・・・・(2)
ここでは、高周波電源装置1の出力周波数の可変範囲の中で、反射係数絶対値Γが最小となる出力周波数にすればよい。もちろん他の基準によって、出力周波数を決めてもよい。例えば、反射係数絶対値Γが最小ではなく、2番目に小さいものであっても、その周辺の出力周波数における反射係数絶対値Γを考慮すると、より反射係数絶対値Γが安定していることがある。その場合には、この反射係数絶対値Γが2番目に小さい出力周波数を選定してもよい。
基準値よりも小さくなっている場合(Yes)は、高周波電源装置1の出力周波数の制御だけでよいので、ステップ4へ進む。基準値よりも小さくなっていない場合(No)は、インピーダンス調整器3での調整が必要であるので、ステップ5へ進む。
基準値よりも大きくなっている場合(Yes)は、反射係数絶対値Γを小さくさせるために、再度、高周波電源装置1の出力周波数の制御を行う必要があるので、ステップ2へ進む。基準値よりも大きくなっていない場合(No)は、再度、ステップ4を繰り返す。
ステップ5では、可変コンデンサVC1を定めた動作方向に、所定量だけ動作させる。なお、初期値は、キャパシタンスが小さくなる方向とする。もちろん、初期値をキャパシタンスが大きくなる方向としてもよい。
なお、リアクタンス素子制御回路19によってインピーダンス調整器3の内部の可変リアクタンス素子を制御しているときは、周波数制御回路11による発振回路12の発振周波数の制御は行わない。すなわち、発振回路12の発振周波数を、それまでの発振周波数に保持する。
基準値よりも小さくなっている場合(Yes)は、反射係数絶対値Γを小さくするという目的を達成したので、ステップ4へ進む。基準値よりも小さくなっていない場合(No)は、可変コンデンサVC1の動作量が少ないのか否かを判定するために、ステップ7へ進む。
反射係数絶対値Γが減少した場合(Yes)は、可変コンデンサVC1の動作量が少ない可能性があるので、ステップ5へ進む。反射係数絶対値Γが減少していない場合(No)は、可変コンデンサVC1の動作方向が正しくない可能性があるので、ステップ8へ進む。
なお、反射係数絶対値Γは、時々刻々と変化するので、厳密にステップ8の処理を行うと、動作方向が、正転→反転→正転→反転・・・・という具合になり、制御が安定しない場合がある。そのため、制御の安定を図るために、例えば、所定回数だけNoが続くまで、同一の動作方向で動作させるようにしても良い。
図4は、本発明の第2の実施形態に係る高周波装置の構成例と高周波装置と負荷5との接続関係を示す図である。なお、高周波電源装置1aとインピーダンス調整器3aとを組み合わせて構成された装置を高周波装置とする。
可変コンデンサVC2は、可変コンデンサVC1と同様に、モータによって、そのキャパシタンスを変更できるように構成されている。また、モータは、可変コンデンサVC1と同様に、リアクタンス素子制御回路19によって制御されるように構成されている。
すなわち、高周波電源装置1の出力周波数の制御と可変コンデンサVC1の制御との組み合わせで考えた場合、両者を組み合わせても、反射波電力を最小にできない場合が存在する。
このフローチャートに沿って、反射係数絶対値Γを小さくさせる制御について説明する。なお、このフローチャートは、可変コンデンサVC2のキャパシタンスを変更させた制御を中心に説明したものである。また、この制御は、図2のフローチャートにおいて、ステップ6の特殊例(「No」であっても条件を満たしたときには、ステップ4またはステップ2に進む)からステップ4に進む間に挿入されるものであるので、この部分を抜き出して図示している。
ステップ9では、可変コンデンサVC2を定めた動作方向に、所定量だけ動作させる。なお、初期値は、キャパシタンスが小さくなる方向とする。もちろん、初期値をキャパシタンスが大きくなる方向としてもよい。
基準値よりも小さくなっている場合(Yes)は、反射係数絶対値Γを小さくするという目的を達成したので、図2のステップ4へ進む。基準値よりも小さくなっていない場合(No)は、可変コンデンサVC1の動作量が少ないのか否かを判定するために、ステップ11へ進む。
反射係数絶対値Γが減少した場合(Yes)は、可変コンデンサVC2の動作量が少ない可能性があるので、ステップ9へ進む。反射係数絶対値Γが減少していない場合(No)は、可変コンデンサVC2の動作方向が正しくない可能性があるので、ステップ12へ進む。
なお、反射係数絶対値Γは、時々刻々と変化するので、厳密にステップ12の処理を行うと、動作方向が、正転→反転→正転→反転・・・・という具合になり、制御が安定しない場合がある。そのため、制御の安定を図るために、例えば、所定回数だけNoが続くまで、同一の動作方向で動作させるようにしても良い。
1a 高周波電源装置
2 伝送線路
3 インピーダンス調整器
3a インピーダンス調整器
4 負荷接続部
5 負荷
11 周波数制御回路
12 発振回路
13 電力増幅器
14 電力測定器
15 電力制御回路
16 電力設定器
17 ON/OFF制御回路
18 反射係数演算回路
19 リアクタンス素子制御回路
Z0 電源側インピーダンス
Z1 負荷インピーダンス
ZL 負荷側インピーダンス
Claims (10)
- 負荷に高周波電力を供給するための高周波装置であって、
発振周波数を可変できる発振手段と、
前記発振手段から出力される発振信号を増幅させて電力発生源となり、前記負荷に高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、
反射波電力に関係する反射波情報を演算して、演算した反射波情報を出力する反射波情報演算手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御する周波数制御手段と、
前記高周波電力供給手段と負荷との間に設けられ、且つ少なくとも1つの可変リアクタンス素子を有し、前記可変リアクタンス素子の1つが制御可能なインピーダンス調整手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御する素子制御手段と、
を備え、
前記素子制御手段は、前記周波数制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御したにも関わらず、前記反射波情報が基準値よりも小さくならなかったときに、前記制御可能な可変リアクタンス素子の制御を開始することを特徴とする高周波装置。 - 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段が制御可能な可変リアクタンス素子の制御を行っている間は、前記発振手段の発振周波数の制御を行わないことを特徴とする請求項1に記載の高周波装置。
- 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御して、前記反射波情報が基準値よりも小さくなった後に、再度、前記反射波情報が基準値よりも大きくなったときに、制御を再開することを特徴とする請求項2に記載の高周波装置。
- 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御したにも関わらず、前記反射波情報が基準値よりも小さくならなかったときに、制御を再開することを特徴とする請求項2に記載の高周波装置。
- 負荷に高周波電力を供給するための高周波装置であって、
発振周波数を可変できる発振手段と、
前記発振手段から出力される発振信号を増幅させて電力発生源となり、前記負荷に高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、
反射波電力に関係する反射波情報を演算して、演算した反射波情報を出力する反射波情報演算手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御する周波数制御手段と、
前記高周波電力供給手段と負荷との間に設けられ、且つ複数の可変リアクタンス素子を有し、前記複数の可変リアクタンス素子のうちの2つが制御可能なインピーダンス調整手段と、
前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子のいずれか1つを制御する素子制御手段と、
を備え、
前記素子制御手段は、前記周波数制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記発振手段の発振周波数を制御したにも関わらず、前記反射波情報が基準値よりも小さくならなかったときに、前記制御可能な2つの可変リアクタンス素子のうちの一方の制御を開始することを特徴とする高周波装置。 - 前記素子制御手段は、前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な2つの可変リアクタンス素子のうちの一方を制御したにも関わらず、前記反射波情報が基準値よりも小さくならなかったときに、前記制御可能な2つの可変リアクタンス素子のうちの他方の制御を開始することを特徴とする請求項5に記載の高周波装置。
- 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段が制御可能な可変リアクタンス素子の制御を行っている間は、前記発振手段の発振周波数の制御を行わないことを特徴とする請求項5または6に記載の高周波装置。
- 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御して、前記反射波情報が基準値よりも小さくなった後に、再度、前記反射波情報が基準値よりも大きくなったときに、制御を再開することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の高周波装置。
- 前記周波数制御手段は、前記素子制御手段において、前記反射波情報が小さくなるように、前記インピーダンス調整手段の制御可能な可変リアクタンス素子を制御したにも関わらず、前記反射波情報が基準値よりも小さくならなかったときに、制御を再開することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の高周波装置。
- 前記インピーダンス調整手段の制御可能な2つの可変リアクタンス素子の一方は、高周波電力供給手段よりも負荷側のインピーダンスの抵抗成分を変化させる機能を有しており、制御可能な2つの可変リアクタンス素子の他方は、高周波電力供給手段よりも負荷側のインピーダンスのリアクタンス成分を変化させる機能を有していることを特徴とする請求項5〜9のいずれかに記載の高周波装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007093974A JP4887197B2 (ja) | 2006-12-29 | 2007-03-30 | 高周波装置 |
US11/954,436 US8203859B2 (en) | 2006-12-29 | 2007-12-12 | High frequency device with variable frequency and variable load impedance matching |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006356787 | 2006-12-29 | ||
JP2006356787 | 2006-12-29 | ||
JP2007093974A JP4887197B2 (ja) | 2006-12-29 | 2007-03-30 | 高周波装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008181846A JP2008181846A (ja) | 2008-08-07 |
JP2008181846A5 JP2008181846A5 (ja) | 2010-04-30 |
JP4887197B2 true JP4887197B2 (ja) | 2012-02-29 |
Family
ID=39725567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007093974A Active JP4887197B2 (ja) | 2006-12-29 | 2007-03-30 | 高周波装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4887197B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10270418B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-04-23 | Mks Korea Ltd. | Impedance matching method and impedance matching system |
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---|---|---|---|---|
JP5411683B2 (ja) * | 2009-12-14 | 2014-02-12 | 東京エレクトロン株式会社 | インピーダンス整合装置 |
JP5430437B2 (ja) * | 2010-02-17 | 2014-02-26 | 三菱電機株式会社 | 点火装置および点火方法 |
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KR101294380B1 (ko) | 2011-07-28 | 2013-08-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 임피던스 정합장치 및 임피던스 정합방법 |
JP5847496B2 (ja) | 2011-09-01 | 2016-01-20 | 株式会社日立国際電気 | プラズマ生成用電源装置及びプラズマ生成パラメータ設定方法 |
KR101262593B1 (ko) | 2011-12-19 | 2013-05-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 임피던스 정합 장치 및 방법 |
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JP6045118B2 (ja) * | 2012-03-06 | 2016-12-14 | 株式会社日立国際電気 | 高周波電源装置およびその整合方法 |
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JP6084419B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-02-22 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
JP6084417B2 (ja) | 2012-09-28 | 2017-02-22 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2007
- 2007-03-30 JP JP2007093974A patent/JP4887197B2/ja active Active
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US10270418B2 (en) | 2013-09-30 | 2019-04-23 | Mks Korea Ltd. | Impedance matching method and impedance matching system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008181846A (ja) | 2008-08-07 |
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Legal Events
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