JP4747133B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、従来の液晶表示装置の概略的な斜視図である。図1に示したように、液晶パネル51は、液晶層(図示せず)を間に相互に離隔して構成された第1基板5と第2基板10とで構成されて、第2基板10と向かい合う第1基板5の一面には、ブラックマトリックス6と赤色、緑色、青色のカラーフィルター7a、7b、7cと、カラーフィルター上に、透明な共通電極9が構成される。
このような構成によって、画素領域Pは、ゲート配線14とデータ配線26が交差して定義される領域になって、両配線14、26の交差地点には、薄膜トランジスタTが構成される。
図2は、従来の液晶表示装置用アレイ基板の概略的な平面図である。図2に示したように、アレイ基板は、絶縁基板10上に、一方向に延長されたゲート配線14と、これとは交差して画素領域Pを定義するデータ配線26を含む。
図4Aと図4Bは、従来の液晶表示装置用液晶注入口の図である。図4Aは、図3のIVa領域を拡大した図であって、図4Bは、図4AのIVb−IVb線に沿って切断した断面図である。
図9に示したように、突出パターンCP1を含む共通配線112は、第1基板102の内部面に形成されて、液晶注入口108を含む第1シールパターン106は、共通配線112と第1基板102上に形成される。また、第2シールパターン110は、液晶注入口108に形成される。
Claims (5)
- 相互に対向するように配置された第1基板及び第2基板と、
前記第1基板の内部面上に相互に交差するように形成されたゲート配線及びデータ配線と、
前記ゲート配線及び前記データ配線が交差する地点に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタに連結された画素電極と、
前記第2基板の内部面上に形成された共通電極と、
前記第1基板及び前記第2基板の間で、前記第1基板及び前記第2基板の端側を取り囲み、一側に液晶注入口を有するシールパターンと、
前記第1基板及び前記第2基板の間で、前記シールパターン内に介されている液晶層と、
前記液晶注入口を封止する封止パターンと、
前記第1基板の内部面上の前記第1基板の端側を取り囲んで前記シールパターンと接触し、前記封止パターンと重畳されないように前記液晶注入口の外側に前記封止パターンと離隔された突出パターンを含む共通配線と
を含むことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記シールパターンは、多数の導電性ボールを含む導電性シールパターンであることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記シールパターンは、前記共通電極と接触して前記共通電極と共通配線を電気的に連結することを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記共通配線は、液晶パネルの表示領域と非表示領域間の境界部を取り囲む領域に位置するに当たって、別途のオープン部なしに構成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 第1基板上に共通配線を形成する段階と、
前記共通配線上に液晶注入口を有する第1シールパターンを形成する段階と、
第2基板上に共通電極を形成する段階と、
前記第1基板及び前記第2基板を前記第1シールパターンを利用して合着する段階と、
前記液晶注入口を通じて液晶層を注入する段階と、
前記液晶注入口を第2シールパターンで封止する段階と、
前記第1基板の方から前記第2シールパターンをUV硬化する段階と
を含み、
前記共通配線は、前記第2シールパターンと重畳されないように前記液晶注入口の外側に前記第2シールパターンと離隔された突出パターンを含む
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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