JP2002162638A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 狭額縁化を図りながら、封口樹脂となる紫外
線硬化型樹脂を低照度，短時間の紫外光照射により完全
に硬化させることができ、配向乱れ等による表示むらの
ない液晶表示素子を実現する。 【解決手段】 額縁状の遮光パターン１２をカラーフィ
ルタ基板の最外周に形成しシール樹脂１４を重ねて配置
することにより狭額縁化を図り、液晶注入口１６部分の
遮光パターン１２に切欠き部１３を設ける。カラーフィ
ルタ基板とＴＦＴ基板を貼り合わせて、液晶注入し、液
晶注入口１６部分に紫外線硬化型樹脂を塗布した後、カ
ラーフィルタ基板の外側から紫外光を照射することによ
り、遮光パターン１２の切欠き部１３を通過して液晶注
入口１６の内部に入り込んだ紫外線硬化型樹脂にも照射
でき、封口樹脂１５となる紫外線硬化型樹脂を低照度，
短時間の紫外光照射により完全に硬化させることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子およ
びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大型の液晶表示素子は、低消費電
力、省スペース等の点からモニター用としてＣＲＴと置
き換えられつつあり、従来の主用途であったワープロ、
パソコンなどに比べ、更に大型化が図られてきており、
既存の基板サイズから如何に大きなサイズのパネルが何
面取れるかという点についての設計上の考慮が必要であ
る。一方、ワープロやパソコンなどの用途では狭額縁化
が一つのターゲットとなっており、いずれも表示領域外
の面積をできるだけ少なくしようという方向にある。

【０００３】従来、ＴＦＴアレイ基板と対向して配置さ
れるカラーフィルタ基板は、樹脂あるいはクロム等で形
成された各画素毎のブラックマトリックス（以下ＢＭと
略す）と同じ層で表示領域外周に形成された額縁状パタ
ーン（以下ＢＭ額縁と略す）の更に外周にパターンの無
い透明な領域を有し、その部分にシール樹脂を描画ある
いは印刷を行っていた。この液晶表示素子の概略平面図
を図７に示す。この液晶表示素子は、液晶注入口１６を
除く周囲にシール樹脂１４を描画あるいは印刷したカラ
ーフィルタ基板を、ＴＦＴアレイ基板と対向配置させて
貼り合わせた後、液晶注入口１６から液晶を注入し、そ
の後、液晶注入口１６に紫外線硬化型樹脂を塗布し、そ
の紫外線硬化型樹脂に紫外光を照射することにより硬化
させて封口樹脂１５としている。なお、図７において、
１２はＢＭ額縁、１７はＢＭ額縁１２の内側領域である
表示領域、１８はＢＭ額縁１２の外側の周囲の領域であ
りカラーフィルタ基板の透光性領域である。

【０００４】しかしながら表示領域１７外の面積を少な
くするために、カラーフィルタ基板においてシール樹脂
１４をＢＭ額縁１２上に形成する場合がある。この場
合、図８に示すように、カラーフィルタ基板においてＢ
Ｍ額縁１２の周囲の透光性領域１８（図７）が無くなる
分、パネルの狭額縁化が図れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図７の構成のように、
カラーフィルタ基板の周囲に透光性領域１８がある場合
は、封口樹脂１５となる紫外線硬化型樹脂に紫外光を照
射する際、カラーフィルタ基板の外側から透光性領域１
８を通じて液晶注入口１６内部の紫外線硬化型樹脂にも
直接照射できるため、低照度，短時間の紫外光照射によ
り紫外線硬化型樹脂を完全に硬化させることができた。

【０００６】しかしながら、図８の構成の場合には狭額
縁化のため、カラーフィルタ基板の周囲には、図７のよ
うな透光性領域１８がなく、液晶注入口１６を含め周囲
は全て紫外光を透過しないＢＭ額縁１２が配置されてい
るため、封口樹脂１５となる紫外線硬化型樹脂にカラー
フィルタ基板の外側から紫外光を照射する際、紫外光が
ＢＭ額縁１２により遮られ、液晶注入口１６内部に入っ
ている紫外線硬化型樹脂に直接照射できない。パネル端
面側から照射しても、光路が長くなりガラスに吸収され
て実際の照射エネルギーが低下するため、液晶と接して
いる部分を十分に硬化させるためには照射時間を長くす
る、あるいは照度を上げる等の必要があった。また硬化
が不十分なままだと、未硬化樹脂が液晶内に溶出し、配
向乱れ等による表示むらが発生するという問題があっ
た。

【０００７】また、ＴＦＴアレイ基板では電極引出しの
無い液晶注入口１６側の辺でも、ほぼ最外周まで線欠陥
等のレスキューのためのアルミ等で形成された配線があ
り、紫外光が透過しない構造となっていたため、ＴＦＴ
アレイ基板の外側からの紫外光照射による樹脂硬化はで
きなかった。

【０００８】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
て、狭額縁化を図りながら、封口樹脂となる紫外線硬化
型樹脂を低照度，短時間の紫外光照射により完全に硬化
させることができ、配向乱れ等による表示むらのない液
晶表示素子およびその製造方法を提供することを目的と
する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の液晶表示
素子は、表示領域の外周に額縁状の遮光パターンを形成
した第１の基板と、第１の基板と対向配置された第２の
基板と、第１の基板と第２の基板とを一定の間隙をもっ
て液晶注入口を除く周囲を貼り合わせたシール樹脂と、
第１の基板と第２の基板との間隙に注入された液晶と、
液晶注入口を封止した紫外線硬化型樹脂とを備えた液晶
表示素子であって、第１の基板および第２の基板のうち
いずれかの基板の液晶注入口部分に紫外線硬化型樹脂を
硬化させるための紫外光を通過する透光性窓部を設けた
ことを特徴とする。

【００１０】この請求項１の構成によれば、額縁状の遮
光パターンとシール樹脂とを重ねて配置することにより
狭額縁化を図っても、第１の基板および第２の基板のう
ちいずれかの基板の液晶注入口部分に紫外線硬化型樹脂
を硬化させるための紫外光を通過する透光性窓部を設け
ているため、透光性窓部を設けた基板の外側から紫外光
を照射することにより液晶注入口の内部に入り込んだ紫
外線硬化型樹脂にも照射でき、封口樹脂となる紫外線硬
化型樹脂を低照度，短時間の紫外光照射により完全に硬
化させることができ、生産性がよく、配向乱れ等による
表示むらのない信頼性の高い液晶表示素子を実現でき
る。

【００１１】請求項２記載の液晶表示素子は、請求項１
記載の液晶表示素子において、透光性窓部は、第１の基
板の液晶注入口部分の遮光パターンに設けた切欠き部で
あることを特徴とする。このように透光性窓部を構成で
きる。

【００１２】請求項３記載の液晶表示素子は、請求項１
記載の液晶表示素子において、透光性窓部は、第１の基
板の液晶注入口部分の遮光パターンに設けた孔部である
ことを特徴とする。このように透光性窓部を構成でき
る。

【００１３】請求項４記載の液晶表示素子は、請求項１
記載の液晶表示素子において、第２の基板は液晶注入口
のある辺側の周辺に配線パターンが配置され、透光性窓
部は、第２の基板の液晶注入口部分の配線パターンを内
側へ迂回させることによって空いた配線パターン非形成
領域であることを特徴とする。このように透光性窓部を
構成できる。

【００１４】請求項５記載の液晶表示素子は、請求項１
記載の液晶表示素子において、第２の基板は液晶注入口
のある辺側の周辺に配線パターンが配置され、透光性窓
部は、第２の基板の液晶注入口部分の配線パターンの形
成領域内に設けた配線パターンを形成しない配線パター
ン非形成部であることを特徴とする。このように透光性
窓部を構成できる。

【００１５】請求項６記載の液晶表示素子は、請求項
１，２または３記載の液晶表示素子において、シール樹
脂と遮光パターンとが重なって配置されたことを特徴と
する。これにより狭い額縁化が図れる。

【００１６】請求項７記載の液晶表示素子は、請求項４
または５記載の液晶表示素子において、シール樹脂と遮
光パターンと配線パターンとが重なって配置されたこと
を特徴とする。これにより狭い額縁化が図れる。

【００１７】請求項８記載の液晶表示素子の製造方法
は、表示領域の外周に額縁状の遮光パターンを配置し、
かつ液晶注入口部分の遮光パターンに切欠き部または孔
部を設けた第１の基板を準備するとともに、第１の基板
と対向配置される第２の基板を準備し、第１の基板と第
２の基板とを一定の間隙をもって液晶注入口を除く周囲
をシール樹脂で貼り合わせ、第１の基板と第２の基板と
の間隙に液晶注入口から液晶を注入した後、液晶注入口
に紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外光を第１の基板の外
側から遮光パターンの切欠き部または孔部を通じて液晶
注入口内部の紫外線硬化型樹脂に照射し硬化させること
を特徴とする。

【００１８】この請求項８の製造方法により、額縁状の
遮光パターンとシール樹脂とを重ねて配置することによ
り狭額縁化を図っても、封口樹脂となる紫外線硬化型樹
脂を低照度，短時間の紫外光照射により完全に硬化させ
ることができ、生産性がよく、配向乱れ等による表示む
らのない信頼性の高い液晶表示素子を実現できる。

【００１９】請求項９記載の液晶表示素子の製造方法
は、表示領域の外周に額縁状の遮光パターンを有した第
１の基板を準備するとともに、液晶注入口のある辺側の
周辺に配線パターンを配置し、かつ液晶注入口部分の配
線パターンを内側へ迂回させることによって空いた配線
パターン非形成領域、または液晶注入口部分の配線パタ
ーンの形成領域内に配線パターンを形成しない配線パタ
ーン非形成部を設けた第２の基板を準備し、第１の基板
と第２の基板とを一定の間隙をもって液晶注入口を除く
周囲をシール樹脂で貼り合わせ、第１の基板と第２の基
板との間隙に液晶注入口から液晶を注入した後、液晶注
入口に紫外線硬化型樹脂を塗布し、紫外光を第２の基板
の外側から配線パターン非形成領域または配線パターン
非形成部を通じて液晶注入口内部の紫外線硬化型樹脂に
照射し硬化させることを特徴とする。

【００２０】この請求項９の製造方法により、額縁状の
遮光パターンとシール樹脂とを重ねて配置することによ
り狭額縁化を図っても、封口樹脂となる紫外線硬化型樹
脂を低照度，短時間の紫外光照射により完全に硬化させ
ることができ、生産性がよく、配向乱れ等による表示む
らのない信頼性の高い液晶表示素子を実現できる。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態の液晶
表示素子の構成を示す斜視図である。図２は本発明の実
施の形態の液晶表示素子における薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）アレイ基板のＴＦＴ画素部の概略構成を示す平面
図である。図３は本発明の実施の形態の液晶表示素子に
おける液晶注入口部分の透視平面図である。

【００２２】図１に示すように、本実施の形態の液晶表
示素子は、ＴＦＴアレイ基板（第２の基板）１とＴＦＴ
アレイ基板１に対向して配置されたカラーフィルタ基板
（第１の基板）２とのそれぞれに配向膜３ａ，３ｂが形
成されており、ＴＦＴアレイ基板１とカラーフィルタ基
板２との間に液晶層４（４ａは液晶分子）を挟持し、Ｔ
ＦＴアレイ基板１およびカラーフィルタ基板２の外部に
それぞれ偏光板５ａ，５ｂを配置している。

【００２３】図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１
は、マトリクス状に配置された複数の信号電極配線６お
よび複数の走査電極配線７と、各画素内にその交差点に
対応して設けられ、スイッチング素子として機能する少
なくとも１つのＴＦＴ素子８と、このＴＦＴ素子８に接
続された櫛形状の画素電極配線９と、この画素電極配線
９と咬合するように形成された櫛形状の共通電極配線１
０とを有している。なお、本実施の形態において、走査
電極配線７と平行方向の寸法に関し、画素電極配線９と
共通電極配線１０とは、それぞれ幅を５μｍ、間隔を１
２μｍに保つように形成されている。また、図２の場
合、画素電極配線９に前段（または後段）の走査電極配
線７との間で容量を形成するための蓄積容量部１１を設
けている。

【００２４】一方、ＴＦＴアレイ基板１に対し対向基板
であるカラーフィルタ基板２は、各画素のＲＧＢの色層
の周辺に光抜けを防止するために、黒色の樹脂にてＢＭ
が形成されている。また、狭額縁化を図った図８の場合
と同様に、表示領域１７周辺にも基板のほぼ最外周とな
る位置に額縁状の遮光パターン（ＢＭ額縁）１２が黒色
樹脂を用いて４ｍｍ幅で形成されている。ただし、本実
施の形態では、２箇所の液晶注入口１６（図８参照）の
部分では、図３に示すように、ＢＭ額縁１２に切欠き部
（透光性窓部）１３を設けている。この切欠き部１３
は、黒色樹脂を形成していない部分で、例えば基板端面
からの奥行きが１．５ｍｍあり、この部分におけるＢＭ
額縁１２の幅は２．５ｍｍと狭くなっている。

【００２５】本実施の形態において、ＴＦＴアレイ基板
１およびカラーフィルタ基板２上には、固形分濃度４％
のポリイミドワニスをオフセット印刷し、２２０℃で１
時間加熱することにより配向膜３ａ、３ｂが形成され
る。この配向膜の膜厚は約６００Åである。そして、Ｔ
ＦＴアレイ基板１の配向膜３ａ表面を画素電極配線９お
よび共通電極配線１０と平行な方向から１０゜傾いた方
向（ラビング方向２６）にレーヨン布でラビング処理を
行う。カラーフィルタ基板２は、ＴＦＴアレイ基板１と
貼り合わせたときにＴＦＴアレイ基板１のラビング方向
２６と一致する方向にラビング処理を行う。このカラー
フィルタ基板２には、ＢＭ額縁１２の２箇所の切欠き部
１３に液晶注入口１６が形成されるように、径が４μｍ
のガラスファイバーを混錬したシール樹脂１４をＢＭ額
縁１２上に１ｍｍ幅で描画した。このとき、液晶注入口
１６付近に島状（図３では円形状）のシール樹脂２５も
形成している。この島状のシール樹脂２５は、液晶注入
口１６が大きい場合に局所的なギャップむらを防止する
ために設けるもので、一般的な手法である。

【００２６】このＴＦＴアレイ基板１とカラーフィルタ
基板２に対して、液晶分子４ａの配向方位が同じになる
ようにスペーサ（図示せず）として３μｍのビーズを介
して貼り合わせ、シール樹脂１４を１５０℃で１．５時
間加熱して硬化した。

【００２７】このパネルに複屈折率Δｎが０．０９０で
誘電異方性Δεが正のＣＮ系のネマティック液晶を真空
注入法にて注入し、加圧装置にて一定時間加圧した後、
液晶液晶注入口１６に紫外線硬化型のアクリル系封口樹
脂１５をディスペンサーにて塗布し、パネルの加圧を徐
々に解除し、封口樹脂１５が液晶注入口１６に１ｍｍ以
上入り込んだ状態で、カラーフィルタ基板２側を上に
し、その斜め上方から超高圧水銀灯を用い、２００ｍＷ
／ｃｍ² の照度の紫外光を５秒間照射した。

【００２８】比較例として図８のようなＢＭ額縁１２に
切欠き部の無いカラーフィルタ基板を用いて、それ以外
は全く同様に液晶表示パネルを作製した。各々の液晶表
示パネルを１２０℃で１時間アニール処理をした後、各
液晶表示パネルに偏光板５ａ，５ｂをその偏光軸がラビ
ング方向に対して平行および直交となるように貼り付
け、２種類のノーマリーブラックモードの液晶表示素子
を得た。

【００２９】これらの液晶表示素子を温度６０℃，湿度
９０％の槽中に５００時間放置した後、点灯表示して比
較した結果、本実施の形態の液晶表示素子では特に異常
は見られなかったが、比較例のＢＭ額縁１２に切欠き部
の無い液晶表示素子では液晶注入口１６付近の表示領域
１７内で配向乱れによる表示むらが発生した。

【００３０】上記のような結果を得た理由について説明
する。紫外線硬化型樹脂として一般的なアクリル系樹脂
は未硬化状態では液晶との相溶性が比較的高く、特に液
晶材料がＣＮ系等を含む不純物を取りこみ易い組成系で
は未硬化状態での接触時間をできるだけ短くすることが
配向乱れ等の発生を防ぐのに効果的である。すなわち、
本実施の形態の場合、ＢＭ額縁１２に切欠き部１３を設
けているため、紫外光が切欠き部１３を通じて液晶注入
口１６内部の封口樹脂１５にも直接照射され、完全に硬
化することができたのに対し、比較例のようにＢＭ額縁
１２に切欠き部が無い場合は、紫外光がＢＭ額縁１２に
遮られ、液晶注入口１６内部の封口樹脂１５が完全に硬
化されず、その未硬化樹脂が液晶内に溶出し、配向乱れ
等による表示むらが発生したものと言える。このＢＭ額
縁１２に切欠き部の無い場合、紫外光の照度を上げたり
照射時間を長くすることで、改善の効果は見られるが、
ランプ寿命や生産性に影響するため好ましくない。

【００３１】以上のように本実施の形態によれば、カラ
ーフィルタ基板２において、ＢＭ額縁１２を基板の最外
周部分に形成し、シール樹脂１４をＢＭ額縁１２と重ね
て配置することにより狭額縁化を図りながら、液晶注入
口１６部分のＢＭ額縁１２に切欠き部１３を設けたこと
により封口樹脂１５となる紫外線硬化型樹脂を低照度，
短時間の紫外光照射により完全に硬化させることがで
き、生産性がよく、配向乱れ等による表示むらのない信
頼性の高い液晶表示素子を実現できる。

【００３２】なお、ＢＭ額縁１２に、切欠き部１３を設
ける代わりに、図４に示すように黒色樹脂を形成してい
ない孔部（透光性窓部）１９を設けても同様の効果が得
られる。

【００３３】次に、本発明の他の実施の形態について説
明する。この他の実施の形態においても図１，図２に示
された構成は同様である。また、カラーフィルタ基板２
は、前述の比較例と同様、図８のようにＢＭ額縁１２に
切欠き部や孔部の無い構成である。この他の実施の形態
における特徴は、ＴＦＴアレイ基板１にある。

【００３４】先にも述べたように、従来、ＴＦＴアレイ
基板１では電極引出しの無い液晶注入口１６側の辺で
も、ほぼ最外周まで線欠陥等のレスキューのためのアル
ミ等で形成された配線があり、紫外光が透過しない構造
となっている。

【００３５】図５，図６はそれぞれこの他の実施の形態
の液晶表示素子における液晶注入口部分のＴＦＴアレイ
基板１の平面図である。図５の場合、線欠陥等のレスキ
ューのための配線パターン２１を液晶注入口１６部分で
内側に迂回させることによって配線パターン非形成領域
（透光性窓部）２２を設けている。また、図６の場合、
線欠陥等のレスキューのための配線パターン形成領域２
３内で、液晶注入口１６部分に配線パターンを形成しな
い配線パターン非形成部（透光性窓部）２４を設けてい
る。

【００３６】図５や図６に示すＴＦＴアレイ基板１と、
図８のようなＢＭ額縁１２を形成しシール樹脂１４を描
画したカラーフィルタ基板２とを貼り合わせ、液晶注入
後、液晶注入口に紫外線硬化型樹脂を塗布し、その後、
紫外線硬化型樹脂に紫外光を照射する。この紫外光を照
射する際、この場合、ＴＦＴアレイ基板１側を上にし、
その斜め上方から照射することにより、紫外光が配線パ
ターン非形成領域２２または配線パターン非形成部２４
を通じて液晶注入口１６内部の紫外線硬化型樹脂にも直
接照射され、完全に硬化することができる。

【００３７】この他の実施の形態によれば、ＴＦＴアレ
イ基板１の液晶注入口１６部分に、紫外光が透過できる
ように配線パターン非形成領域２２または配線パターン
非形成部２４を設けたことにより、前述の実施の形態同
様、封口樹脂となる紫外線硬化型樹脂を低照度，短時間
の紫外光照射により完全に硬化させることができ、生産
性がよく、配向乱れ等による表示むらのない信頼性の高
い液晶表示素子を実現できる。

【００３８】また、前述の実施の形態同様、カラーフィ
ルタ基板２において、ＢＭ額縁１２を基板の最外周部分
に形成し、シール樹脂１４をＢＭ額縁１２と重ねて配置
することにより狭額縁化を図ることができる。この場
合、図５の配線パターン２１や図６の配線パターン形成
領域２３は、シール樹脂１４およびＢＭ額縁１２とは重
ねて配置される。

【００３９】なお、上記の実施の形態において、ＢＭ額
縁１２は、黒色樹脂の代わりに、クロム等の金属で形成
してもよい。

【００４０】また、上記の実施の形態ではＩＰＳモード
の液晶表示素子の場合について説明したが、ＴＮモード
等のＩＰＳ以外のモードでも同様に効果があることは言
うまでも無い。

【００４１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、額縁状の
遮光パターンとシール樹脂とを重ねて配置することによ
り狭額縁化を図っても、第１の基板および第２の基板の
うちいずれかの基板の液晶注入口部分に紫外線硬化型樹
脂を硬化させるための紫外光を通過する透光性窓部を設
け、透光性窓部を設けた基板の外側から紫外光を照射す
ることにより液晶注入口の内部に入り込んだ紫外線硬化
型樹脂にも照射でき、封口樹脂となる紫外線硬化型樹脂
を低照度，短時間の紫外光照射により完全に硬化させる
ことができ、生産性がよく、配向乱れ等による表示むら
のない信頼性の高い液晶表示素子を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の液晶表示素子の構成を示
す斜視図

【図２】本発明の実施の形態の液晶表示素子におけるＴ
ＦＴアレイ基板のＴＦＴ画素部の概略構成を示す平面図

【図３】本発明の実施の形態の液晶表示素子における液
晶注入口部分の透視平面図

【図４】本発明の実施の形態の液晶表示素子における液
晶注入口部分の透視平面図

【図５】本発明の他の実施の形態の液晶表示素子におけ
るＴＦＴアレイ基板の液晶注入口部分の平面図

【図６】本発明の他の実施の形態の液晶表示素子におけ
るＴＦＴアレイ基板の液晶注入口部分の平面図

【図７】従来の液晶表示素子の概略平面図

【図８】他の従来の液晶表示素子の概略平面図

【符号の説明】

１ ＴＦＴアレイ基板 ２ カラーフィルタ基板 ３ａ，３ｂ 配向膜 ４ 液晶層 ４ａ 液晶分子 ５ａ，５ｂ 偏光板 ６ 信号電極配線 ７ 走査電極配線 ８ ＴＦＴ素子 ９ 画素電極配線 １０ 共通電極配線 １１ 蓄積容量部 １２ ＢＭ額縁 １３ 切欠き部 １４ シール樹脂 １５ 封口樹脂 １６ 液晶注入口 １７ 表示領域 １９ 孔部 ２１ 配線パターン ２２ 配線パターン非形成領域 ２３ 配線パターン形成領域 ２４ 配線パターン非形成部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 分元 博文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 前田 典久 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山本 義則 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H089 MA07Z NA25 NA40 QA12 QA15 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y GA13 LA12 LA30 2H092 GA33 JA24 JB22 JB51 JB67 MA10 PA08 PA11

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表示領域の外周に額縁状の遮光パターン
   を形成した第１の基板と、前記第１の基板と対向配置さ
   れた第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板とを一
   定の間隙をもって液晶注入口を除く周囲を貼り合わせた
   シール樹脂と、前記第１の基板と第２の基板との間隙に
   注入された液晶と、前記液晶注入口を封止した紫外線硬
   化型樹脂とを備えた液晶表示素子であって、 前記第１の基板および第２の基板のうちいずれかの基板
   の前記液晶注入口部分に前記紫外線硬化型樹脂を硬化さ
   せるための紫外光を通過する透光性窓部を設けたことを
   特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】 透光性窓部は、第１の基板の液晶注入口
   部分の遮光パターンに設けた切欠き部であることを特徴
   とする請求項１記載の液晶表示素子。
3. 【請求項３】 透光性窓部は、第１の基板の液晶注入口
   部分の遮光パターンに設けた孔部であることを特徴とす
   る請求項１記載の液晶表示素子。
4. 【請求項４】 第２の基板は液晶注入口のある辺側の周
   辺に配線パターンが配置され、透光性窓部は、前記第２
   の基板の液晶注入口部分の前記配線パターンを内側へ迂
   回させることによって空いた配線パターン非形成領域で
   あることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
5. 【請求項５】 第２の基板は液晶注入口のある辺側の周
   辺に配線パターンが配置され、透光性窓部は、前記第２
   の基板の液晶注入口部分の前記配線パターンの形成領域
   内に設けた配線パターンを形成しない配線パターン非形
   成部であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
   子。
6. 【請求項６】 シール樹脂と遮光パターンとが重なって
   配置されたことを特徴とする請求項１，２または３記載
   の液晶表示素子。
7. 【請求項７】 シール樹脂と遮光パターンと配線パター
   ンとが重なって配置されたことを特徴とする請求項４ま
   たは５記載の液晶表示素子。
8. 【請求項８】 表示領域の外周に額縁状の遮光パターン
   を配置し、かつ液晶注入口部分の前記遮光パターンに切
   欠き部または孔部を設けた第１の基板を準備するととも
   に、前記第１の基板と対向配置される第２の基板を準備
   し、前記第１の基板と第２の基板とを一定の間隙をもっ
   て液晶注入口を除く周囲をシール樹脂で貼り合わせ、前
   記第１の基板と第２の基板との間隙に前記液晶注入口か
   ら液晶を注入した後、前記液晶注入口に紫外線硬化型樹
   脂を塗布し、紫外光を前記第１の基板の外側から前記遮
   光パターンの切欠き部または孔部を通じて前記液晶注入
   口内部の前記紫外線硬化型樹脂に照射し硬化させること
   を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
9. 【請求項９】 表示領域の外周に額縁状の遮光パターン
   を有した第１の基板を準備するとともに、液晶注入口の
   ある辺側の周辺に配線パターンを配置し、かつ前記液晶
   注入口部分の前記配線パターンを内側へ迂回させること
   によって空いた配線パターン非形成領域、または前記液
   晶注入口部分の前記配線パターンの形成領域内に配線パ
   ターンを形成しない配線パターン非形成部を設けた第２
   の基板を準備し、前記第１の基板と第２の基板とを一定
   の間隙をもって液晶注入口を除く周囲をシール樹脂で貼
   り合わせ、前記第１の基板と第２の基板との間隙に前記
   液晶注入口から液晶を注入した後、前記液晶注入口に紫
   外線硬化型樹脂を塗布し、紫外光を前記第２の基板の外
   側から前記配線パターン非形成領域または前記配線パタ
   ーン非形成部を通じて前記液晶注入口内部の前記紫外線
   硬化型樹脂に照射し硬化させることを特徴とする液晶表
   示素子の製造方法。