JPH10239690A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPH10239690A JPH10239690A JP4775397A JP4775397A JPH10239690A JP H10239690 A JPH10239690 A JP H10239690A JP 4775397 A JP4775397 A JP 4775397A JP 4775397 A JP4775397 A JP 4775397A JP H10239690 A JPH10239690 A JP H10239690A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造工程数を増加させることなく、表示性能
が良く、かつ、高い歩留りを達成することができる構成
の液晶表示素子を提供することである。 【解決手段】 本発明に係る電極基板及び液晶表示素子
並びにそれらの製造方法は、液晶表示素子の液晶セルを
構成することとなる透明基板上にスペーサより上部の層
として形成された配向膜のラビング方向を、透明基板に
平行な平面内におけるスペーサの長手方向とほぼ直交す
る向きとするものである。
が良く、かつ、高い歩留りを達成することができる構成
の液晶表示素子を提供することである。 【解決手段】 本発明に係る電極基板及び液晶表示素子
並びにそれらの製造方法は、液晶表示素子の液晶セルを
構成することとなる透明基板上にスペーサより上部の層
として形成された配向膜のラビング方向を、透明基板に
平行な平面内におけるスペーサの長手方向とほぼ直交す
る向きとするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子及び
その製造方法に係り、特に、液晶表示素子用電極基板上
に配設されるスペーサの方向と配向膜のラビング方向と
の関係の設定に関する。
その製造方法に係り、特に、液晶表示素子用電極基板上
に配設されるスペーサの方向と配向膜のラビング方向と
の関係の設定に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の液晶セルを構成する２枚
のガラス基板の間隔、即ち、セルギャップを適切な距離
に設定し、かつ、各部で均一に保持することにより、適
切かつ均一な液晶層の厚みを保持することは、液晶表示
素子の高表示品質を実現する上で極めて重要な要素であ
る。
のガラス基板の間隔、即ち、セルギャップを適切な距離
に設定し、かつ、各部で均一に保持することにより、適
切かつ均一な液晶層の厚みを保持することは、液晶表示
素子の高表示品質を実現する上で極めて重要な要素であ
る。
【０００３】液晶セルのセルギャップを適切に設定し保
持すべく２枚のガラス基板間に、配向膜形成前にフォト
レジスト等により形成された角柱状やピラミッド型等の
スペーサを用いることが提案されている。
持すべく２枚のガラス基板間に、配向膜形成前にフォト
レジスト等により形成された角柱状やピラミッド型等の
スペーサを用いることが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、配向膜
形成前にフォトレジスト等により形成されたスペーサに
おいても、以下のような問題がある。
形成前にフォトレジスト等により形成されたスペーサに
おいても、以下のような問題がある。
【０００５】即ち、このようなスペーサは、配向膜形成
前の基板上に形成されるため、スペーサ形成後に配向膜
を形成し、スペーサにより凸部が生じた配向膜にラビン
グ処理を施さなければならない。ラビング処理は、配向
膜近傍の液晶分子をラビング方向に配向させるための処
理であり、通常、織布、フェルト、ラバー、刷毛、ガー
ゼ等を用いて配向膜表面を一定方向に擦ることにより行
う。従って、スペーサによる凸部が生じた配向膜を一定
方向に擦ると、そのラビング方向から見た凸部の「影」
になる部分には十分にラビング処理が施されず、その
「影」の部分で液晶分子の配向不良による光漏れ等が発
生し、表示不良領域が生ずるという問題がある。その対
策として、この表示不良領域を遮光膜で覆うことも行わ
れているが、画素開口率が低下し、表示が暗くなるとい
う欠点がある。
前の基板上に形成されるため、スペーサ形成後に配向膜
を形成し、スペーサにより凸部が生じた配向膜にラビン
グ処理を施さなければならない。ラビング処理は、配向
膜近傍の液晶分子をラビング方向に配向させるための処
理であり、通常、織布、フェルト、ラバー、刷毛、ガー
ゼ等を用いて配向膜表面を一定方向に擦ることにより行
う。従って、スペーサによる凸部が生じた配向膜を一定
方向に擦ると、そのラビング方向から見た凸部の「影」
になる部分には十分にラビング処理が施されず、その
「影」の部分で液晶分子の配向不良による光漏れ等が発
生し、表示不良領域が生ずるという問題がある。その対
策として、この表示不良領域を遮光膜で覆うことも行わ
れているが、画素開口率が低下し、表示が暗くなるとい
う欠点がある。
【０００６】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、製造工程数を増加させることなく、表
示性能が良く、かつ、高い歩留りを達成することができ
る構成の液晶表示素子及びその製造方法を提供すること
である。
で、その目的は、製造工程数を増加させることなく、表
示性能が良く、かつ、高い歩留りを達成することができ
る構成の液晶表示素子及びその製造方法を提供すること
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示素
子及びその製造方法は、液晶表示素子を構成する２枚の
電極基板のうち少なくとも一方の非画素開口部に、突起
状のスペーサを形成してから配向膜を形成し、基板と平
行な平面内におけるスペーサの長手方向と配向膜のラビ
ング方向とがほぼ直交するようにスペーサを配設しラビ
ング処理を行う点に特徴がある。
子及びその製造方法は、液晶表示素子を構成する２枚の
電極基板のうち少なくとも一方の非画素開口部に、突起
状のスペーサを形成してから配向膜を形成し、基板と平
行な平面内におけるスペーサの長手方向と配向膜のラビ
ング方向とがほぼ直交するようにスペーサを配設しラビ
ング処理を行う点に特徴がある。
【０００８】基板と平行な平面内における突起状のスペ
ーサの長手方向がラビング方向とほぼ直交するようにス
ペーサを配設し、スペーサによる凸部が生じた配向膜を
一定方向に擦ってラビング処理を行うことにより、その
ラビング方向から見た凸部の「影」になる部分のラビン
グ処理が不十分な領域、即ち、表示不良領域が最小限に
抑制され、表示性能の高い液晶表示素子を安価に得るこ
とができる。カラー表示型液晶表示素子の場合も、表示
が明るく高品質表示のものを安価に得ることができる。
ーサの長手方向がラビング方向とほぼ直交するようにス
ペーサを配設し、スペーサによる凸部が生じた配向膜を
一定方向に擦ってラビング処理を行うことにより、その
ラビング方向から見た凸部の「影」になる部分のラビン
グ処理が不十分な領域、即ち、表示不良領域が最小限に
抑制され、表示性能の高い液晶表示素子を安価に得るこ
とができる。カラー表示型液晶表示素子の場合も、表示
が明るく高品質表示のものを安価に得ることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示素子
及びその製造方法の実施の形態について、図面を参照し
ながら説明する。
及びその製造方法の実施の形態について、図面を参照し
ながら説明する。
【００１０】図１は、本発明に係る液晶表示素子を構成
する電極基板の平面図、図２は、本発明に係る液晶表示
素子の断面図である。図１及び図２は、アクティブマト
リクス型液晶表示素子３０の場合の構成を示しており、
液晶表示素子用基板であるアレイ基板１１及び対向基板
１６との間に液晶層２０が挟持されている。本発明に係
る液晶表示素子は、以下のように作製され構成されてい
る。
する電極基板の平面図、図２は、本発明に係る液晶表示
素子の断面図である。図１及び図２は、アクティブマト
リクス型液晶表示素子３０の場合の構成を示しており、
液晶表示素子用基板であるアレイ基板１１及び対向基板
１６との間に液晶層２０が挟持されている。本発明に係
る液晶表示素子は、以下のように作製され構成されてい
る。
【００１１】アレイ基板１１は、透明基板上に、通常の
プロセスにより成膜及びパターニングを繰り返して複数
の走査線（図示せず）と複数の信号線３１とを交差する
ように形成し、その交差部ごとにスイッチング素子であ
るＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１２及び画素電極１３を
配設して、縦横１００画素、合計１００００画素を有す
るものとする。次いで、配向膜材料としてＡＬ−１０５
１（商品名（日本合成ゴム（株）製））を、ＴＦＴ、画
素電極及び電極配線である走査線、信号線等を覆ってア
レイ基板１１全面に５００オングストロームの厚さに塗
布し、ラビング処理を行って配向膜１４を形成した。
プロセスにより成膜及びパターニングを繰り返して複数
の走査線（図示せず）と複数の信号線３１とを交差する
ように形成し、その交差部ごとにスイッチング素子であ
るＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１２及び画素電極１３を
配設して、縦横１００画素、合計１００００画素を有す
るものとする。次いで、配向膜材料としてＡＬ−１０５
１（商品名（日本合成ゴム（株）製））を、ＴＦＴ、画
素電極及び電極配線である走査線、信号線等を覆ってア
レイ基板１１全面に５００オングストロームの厚さに塗
布し、ラビング処理を行って配向膜１４を形成した。
【００１２】一方、対向基板１６は、以下のように作製
する。最初に、透明基板上に感光性の黒色樹脂をスピン
ナを用いて塗布し、９０℃の温度で１０分間の乾燥させ
た後、所定のパターン形状のフォトマスクを用いて波長
３６５ｎｍ、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2 の光で露光した
あとｐＨ１１．５のアルカリ水洛液により現像し、２０
０℃の温度で６０分間の焼成を行って膜厚２．０μｍの
遮光層１７ＢＭを格子状に形成する。次に、赤色顔料を
分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２
０００（商品名（（富士ハントテクノロジー（株）
製））をスピンナにより全面に塗布し、スペーサ１５、
赤色着色層を配設する部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介して波長３６５ｎｍ、露光量１００ｍＪ／
ｃｍ2 の光で露光したあと、水酸化カリウム（ＫＯＨ）
の１％水溶液で１０秒間現像し、その部分にスペーサ１
５の一部を構成するスペーサ用赤色着色層１５Ｒ、表示
に関与する表示用赤色着色層１７Ｒを形成する。ここで
は、スペーサ１５の配設箇所は、遮光層１７Ｂ上とし、
この遮光層１７ｂは対向するアクティブマトリクス基板
の配線にほぼ対応して配置されている。赤色着色層と同
様に、緑色、青色各色ともスペーサ用着色層１５Ｇ、１
５Ｂ、表示用着色層１７Ｇ、１７Ｂを形成した後、２３
０℃の温度で１時間焼成する。ここでは、緑色、青色着
色層１７Ｇ、１７Ｂの着色材料は、ＣＧ−２０００、Ｃ
Ｂ−２０００（商品名（（富士ハントテクノロジー
（株）製））を用いた。
する。最初に、透明基板上に感光性の黒色樹脂をスピン
ナを用いて塗布し、９０℃の温度で１０分間の乾燥させ
た後、所定のパターン形状のフォトマスクを用いて波長
３６５ｎｍ、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2 の光で露光した
あとｐＨ１１．５のアルカリ水洛液により現像し、２０
０℃の温度で６０分間の焼成を行って膜厚２．０μｍの
遮光層１７ＢＭを格子状に形成する。次に、赤色顔料を
分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２
０００（商品名（（富士ハントテクノロジー（株）
製））をスピンナにより全面に塗布し、スペーサ１５、
赤色着色層を配設する部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介して波長３６５ｎｍ、露光量１００ｍＪ／
ｃｍ2 の光で露光したあと、水酸化カリウム（ＫＯＨ）
の１％水溶液で１０秒間現像し、その部分にスペーサ１
５の一部を構成するスペーサ用赤色着色層１５Ｒ、表示
に関与する表示用赤色着色層１７Ｒを形成する。ここで
は、スペーサ１５の配設箇所は、遮光層１７Ｂ上とし、
この遮光層１７ｂは対向するアクティブマトリクス基板
の配線にほぼ対応して配置されている。赤色着色層と同
様に、緑色、青色各色ともスペーサ用着色層１５Ｇ、１
５Ｂ、表示用着色層１７Ｇ、１７Ｂを形成した後、２３
０℃の温度で１時間焼成する。ここでは、緑色、青色着
色層１７Ｇ、１７Ｂの着色材料は、ＣＧ−２０００、Ｃ
Ｂ−２０００（商品名（（富士ハントテクノロジー
（株）製））を用いた。
【００１３】スペーサ１５は、各スペーサ用着色層１５
Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを積層することにより形成したが、
その形状及び配置は、スペーサの太さがスペーサの厚さ
方向にほぼ一定である柱型又はスペーサの太さがスペー
サの厚さ方向に徐々に変化するピラミッド型のものを基
板の所定の一辺に対し、スペーサ１５の長手方向が４５
°の角度をなす向きとなるように配置した。ここで、ス
ペーサ１５の長手方向とは、基板に平行なスペーサの断
面を横断又は縦断する線分が最長となる方向をいう。
Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを積層することにより形成したが、
その形状及び配置は、スペーサの太さがスペーサの厚さ
方向にほぼ一定である柱型又はスペーサの太さがスペー
サの厚さ方向に徐々に変化するピラミッド型のものを基
板の所定の一辺に対し、スペーサ１５の長手方向が４５
°の角度をなす向きとなるように配置した。ここで、ス
ペーサ１５の長手方向とは、基板に平行なスペーサの断
面を横断又は縦断する線分が最長となる方向をいう。
【００１４】遮光層１７ＢＭ、各着色層１７Ｒ・Ｇ・Ｂ
及びスペーサ１７Ｓ形成後、透明導電膜であるＩＴＯ膜
からなる共通電極１８をスパッタ法により１５００オン
グストロームの厚さに成膜する。
及びスペーサ１７Ｓ形成後、透明導電膜であるＩＴＯ膜
からなる共通電極１８をスパッタ法により１５００オン
グストロームの厚さに成膜する。
【００１５】さらに、共通電極１８上全面に、ＴＦＴア
レイ基板１１上の配向膜１４と同様の配向膜材料（ＡＬ
−１０５１（商品名（日本合成ゴム（株）製）））を５
００オングストロームの厚さに塗布し、ラビング処理を
行って配向膜２１を形成した。この配向膜２１のラビン
グ方向Ｄは、基板の上記所定の一辺に対し１３５°の角
度をなす向き、即ち、基板と平行な平面内におけるスペ
ーサ１７Ｓの長手方向とほぼ直交する向きとした。
レイ基板１１上の配向膜１４と同様の配向膜材料（ＡＬ
−１０５１（商品名（日本合成ゴム（株）製）））を５
００オングストロームの厚さに塗布し、ラビング処理を
行って配向膜２１を形成した。この配向膜２１のラビン
グ方向Ｄは、基板の上記所定の一辺に対し１３５°の角
度をなす向き、即ち、基板と平行な平面内におけるスペ
ーサ１７Ｓの長手方向とほぼ直交する向きとした。
【００１６】尚、本実施の形態では、スペーサの長手方
向が基板の所定の一辺に対し４５度の角度をなす向きと
なるように配設しているが、これはラビング処理方向と
の関係で設定したものであり、スペーサの長手方向とラ
ビング方向とがほぼ直交する関係になっていればよい。
向が基板の所定の一辺に対し４５度の角度をなす向きと
なるように配設しているが、これはラビング処理方向と
の関係で設定したものであり、スペーサの長手方向とラ
ビング方向とがほぼ直交する関係になっていればよい。
【００１７】本発明に係る電極基板及び液晶表示素子並
びにそれらの製造方法において、スペーサを覆って形成
された配向膜のラビング方向Ｄと、基板と平行な平面内
における当該スペーサの長手方向とがほぼ直交するよう
に、スペーサを形成し、ラビング処理を行うこととした
のは、発明者による実験結果の分析に基づくものであ
る。
びにそれらの製造方法において、スペーサを覆って形成
された配向膜のラビング方向Ｄと、基板と平行な平面内
における当該スペーサの長手方向とがほぼ直交するよう
に、スペーサを形成し、ラビング処理を行うこととした
のは、発明者による実験結果の分析に基づくものであ
る。
【００１８】例えば、スペーサが４層の積層からなる柱
型スペーサ（例えば、縦１０μｍ×横２０μｍ）の場
合、基板と平行な平面内におけるスペーサの長手方向に
沿ってラビング処理を行うと、スペーサの「影」となっ
てラビング処理が不十分となり、液晶分子の配向不良に
よる光漏れが発生する部分のスペーサからの距離の範囲
は約１０μｍ、軽度の表示不良領域となる部分のスペー
サからの距離の範囲は約２０μｍであるのに対し、基板
と平行な平面内におけるスペーサの長手方向にほぼ直交
する向きにラビング処理を行うと、上記距離の範囲はそ
れぞれ約３μｍ、約７μｍに縮小された。
型スペーサ（例えば、縦１０μｍ×横２０μｍ）の場
合、基板と平行な平面内におけるスペーサの長手方向に
沿ってラビング処理を行うと、スペーサの「影」となっ
てラビング処理が不十分となり、液晶分子の配向不良に
よる光漏れが発生する部分のスペーサからの距離の範囲
は約１０μｍ、軽度の表示不良領域となる部分のスペー
サからの距離の範囲は約２０μｍであるのに対し、基板
と平行な平面内におけるスペーサの長手方向にほぼ直交
する向きにラビング処理を行うと、上記距離の範囲はそ
れぞれ約３μｍ、約７μｍに縮小された。
【００１９】また、スペーサが４層の積層からなるピラ
ミッド型スペーサであって、最上層が例えば、縦１０μ
ｍ×横２０μｍのサイズの場合においても、基板と平行
な平面内におけるスペーサの長手方向に沿ってラビング
処理を行うと、スペーサの「影」となってラビング処理
が不十分となり、液晶分子の配向不良による光漏れが発
生する部分のスペーサからの距離の範囲は約４μｍ、軽
度の表示不良領域となる部分のスペーサからの距離の範
囲は１６μｍであるのに対し、基板と平行な平面内にお
けるスペーサの長手方向にほぼ直交する向きにラビング
処理を行うと、上記距離の範囲はそれぞれ約１μｍ、約
７μｍに縮小された。
ミッド型スペーサであって、最上層が例えば、縦１０μ
ｍ×横２０μｍのサイズの場合においても、基板と平行
な平面内におけるスペーサの長手方向に沿ってラビング
処理を行うと、スペーサの「影」となってラビング処理
が不十分となり、液晶分子の配向不良による光漏れが発
生する部分のスペーサからの距離の範囲は約４μｍ、軽
度の表示不良領域となる部分のスペーサからの距離の範
囲は１６μｍであるのに対し、基板と平行な平面内にお
けるスペーサの長手方向にほぼ直交する向きにラビング
処理を行うと、上記距離の範囲はそれぞれ約１μｍ、約
７μｍに縮小された。
【００２０】このほかにも多数のサンプルについて対照
実験を行った結果、基板と平行な平面内におけるスペー
サの長手方向にほぼ直交する向きにラビング処理を行う
と、ほとんどすべての場合に、表示不良領域が最小限に
縮小されることが判明したため、これらの実験結果に基
づき、本発明に係る電極基板及び液晶表示素子並びにそ
れらの製造方法における条件設定を行うこととしたもの
である。
実験を行った結果、基板と平行な平面内におけるスペー
サの長手方向にほぼ直交する向きにラビング処理を行う
と、ほとんどすべての場合に、表示不良領域が最小限に
縮小されることが判明したため、これらの実験結果に基
づき、本発明に係る電極基板及び液晶表示素子並びにそ
れらの製造方法における条件設定を行うこととしたもの
である。
【００２１】さらに、配向不良領域は、スペーサの積層
の形状に拘わらず最下層のスペーサパターンの大きさに
影響される傾向にあることが判明した。また、スペーサ
の形状も、基板に平行な断面積が基板表面から離隔する
に従い段階的又は連続的に減少するピラミッド型スペー
サの方が、基板に平行な断面積がほぼ一定の柱型スペー
サよりも、若干配向不良領域が小さい傾向にあることが
判明した。
の形状に拘わらず最下層のスペーサパターンの大きさに
影響される傾向にあることが判明した。また、スペーサ
の形状も、基板に平行な断面積が基板表面から離隔する
に従い段階的又は連続的に減少するピラミッド型スペー
サの方が、基板に平行な断面積がほぼ一定の柱型スペー
サよりも、若干配向不良領域が小さい傾向にあることが
判明した。
【００２２】尚、スペーサが、複数層が積層されて形成
されたものであるときは、スペーサを構成する各層のう
ち最下層の基板と平行な平面内における長手方法が、配
向膜のラビング方向Ｄとほぼ直交するように、スペーサ
を形成し、ラビング処理を行うとよい。また、スペーサ
は、単層で形成してもよい。
されたものであるときは、スペーサを構成する各層のう
ち最下層の基板と平行な平面内における長手方法が、配
向膜のラビング方向Ｄとほぼ直交するように、スペーサ
を形成し、ラビング処理を行うとよい。また、スペーサ
は、単層で形成してもよい。
【００２３】配向膜２１のラビング処理後、液晶材料注
入口を除き対向基板１６の周縁部に沿って接着剤１９を
印刷し、さらに、接着剤１９の周囲の電極転移電極上
に、アレイ基板１１から対向基板１６に電圧を印加する
ための電極転移材を形成した。そして、アレイ基板１１
上の配向膜１４と対向基板１６上の配向膜２１とが対向
し、かつ、配向膜１４のラビング方向と配向膜２１のラ
ビング方向とが９０°の角度をなすように、アレイ基板
１１と対向基板１６とを対向させて接着剤を加熱して硬
化させ、アレイ基板１１と対向基板１６とを貼り合わせ
た。最後に、通常の方法により、液晶材料注入口から液
晶材料としてＺＬＩ−１５６５（商品名（Ｅ．メルク社
製））にＳ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを注入し
て液晶層２０とし、液晶材料注入後、注入口を紫外線硬
化型樹脂で封止した。
入口を除き対向基板１６の周縁部に沿って接着剤１９を
印刷し、さらに、接着剤１９の周囲の電極転移電極上
に、アレイ基板１１から対向基板１６に電圧を印加する
ための電極転移材を形成した。そして、アレイ基板１１
上の配向膜１４と対向基板１６上の配向膜２１とが対向
し、かつ、配向膜１４のラビング方向と配向膜２１のラ
ビング方向とが９０°の角度をなすように、アレイ基板
１１と対向基板１６とを対向させて接着剤を加熱して硬
化させ、アレイ基板１１と対向基板１６とを貼り合わせ
た。最後に、通常の方法により、液晶材料注入口から液
晶材料としてＺＬＩ−１５６５（商品名（Ｅ．メルク社
製））にＳ８１１を０．１ｗｔ％添加したものを注入し
て液晶層２０とし、液晶材料注入後、注入口を紫外線硬
化型樹脂で封止した。
【００２４】以上のように作製したカラー型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、コントラスト比が高く、高
品質表示の画像表示を行うことができた。
マトリクス液晶表示素子は、コントラスト比が高く、高
品質表示の画像表示を行うことができた。
【００２５】上述のように本発明は、透明基板上に形成
されたスペーサの長手方向と、当該スペーサその他の配
設物を覆って形成された配向膜のラビング方向との関係
に関するものであり、透明基板に平行な平面内における
スペーサの長手方向と配向膜のラビング方向とがほぼ直
交する関係になっていれば、画素電極及びスイッチング
素子が形成されたアレイ基板、共通電極が形成された対
向基板のいずれにも適用できるものである。
されたスペーサの長手方向と、当該スペーサその他の配
設物を覆って形成された配向膜のラビング方向との関係
に関するものであり、透明基板に平行な平面内における
スペーサの長手方向と配向膜のラビング方向とがほぼ直
交する関係になっていれば、画素電極及びスイッチング
素子が形成されたアレイ基板、共通電極が形成された対
向基板のいずれにも適用できるものである。
【００２６】また、本発明の構成は、液晶表示素子を構
成する２枚の基板のうちの一方の基板に対向電極、画素
電極等が形成される横電界モードの液晶表示素子にも適
用でき、この場合においても、対向電極、画素電極等が
形成されたアレイ基板、電極が形成されていない対向基
板のいずれにも適用することができる。
成する２枚の基板のうちの一方の基板に対向電極、画素
電極等が形成される横電界モードの液晶表示素子にも適
用でき、この場合においても、対向電極、画素電極等が
形成されたアレイ基板、電極が形成されていない対向基
板のいずれにも適用することができる。
【００２７】尚、本発明に係る液晶表示素子において
は、着色層は、２枚の透明基板のうちいずれの基板に形
成してもよい。
は、着色層は、２枚の透明基板のうちいずれの基板に形
成してもよい。
【００２８】本発明に係る電極基板及び液晶表示素子並
びにそれらの製造方法におけるスペーサは、上述のよう
に、配向膜形成後の基板上に散布するスペーサではな
く、配向膜形成前にフォトレジスト等により所定の位置
に形成された角柱状やピラミッド型等のスペーサである
ので、スペーサの配置の不均一による光漏れや表示不良
も発生しない。
びにそれらの製造方法におけるスペーサは、上述のよう
に、配向膜形成後の基板上に散布するスペーサではな
く、配向膜形成前にフォトレジスト等により所定の位置
に形成された角柱状やピラミッド型等のスペーサである
ので、スペーサの配置の不均一による光漏れや表示不良
も発生しない。
【００２９】
【発明の効果】本発明に係る電極基板及び液晶表示素子
並びにそれらの製造方法によれば、液晶表示素子の液晶
セルを構成することとなる透明基板上にスペーサより上
部の層として形成された配向膜のラビング方向は、透明
基板に平行な平面内におけるスペーサの長手方向とほぼ
直交する向きとしたので、製造工程数を増加させること
なく、表示性能が良く、かつ、高い歩留りを達成するこ
とができる構成の液晶表示素子を提供することができ
る。
並びにそれらの製造方法によれば、液晶表示素子の液晶
セルを構成することとなる透明基板上にスペーサより上
部の層として形成された配向膜のラビング方向は、透明
基板に平行な平面内におけるスペーサの長手方向とほぼ
直交する向きとしたので、製造工程数を増加させること
なく、表示性能が良く、かつ、高い歩留りを達成するこ
とができる構成の液晶表示素子を提供することができ
る。
【図１】本発明に係る電極基板の平面図。
【図２】本発明に係る液晶表示素子の断面図。
１１ アレイ基板 １２ ＴＦＴ（薄膜トランジスタ） １３ 画素電極 １４ 配向膜 １５ スペーサ １５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ スペーサ用着色層 １６ 対向基板 １７ＢＭ 遮光層 １７Ｒ、１７Ｇ、１７Ｂ 着色層 １８ 対向電極（共通電極） １９ 接着剤 ２０ 液晶層 ２１ 配向膜 ３０ 液晶表示素子 ３１ 信号線 Ｄ 配向膜のラビング方向
Claims (12)
- 【請求項１】２枚の透明基板と、 前記２枚の透明基板のうちいずれか一方の透明基板上に
基板間隔を設定し保持すべく配設されたスペーサと、 前記２枚の透明基板間に挟持された液晶層とからなる液
晶表示素子において、 前記スペーサが配設された透明基板上に前記スペーサよ
り上部の層として形成され、前記スペーサが配設された
透明基板に平行な平面内における前記スペーサの長手方
向とほぼ直交する向きにラビング処理が施された配向膜
を備えたことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】請求項１に記載の液晶表示素子において、 前記スペーサは、前記透明基板に平行な断面積が前記透
明基板表面から離隔するに従い段階的又は連続的に減少
するものであることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項３】請求項１又は２のいずれかに記載の液晶表
示素子において、 前記スペーサは、複数層が積層されたものであることを
特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項４】請求項３に記載の液晶表示素子において、 前記スペーサが配設された透明基板上には着色層が配設
され、 前記スペーサは、前記着色層が積層されたものであるこ
とを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項５】請求項３又は４のいずれかに記載の液晶表
示素子において、 前記配向膜の前記ラビング処理の向きは、前記透明基板
に平行な平面内における前記スペーサの最下層の長手方
向とほぼ直交する向きであることを特徴とする液晶表示
素子。 - 【請求項６】請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶表
示素子において、 前記スペーサは、前記画像を表示するために光透過率の
制御を行う画素開口部以外の部分に配設されたものであ
ることを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項７】所定の透明基板と共に液晶表示素子の液晶
セルを構成する予定の他の透明基板との基板間隔を設定
し保持すべく前記所定の透明基板上にスペーサを形成す
るスペーサ形成工程と、 画像を表示するために電圧が印加される透明電極を前記
所定の透明基板上に形成する電極形成工程と、 前記スペーサより上部の層として配向膜を前記所定の透
明基板上に形成する配向膜形成工程と、 前記所定の透明基板に平行な平面内における前記スペー
サの長手方向とほぼ直交する向きに、前記配向膜に対し
てラビング処理を行うラビング処理工程と、 前記所定の透明基板と前記他の透明基板とを貼り合わせ
て前記液晶セルを組み立て、かつ、前記液晶セルに液晶
材料を封入する液晶セル組立工程とを備えたことを特徴
とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項８】請求項７に記載の液晶表示素子の製造方法
において、 前記スペーサは、前記所定の透明基板に平行な断面積が
前記所定の透明基板表面から離隔するに従い段階的又は
連続的に減少するものであることを特徴とする液晶表示
素子の製造方法。 - 【請求項９】請求項７又は８のいずれかに記載の液晶表
示素子の製造方法において、 前記スペーサは、複数層が積層されたものであることを
特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１０】請求項９に記載の液晶表示素子の製造方
法において、 前記スペーサが配設された透明基板上には着色層が配設
され、 前記スペーサは、前記着色層が積層されたものであるこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１１】請求項９又は１０のいずれかに記載の液
晶表示素子の製造方法において、 前記配向膜に対する前記ラビング処理の向きは、前記所
定の透明基板に平行な平面内における前記スペーサの最
下層の長手方向とほぼ直交する向きであることを特徴と
する液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項１２】請求項７乃至１１のいずれかに記載の液
晶表示素子の製造方法において、 前記スペーサは、前記画像を表示するために光透過率の
制御を行う画素開口部以外の部分に配設されたものであ
ることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4775397A JP3828976B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4775397A JP3828976B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10239690A true JPH10239690A (ja) | 1998-09-11 |
| JP3828976B2 JP3828976B2 (ja) | 2006-10-04 |
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ID=12784128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4775397A Expired - Fee Related JP3828976B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
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| JP (1) | JP3828976B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000171627A (ja) * | 1998-12-07 | 2000-06-23 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| KR100565737B1 (ko) * | 1998-12-11 | 2006-05-25 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 |
| KR100708617B1 (ko) * | 1999-02-05 | 2007-04-18 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 액정표시장치 |
| JP2009250991A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及び電子機器 |
| JP2018142021A (ja) * | 1999-07-06 | 2018-09-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP4775397A patent/JP3828976B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000171627A (ja) * | 1998-12-07 | 2000-06-23 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
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| US7248325B2 (en) | 1999-02-05 | 2007-07-24 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display having particular electrodes and particular common line |
| US7453541B2 (en) | 1999-02-05 | 2008-11-18 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display having particular electrodes and a spacer |
| JP2018142021A (ja) * | 1999-07-06 | 2018-09-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
| JP2009250991A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置及び電子機器 |
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| JP3828976B2 (ja) | 2006-10-04 |
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| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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