JP2000171627A

JP2000171627A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2000171627A
Application number: JP10347040A
Authority: JP
Inventors: Natsuko Maya; 奈津子磨矢; Hitoshi Hado; 仁羽藤; Nobuko Fukuoka; 暢子福岡; Atsuyuki Manabe; 敦行真鍋; Kiyoshi Shobara; 潔庄原; Daisuke Miyazaki; 大輔宮崎; Muneharu Akiyoshi; 宗治秋吉
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1998-12-07
Filing date: 1998-12-07
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶層または配向膜と接触する材料に起因す
る表示むらなどを防止した液晶表示装置を提供するこ
と。【解決手段】着色層の緑色部分が、液晶層に直接接触
する、または配向膜を介して接触する面積が、シール部
により囲まれた液晶層の面積の１３％以下であり、か
つ、表示に関与するアクティブエリアの面積の１２％以
下であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタを用
いた液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、配向膜を有する2枚の
電極基板を、配向膜が対向するように配置し、2枚の基
板間に液晶層を挟持して構成されている。これら２枚の
電極基板は、周辺領域に配置されたシール材および封止
材によって貼り合わされており、これら2枚の基板間に
は、基板間距離を保持するために粒状スペーサまたはフ
ォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるス
ペーサ柱が配置されている。

【０００３】液晶表示装置においてカラー表示する場合
には、基板の一方に、多くの場合、赤色（Ｒ），緑色
（Ｇ），青色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。
ある場合には、これに対向する他方の基板として、基板
の一主面上に交差して配置された複数の信号線及び複数
の走査線と、この交差部毎に配置されたスイッチング素
子を有するいわゆるアクティブマトリクスアレイ基板が
用いられ、また、ある場合には、アクティブマトリクス
アレイ基板上に着色層が配置される。そして、一般的に
は、アレイ基板およびこれに対向する対向基板には、配
向膜が形成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装
置において、着色層材料など、液晶層または配向膜と直
接接する材料に起因して、表示むら、焼き付けが発生す
る場合があった。

【０００５】本発明は、このような事情の下になされ、
液晶層または配向膜と接触する材料に起因する表示むら
などを防止した液晶表示装置を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記課題に
つき、種々検討を加えた結果、着色層の中の有機不純物
が液晶層や配向膜中に溶出し、その結果、配向むらや焼
き付け現象などの表示むらが発生することを見出した。
すなわち、着色層には、アルキル酸、フェニルカルボン
酸、フェニルカルボン酸誘導体、フェニレンジカルボン
酸、フェニレンジカルボン酸誘導体、アルキルアミン、
アニリン、アニリン誘導体、フェニレンジアミン、フェ
ニレンジアミン誘導体、フェニレンアミンカルボン酸、
フェニレンアミンカルボン酸誘導体、アルキルイミド、
フタルイミド誘導体、シアノベンゼン誘導体、およびジ
シアノベンゼン誘導体などの有機不純物が着色層に含ま
れており、これが液晶層や配向膜中に溶出し、その結
果、表示むらが生ずることが分かった。

【０００７】更に、これらの不純物は、着色層の中でも
緑色層に多く含まれることが分かった。すなわち、通
常、液晶表示装置のカラーフィルタの緑色着色材料に用
いられる顔料は、Ｇ７やＧ３６などのような、塩素化銅
フタロシアニン顔料、あるいは塩素化臭素化銅フタロシ
アニン顔料であるが、これらは上記のような不純物が多
く含まれている。また、緑色着色材料を着色ペーストに
分散する際の分散剤にも上記のような多くの不純物が含
まれている。

【０００８】更にまた、上記の顔料や分散剤は、高温時
やアルカリへの接触、あるいは紫外線への暴露によって
分解し、上記の有機不純物を発生することが分かった。
このように、緑色層は、他の着色層、すなわち例えば赤
色層や青色層に比べて多くの不純物を液晶層や配向膜層
に発生させることが分かった。

【０００９】そこで、本発明者らは、表示むらを防止す
るには、緑色層の露出面積をできるだけ少なくすること
が重要であることを見出した。

【００１０】即ち、着色層を有するカラーフィルタ基板
とそれと対向してアクティブマトリクスアレイ基板とを
対向して設置する液晶表示素子の場合、通常はカラーフ
ィルタ基板上の着色層上の電極は着色層の全面を覆って
いることが多いが、必要に応じて、部分的に対向電極が
パターニングされて、着色層は直接、または、必要応じ
て設けられて配向膜を介して液晶層に接触することにな
る。この場合、緑色層の露出面積をできるだけ少なくす
ることが重要になる。

【００１１】また、アレイ基板上に、信号線、走査線及
びスイッチング素子の少なくとも一部を覆うように着色
層が配置され、これに形成されるスルーホール部により
スイッチング素子とパターニングされた画素電極が接続
される構成の場合には、着色層には保護層が設けられて
いないと、必然的に着色層が画素電極から露出すること
になる。この場合、緑色層の露出面積をできるだけ少な
くすることが非常に重要になる。

【００１２】更に、表示に関与するアクティブエリアか
らシールまでの領域は、通常、額縁部と呼ばれ、配線が
配置されているので表示には寄与しないが、場合によっ
ては着色層が直接、または、必要に応じて設けられて配
向膜を介して液晶層に接触する。この場合も、緑色層の
露出面積をできるだけ少なくすることが重要になる。

【００１３】発明者らは、上述の各種構成の液晶表示装
置について、緑色層が直接あるいは配向膜を介して液晶
層に接触する面積を変え、その時の表示ムラを評価した
結果、緑色層が直接あるいは配向膜を介して液晶層に接
触する面積をある値以下に設定することにより、緑色層
からの不純物の溶出を実質的に防止することができ、配
向むらや焼き付け現象などの表示むらの発生を抑制でき
ることを見いだした。

【００１４】本発明は、このような知見に基づくもので
ある。

【００１５】すなわち、本発明は、基板と、前記基板上
に配置された着色層と、前記着色層上に配置された電極
とを有するカラーフィルタ基板、前記カラーフィルタ基
板と対向して配置された対向基板、前記カラーフィルタ
基板と前記対向基板とを所定の間隙をあけて配置し、接
着するための、液晶注入口を除いて前記基板の外周に配
置されたシール部、前記間隙を保持するスペーサ、前記
液晶注入口から前記間隙に注入されてなる液晶層、およ
び前記液晶注入口を封止する封止材を具備する液晶表示
装置において、前記着色層の緑色部分が、液晶層に直接
接触する、または配向膜を介して接触する面積が、前記
シール部により囲まれた液晶層の面積の１３％以下であ
り、かつ、表示に関与するアクティブエリアの面積の１
２％以下であることを特徴とする液晶表示装置を提供す
る。

【００１６】また、本発明は、基板の一主面上に交差し
て配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記交
差部毎に配置されたスイッチング素子と、前記信号線、
前記走査線及び前記スイッチング素子の少なくとも一部
を覆うように配置された少なくとも緑色部分を有する着
色層と、前記着色層に形成されたスルーホール部を通し
て前記スイッチング素子の各々に接続された前記着色層
上に配置された複数の画素電極とを備えたレイ基板、前
記アレイ基板と対向して配置された対向基板、前記アレ
イ基板と前記対向基板とを所定の間隙をあけて配置し、
接着するための、液晶注入口を除いて前記基板の外周に
配置されたシール部、前記間隙間を保持するスペーサ、
前記液晶注入口から前記間隙に注入されてなる液晶層、
および前記液晶注入口を封止する封止材を具備する液晶
表示装置において、前記着色層の緑色部分が、前記液晶
層に直接接する、または前記アレイ基板上に設けられた
配向膜を介して接触する面積が、前記シール部により囲
まれた液晶層の面積の１３％以下であり、かつ、スイッ
チング素子及び各画素電極からなり表示に関与するアク
ティブエリアの面積の１２％以下であることを特徴とす
る液晶表示装置を提供する。

【００１７】上記液晶表示装置において、着色層の緑色
部分が、液晶層に直接接する、またはアレイ基板上に設
けられた配向膜を介して接触する面積は、シール部によ
り囲まれた液晶層の面積の４％以下であり、かつ、アク
ティブエリアの面積の３％以下であることが好ましい。

【００１８】この場合、アクティブエリアとは、全画素
形成領域のことであり、画素形成領域とは、画素電極
と、それに関係したＴＦＴと、信号線と、ゲート線と、
それらの間の領域とを合計した領域を意味する。

【００１９】以上の各領域を図３により説明すると、図
３（ａ）において斜線で示す領域がアクティブエリアで
あり、図３（ｂ）において斜線で示す領域の面積が、シ
ール部で囲まれた液晶層の面積である。

【００２０】なお、上述の有機不純物として、下記
（１）式で表されるアルキル酸、下記（２）式で表され
るフェニルカルボン酸またはフェニルカルボン酸誘導
体、下記（３）式で表されるフェニレンジカルボン酸ま
たはフェニレンジカルボン酸誘導体、下記（４）式で表
されるアルキルアミン、下記（５）式で表されるアニリ
ンまたはアニリン誘導体、下記（６）式で表されるフェ
ニレンジアミンまたはフェニレンジアミン誘導体、下記
（７）式で表されるフェニレンアミンカルボン酸または
フェニレンアミンカルボン酸誘導体、下記（８）式で表
されるアルキルイミド、下記（９）式で表されるフタル
イミド誘導体、下記（１０）式で表されるシアノベンゼ
ン誘導体、下記（１１）式で表されるジシアノベンゼン
誘導体が挙げられる。

【００２１】

【化７】

【００２２】

【化８】

【００２３】

【化９】

【００２４】以上の式において、Ｒ₁は炭素数１ないし
２０のアルキル基、Ｒ₂は―Ｈまたは炭素数１ないし２
０のアルキル基、Ｒ₃は炭素数１ないし2０のアルキル
基、Ｖ，Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚは炭素数１ないし１０のアルキ
ル基、炭素数１ないし１０のアルコキルル基、―Ｆ、―
Ｃｌ、―Ｂｒ、―Ｃ_６Ｈ₅、―Ｈから選ばれる１つ、
ｎは１または２である。

【００２５】以上説明した有機不純物の液晶への溶出量
は、有機不純物を含む着色材料の硬化片１０ｍｍ³と液
晶５０ｃｃをアンプル管に収容し、封止した後、８０℃
で１００時間保存し、次いで分析することにより求める
ことが出来る。抽出する液晶材料としては、フッ素系液
晶やシアノ系ネマティック液晶を使用する事が出来、具
体的にはＺＬ１−１５６５（Ｅ．メルク社製）のシアノ
系液晶またはＬＯＸＯＮ５００１（チッソ社製）のフッ
素系液晶を用いた。測定機には、ガスクロマト分析装置
である島津１４Ａ（島津社製）を用いた。

【００２６】本発明において使用可能な、着色層に含ま
れる顔料として、下記に示すものが挙げられるが、これ
らに限定されるものではない。

【００２７】緑色顔料例

【化１０】

【００２８】青色顔料例

【化１１】

【００２９】赤色顔料例

【化１２】

【００３０】以上のように構成される本発明の液晶表示
装置によると、着色層の緑色部分からの不純物の溶出を
抑制することができ、それによって配向むらや焼き付き
などの表示むらを効果的に防止することが出来る。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1および図2を参照して説明する。

【００３２】図１は、本発明の一実施形態に係る液晶表
示装置を示す断面図であり、図２は、図１に示す液晶表
示装置のカラーフィルタ基板を示す断面図である。

【００３３】図１に示すように、液晶表示装置１０は、
対向基板１２０とカラーフィルタ基板１１０の間に液晶
層７０を挟持しており、これらの2枚の基板間距離は、
例えば粒状スペーサ３１によって保持されている。そし
て、対向基板１２０とカラーフィルタ基板１１０は、液
晶注入口を除く基板外周を囲むように配置されるシール
によって接着され、液晶注入口には封止材が塗布されて
いる。本実施形態では、液晶材料としてＺＬＩ−１５６
５（Ｅ−メルク社製）、シール材料として熱硬化型エポ
キシ系接着剤ＥＳ−５５００（三井東圧化学（株）社
製）を用いた。

【００３４】対向基板１２０は、透明基板２１上にＩＴ
Ｏからなる透明電極２２、配向膜１３を順次配置して構
成されている。

【００３５】図１に示すように、アレイ基板（カラーフ
ィルタ基板）１１０は、透明基板１１上にＭｏＷ（モリ
ブデン・タングステン）からなる走査線（図示せず）及
びゲート電極１６を配置し、走査線及びゲート電極１６
を覆うように酸化シリコン、窒化シリコンからなるゲー
ト絶縁膜１２を配置して構成されている。

【００３６】ゲート絶縁膜上にはアモルファスシリコン
などの半導体層１５が配置され、更にＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ
の３層構造からなるソース電極２０、ドレイン電極１
８、信号線（図示せず）が配置されている。信号線及び
走査線は交差して配置され、その交差部毎にゲート電極
１６、ゲート絶縁膜１２、半導体層１５、ソース電極２
０、ドレイン電極１８からなるスイッチング素子１４と
このスイッチング素子に接続する画素電極３０が配置さ
れている。

【００３７】そして、スイッチング素子１４を覆うよう
に、緑色着色層（Ｇ）２４a、青色着色層（Ｂ）２４
ｂ、赤色着色層（Ｒ）２４ｃがストライプ状に配置され
ている。画素電極３０はこの着色層２４上に配置されて
おり、着色層２４に形成されているスルーホール２６を
介してソース電極２０と接続している。更に、画素電極
３０及び着色層２４を覆うように、基板全面には配向膜
１３が配置されている。

【００３８】着色層材料としては、紫外線硬化型アクリ
ル樹脂CRY-S623C（赤色）、CGY-S624D（緑色）、CBV-S6
25C（青色）（富士フィルムオーリン（株）社製）を、
配向膜材料としては、ポリイミドＡＬ−１０５１（ＪＳ
Ｒ株式会社製）を用いた。そして、緑色着色層（Ｇ）２
４aのパターンの端が、青色着色層（Ｂ）２４ｂや赤色
着色層（Ｒ）２４ｃで覆われている構成となっている。
このような構成は、各着色層を加工する際に用いる露光
マスクを適合するように作製することで達成される。

【００３９】次に、本実施形態の液晶表示装置の製造工
程について説明する。

【００４０】まず、カラーフィルタ基板１１０の製造工
程について説明する。透明基板１１上に、スパッタリン
グ法により約０．３μｍのモリブデン・タングステン膜
を堆積し、パターニングすることにより、ゲート電極１
６、及び走査線を形成した。次いで、ＣＶＤ法によ
り、アモルファス・シリコン膜を堆積し、パターニング
して、ＴＦＴの半導体層１５を形成した。

【００４１】次に、Ｍｏ（モリブデン）、Ａｌ（アルミ
ニウム）、Ｍｏ（モリブデン）を順次堆積し、パターニ
ングして、信号線、ソース電極２０、ドレイン電極１８
を形成した。

【００４２】その後、紫外線硬化型アクリル系緑色レジ
スト液（上記CGY-S624D）を、電極が形成された基板上
にスピンナ塗布した。続いて、約９０℃で約５分間プリ
ベークし、所定のマスク・パターンを用いて、１５０ｍ
Ｊ／ｃｍ²の強度の紫外線により露光した。ここで用い
るフォトマスク・パターンは、緑色着色層に対応するス
トライプ形状パターンと、画素電極３０とソース電極１
２との接続のためのスルーホール２６として直径１５μ
ｍの円形形状パターンを有している。

【００４３】続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テト
ラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて、
緑色レジスト膜を約６０秒間現像し、さらに水洗い後、
約２００℃で１時間ほどポストベークをすることによっ
て、スルーホール２６を有する緑色着色層２４ａを形成
した。

【００４４】続いて、青色着色層２４ｂおよび赤色着色
層２４ｃを、緑色着色層２４ａと同様の工程にて形成し
た。

【００４５】次に、着色層２４上にスパッタリング法に
よりインジウム・すず酸化物（ＩＴＯ）を堆積し、これ
をパターニングすることにより画素電極３０を形成し、
ポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布し、配
向処理を施して配向膜を形成して、カラーフィルタ基板
１１０を得た。

【００４６】その後、透明基板２１上にスパッタ法によ
りＩＴＯを約１００ｎｍの厚さに堆積して対向電極２２
を形成し、続いてポリイミドからなる配向膜材料を基板
全面に塗布し、配向処理を施して配向膜を形成して、対
向基板１２０を得た。

【００４７】対向基板１２０の配向膜面上に、直径約５
μｍの粒状スペーサ３１を１平方ｍｍあたり約１００個
の割合で散布した。続いて、対向基板１２０の外周周辺
部に所定の大きさを有するファイバを混入したシール材
を、液晶所注入用の注入口を除いて塗布した。この対向
基板１２０、カラーフィルタ基板１１０とをシール材に
より貼り合わせて、空状態のセルが完成する。

【００４８】次に、カイラル材が添加されたネマティッ
ク液晶材料を、注入口からセル内に真空注入し、注入
後、注入口を封止材としての紫外線硬化樹脂を用いて封
止した後、セルの両側にそれぞれ偏光板を配置すること
により液晶表示装置が完成する。

【００４９】この際、各着色層を加工する際に用いる露
光マスクを変え、また、着色層上のＩＴＯ膜を加工する
際の露光マスクを変えることにより、緑色層が配向膜を
介して液晶層に接する面積を変えることができる。この
時、アクティブエリア内、ならびにアクティブエリアの
周辺部の緑色層の露出面積も変えることができ、これに
より、シール部により囲まれた液晶層の全面積に対する
緑色層が配向膜を介して液晶層に接する面積の割合も変
えることが可能である。また、緑色層の上に他の着色層
を部分的に積層することで、緑色着色層の露出面積を減
少させることもできる。

【００５０】このようにして作製した液晶表示装置の表
示ムラ発生の結果を下記表１に示す。

【表１】

【００５１】上記表１では、初期状態での配向むらや焼
き付け現象等の表示むら、並びに、７０℃８０％動作加
速試験の３００Ｈ後の配向むらや焼き付け現象等の表示
むらを評価した。上記表１から分かるように、着色層の
緑色部分が、液晶層に直接、または前記アレイ基板上に
設けられた配向膜を介して接触する面積が、液晶層の全
面積の１３％以下で、かつ、アクティブエリアの全面積
の１２％以下である場合に、表示むらが発生しなかっ
た。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
着色層の緑色部分が液晶層と直接または間接的に接触す
る部分の面積を所定の範囲に制限しているため、着色層
の緑色部分からの不純物の溶出を抑制することができ、
それによって配向むらや焼き付きなどの表示むらを効果
的に防止することの可能な液晶表示装置を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を示す
縦断面図。

【図２】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置のアレ
イ基板を示す縦断面図。

【図３】アクティブエリアと液晶層の面積を説明するた
めの図。

【符号の説明】

１０…液晶表示装置１１…基板１２…ゲート絶縁膜１３…配向膜１４…スイッチング素子１５…半導体層１６…ゲート電極１８…ドレイン電極２０…ソース電極２１…基板２２…対向電極２４…着色層２６…スルーホール３０…画素電極３１…スペーサ７０…液晶層１１０・・・カラーフィルタ基板１２０・・・対向基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者福岡暢子埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者真鍋敦行埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者庄原潔埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者宮崎大輔埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内 (72)発明者秋吉宗治埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号株式会社東芝深谷電子工場内Ｆターム(参考） 2H091 FA02Y FB02 FB12 FB13 GA06 GA13 LA16

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、前記基板上に配置された着色層
と、前記着色層上に配置された電極とを有するカラーフ
ィルタ基板、前記カラーフィルタ基板と対向して配置された対向基
板、前記カラーフィルタ基板と前記対向基板とを所定の間隙
をあけて配置し、接着するための、液晶注入口を除いて
前記基板の外周に配置されたシール部、前記間隙を保持するスペーサ、前記液晶注入口から前記間隙に注入されてなる液晶層、
および前記液晶注入口を封止する封止材を具備する液晶
表示装置において、前記着色層の緑色部分が、液晶層に直接接触する、また
は配向膜を介して接触する面積が、前記シール部により
囲まれた液晶層の面積の１３％以下であり、かつ、表示
に関与するアクティブエリアの面積の１２％以下である
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】前記着色層の緑色部分は、下記（１）式で
表されるアルキル酸、下記（２）式で表されるフェニル
カルボン酸またはフェニルカルボン酸誘導体、下記
（３）式で表されるフェニレンジカルボン酸またはフェ
ニレンジカルボン酸誘導体、下記（４）式で表されるア
ルキルアミン、下記（５）式で表されるアニリンまたは
アニリン誘導体、下記（６）式で表されるフェニレンジ
アミンまたはフェニレンジアミン誘導体、下記（７）式
で表されるフェニレンアミンカルボン酸またはフェニレ
ンアミンカルボン酸誘導体、下記（８）式で表されるア
ルキルイミド、下記（９）式で表されるフタルイミド誘
導体、下記（１０）式で表されるシアノベンゼン誘導
体、および下記（１１）式で表されるジシアノベンゼン
誘導体からなる群から選ばれた少なくとも１種の有機不
純物を含有することを特徴とする請求項１に記載の液晶
表示装置。【化１】【化２】【化３】（式中、Ｒ₁は炭素数１ないし２０のアルキル基、Ｒ₂
は―Ｈまたは炭素数１ないし２０のアルキル基、Ｒ₃は
炭素数１ないし2０のアルキル基、Ｖ，Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚ
は炭素数１ないし１０のアルキル基、炭素数１ないし１
０のアルコキルル基、―Ｆ、―Ｃｌ、―Ｂｒ、―Ｃ_６
Ｈ₅、―Ｈから選ばれる１つ、ｎは１または２であ
る。）
【請求項３】前記着色層の緑色部分が、塩素化銅フタロ
シアニン顔料、塩素化臭素化銅フタロシアニン顔料、お
よびこれらの同族体顔料からなる群から選ばれた少なく
とも１つを含有することを特徴とする請求項１に記載の
液晶表示装置。
【請求項４】前記対向基板が、基板の一主面上に交差し
て配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記交
差部毎に配置されたスイッチング素子を有することを特
徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】基板の一主面上に交差して配置された複数
の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置され
たスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前
記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置
された少なくとも緑色部分を有する着色層と、前記着色
層に形成されたスルーホール部を通して前記スイッチン
グ素子の各々に接続された前記着色層上に配置された複
数の画素電極とを備えたアレイ基板、前記アレイ基板と対向して配置された対向基板、前記アレイ基板と前記対向基板とを所定の間隙をあけて
配置し、接着するための、液晶注入口を除いて前記基板
の外周に配置されたシール部、前記間隙間を保持するスペーサ、前記液晶注入口から前記間隙に注入されてなる液晶層、
および前記液晶注入口を封止する封止材を具備する液晶
表示装置において、前記着色層の緑色部分が、液晶層に直接接する、または
前記アレイ基板上に設けられた配向膜を介して接触する
面積が、前記シール部により囲まれた液晶層の面積の１
３％以下であり、かつ、スッチング素子及び各画素電極
からなり表示に関与するアクティブエリアの面積の１２
％以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】前記着色層の緑色部分は、下記（１）式で
表されるアルキル酸、下記（２）式で表されるフェニル
カルボン酸またはフェニルカルボン酸誘導体、下記
（３）式で表されるフェニレンジカルボン酸またはフェ
ニレンジカルボン酸誘導体、下記（４）式で表されるア
ルキルアミン、下記（５）式で表されるアニリンまたは
アニリン誘導体、下記（６）式で表されるフェニレンジ
アミンまたはフェニレンジアミン誘導体、下記（７）式
で表されるフェニレンアミンカルボン酸またはフェニレ
ンアミンカルボン酸誘導体、下記（８）式で表されるア
ルキルイミド、下記（９）式で表されるフタルイミド誘
導体、下記（１０）式で表されるシアノベンゼン誘導
体、および下記（１１）式で表されるジシアノベンゼン
誘導体からなる群から選ばれた少なくとも１種の有機不
純物を含有することを特徴とする請求項５に記載の液晶
表示装置。【化４】【化５】【化６】（式中、Ｒ₁は炭素数１ないし２０のアルキル基、Ｒ₂
は―Ｈまたは炭素数１ないし２０のアルキル基、Ｒ₃は
炭素数１ないし2０のアルキル基、Ｖ，Ｗ，Ｘ，Ｙ，Ｚ
は炭素数１ないし１０のアルキル基、炭素数１ないし１
０のアルコキルル基、―Ｆ、―Ｃｌ、―Ｂｒ、―Ｃ_６
Ｈ₅、―Ｈから選ばれる１つ、ｎは１または２であ
る。）
【請求項７】前記着色層の緑色部分が、塩素化銅フタロ
シアニン顔料、塩素化臭素化銅フタロシアニン顔料、お
よびこれらの同族体顔料からなる群から選ばれた少なく
とも１つを含有することを特徴とする請求項５に記載の
液晶表示装置。