JPH09101408A - 液晶ディスプレイ用カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶ディスプレイ用カラーフィルタにおいて
は、着色層（マイクロカラーフィルタ）および液晶の保
護を図るうえから、着色層上に透明保護膜を設ける必要
があるが、可能な限りその製造工程を簡略化して液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタを量産化しようとする動き
があり、上述した透明保護層を必要としない液晶ディス
プレイ用カラーフィルタの出現が強く望まれている。 【解決手段】 主要カチオン元素としてインジウム元素
および亜鉛元素を含有し、表面の凹凸が１０ｎｍ以内で
ある非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用透明電極を、当
該液晶駆動用透明電極が平面視上着色層を覆うようにし
て、着色層上に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイ用
カラーフィルタおよびその製造方法に係り、特に、着色
層（マイクロカラーフィルタ。以下同じ。）の他に液晶
駆動用透明電極をも備えた液晶ディスプレイ用カラーフ
ィルタおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイでは、液晶の光
学的性質、光学部品、あるいは外部光源等を利用してカ
ラー表示を行っており、カラー表示を行うための光学部
品の一つとしてカラーフィルタが利用されている。この
カラーフィルタは、液晶パネル形成用の基板としても利
用する電気絶縁性透明基板上に直接、または液晶駆動用
透明電極を介して複数種の着色層を所定のパターンに配
置したものであり、電気絶縁性透明基板上に直接着色層
を配置した場合には、当該着色層上に液晶駆動用透明電
極が設けられる。本明細書では、前記の電気絶縁性透明
基板と、前記の着色層（マイクロカラーフィルタ）と、
前記の液晶駆動用透明電極とを少なくとも備えているも
のを液晶ディスプレイ用カラーフィルタという。

【０００３】液晶駆動用透明電極としては、従来よりＩ
ＴＯ膜が多用されている。その理由は、ＩＴＯ膜は透明
性や導電性が高いからである。また、本願出願人は、液
晶駆動用透明電極としてＩＴＯ膜を用いた液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタよりも製造過程で液晶駆動用透明
電極にクラックや剥離が生じにくく、かつ製造後におい
ても経時的に液晶駆動用透明電極にクラックや剥離が生
じることが起きにくい液晶ディスプレイ用カラーフィル
タとして、液晶駆動用透明電極に特定の非晶質酸化物
膜、すなわち、主要カチオン元素としてインジウム元素
および亜鉛元素を含有する非晶質酸化物膜を用いたもの
を既に提案している（特開平７−１２０６１２号公報参
照。）。

【０００４】液晶駆動用透明電極は、前述したように電
気絶縁性透明基板上または着色層上に設けられるわけで
あるが、当該液晶駆動用透明電極を着色層上に設ける場
合、着色層と液晶駆動用透明電極との間には、透明保護
層を介在させることが多い。この透明保護層は、液晶駆
動用透明電極の平坦性の向上や、着色層および液晶の保
護を目的として設けられるものである。着色層および液
晶の保護とは、具体的には、次のものである。

【０００５】すなわち、液晶駆動用透明電極を着色層上
に設けた場合、この液晶駆動用透明電極上には最終的に
樹脂製の配向膜が設けられることが多く、当該配向膜の
基となる樹脂層を形成するにあたっては塗布法、スピン
コート法等の方法が適用される。そして、樹脂層を塗布
法，スピンコート法等の方法によって形成する際に使用
するコーティング液の溶剤が上記の着色層に浸透する
と、マイクロカラーフィルタとしての着色層の機能に重
大な欠陥を与える。また、上記の着色層の成分が液晶駆
動用透明電極を透過して液晶層に浸出すると、液晶や電
気回路に悪影響を及ぼす。上記の「着色層および液晶層
の保護」とは、上述した溶剤の浸透を防止して着色層の
機能に重大な欠陥が生じないようにすること、および、
上述した着色層の成分の浸出を防止して液晶や電気回路
に悪影響が生じないにようにすることを意味する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】近年、液晶ディスプレ
イ用カラーフィルタの量産化に伴って、可能な限りその
製造工程を簡略化しようとする動きがあり、上述した透
明保護層を必要としない液晶ディスプレイ用カラーフィ
ルタの出現が強く望まれている。

【０００７】本発明の目的は、透明保護層を必要としな
い液晶ディスプレイ用カラーフィルタおよびその製造方
法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】透明保護層を必要としな
い液晶ディスプレイ用カラーフィルタを得るためには、
着色層上に溶剤遮断性、すなわち、配向膜の基となる樹
脂層を塗布法，スピンコート法等の方法によって形成す
る際に使用するコーティング液の溶剤として用いられる
ＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）等の溶剤を透過させな
い能力を有している液晶駆動用透明電極を設ければよ
く、そのためには、粒界を有している結晶性物質によっ
て液晶駆動用透明電極を形成するよりも粒界を実質的に
有していない非晶質物質によって液晶駆動用透明電極を
形成することが望ましい。本願発明者らは鋭意研究を重
ねた結果、非晶質物質膜であれば必ず上記の溶剤遮断性
を有しているというものではなく、特定のＩｎ−Ｚｎ系
非晶質酸化物膜が上述した溶剤遮断性を有していること
を見出し、本発明を完成するに至った。

【０００９】上記の目的を達成する本発明の液晶ディス
プレイ用カラーフィルタは、電気絶縁性透明基板と、こ
の電気絶縁性透明基板の上に所定のパターンで配置され
た複数種の着色層と、これらの着色層を平面視上覆うよ
うにして該着色層上に設けられた液晶駆動用透明電極と
を少なくとも備え、前記液晶駆動用透明電極が主要カチ
オン元素としてインジウム元素および亜鉛元素を含有す
る非晶質酸化物膜からなり、該液晶駆動用透明電極の表
面の凹凸が１０ｎｍ以内であることを特徴とするもので
ある。

【００１０】また、上記の目的を達成する本発明の液晶
ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法は、電気絶縁
性透明基板の片面に所定のパターンで複数種の着色層を
形成する工程と、酸化インジウムと酸化亜鉛とを含有す
る組成物からなる焼結体ターゲットを用いたスパッタリ
ング法により、主要カチオン元素としてインジウム元素
および亜鉛元素を含有し、表面の凹凸が１０ｎｍ以内で
ある非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用透明電極を前記
着色層上に該着色層を平面視上覆うようにして形成する
工程とを含むことを特徴とするものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。まず、本発明の液晶ディスプレイ用
カラーフィルタについて説明すると、このカラーフィル
ターは、前述したように、電気絶縁性透明基板と、この
電気絶縁性透明基板の上に所定のパターンで配置された
複数種の着色層と、これらの着色層を平面視上覆うよう
にして当該着色層上に上に設けられた液晶駆動用透明電
極とを少なくとも備えている。

【００１２】このようなフィルタ構成自体は従来のもの
と同様であり、電気絶縁性透明基板としては液晶ディス
プレイ用カラーフィルタの基板としての利用が従来より
図られている種々の材質の基板を用いることができる。
電気絶縁性透明基板の具体例としては、青板ガラス，白
板ガラス，無アルカリガラス，石英ガラス，ホウ硅酸ガ
ラス等の各種電気絶縁性透明ガラスや、ポリカーボネー
ト，ポリエーテルスルホン，ポリエチレンテレフタレー
ト，ポリアリレート，非晶質ポリオレフィン，アクリル
樹脂，ポリエーテル等の各種電気絶縁性ポリマー、ある
いは、前述の電気絶縁性透明ガラス等に前述の電気絶縁
性透明ポリマーをコーティングしたもの等が挙げられ
る。電気絶縁性透明基板は、従来と同様に必ずしも板状
である必要性はなく、シート状やフィルム状であっても
よい。

【００１３】着色層（マイクロカラーフィルタ）として
は、従来と同様に、目的とする液晶ディスプレイ用カラ
ーフィルタがマルチカラー表示用のものであるかフルカ
ラー表示用のものであるか等に応じて、また、目的とす
る液晶ディスプレイ用カラーフィルタがどのような種類
のバックライトを装備した液晶ディスプレイに使用され
るのか等に応じて、分光透過率が異なる複数種の着色層
が適宜組合わされて用いられる。これら複数種の着色層
の各々の材料は、目的とする着色層の分光透過率特性に
応じて適宜選択される他、着色層の形成方法等に応じて
も適宜選択される。

【００１４】着色層の形成方法は特に限定されるもので
はなく、目的とする液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
に要求される精度等に応じて、染色法，印刷法，分散
法，電着法，ミセル電解法等、従来より利用されている
種々の方法の中から適宜選択される。染色法により着色
層を形成する場合、その材料としては、例えば、ゼラチ
ン，カゼイン，ポリビニルアルコール，ポリアクリルア
ミド等に感光剤を添加したものと酸性染料または反応性
染料が用いられ、印刷法により着色層を形成する場合に
は、例えば、プレポリマーに顔料および分散助剤を添加
したものやインクが用いられる。また、分散法により着
色層を形成する場合には、例えば、透明感光性樹脂また
は透明樹脂に染料，有機顔料，無機顔料等の着色剤を分
散させたカラーレジン液が用いられ、電着法により着色
層を形成する場合には、例えば、顔料等の着色剤とポリ
マーとを所望の溶媒に分散させて得た電着液が用いられ
る。そして、ミセル電解法により着色層を形成する場合
には、例えば、所望の電気伝導度を有する水性媒体にミ
セル化剤と疎水性色素とを分散させたものが用いられ
る。なお、電着法およびミセル電解法により着色層を形
成する場合には電着または電解を行うための透明電極が
必要であり、これらの方法では、着色層は前記透明電極
の表面に形成される。

【００１５】着色層の配置パターンは特に限定されるも
のではなく、従来と同様に、目的とする液晶ディスプレ
イ用カラーフィルタをどのようなサイズあるいは性能の
液晶ディスプレイに利用するのか等に応じて、ストライ
プ型，モザイク型，トライアングル型等に適宜配置され
る。

【００１６】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィル
タでは、上述した複数種の着色層を平面視上覆うように
して、当該着色層上に液晶駆動用透明電極が設けられて
いる。この液晶駆動用透明電極は、主要カチオン元素と
してインジウム元素および亜鉛元素を含有する非晶質酸
化物膜からなり、その表面の凹凸は１０ｎｍ以内であ
る。

【００１７】ここで、本発明でいう「表面の凹凸」と
は、触針式の表面粗さ計で液晶駆動用透明電極表面の任
意の位置を２０ｍｇの荷重下に１ｍｍに亘って掃引して
最大凸部と最大凹部との高低の差を求めるという操作を
計５回繰り返すことによって得たデータから算出した、
最大凸部と最大凹部との高低の差の平均値を意味する。
また、本発明において上記の非晶質酸化物膜からなる液
晶駆動用透明電極の表面の凹凸を１０ｎｍ以内に限定す
る理由は、当該液晶駆動用透明電極の表面の凹凸が１０
ｎｍを超えると前述した溶剤遮断性が得られなくなり、
着色層および液晶層の保護を図るためには従来と同様に
透明保護膜を設ける必要性が生じるからである。前記表
面の凹凸は小さければ小さいほど好ましい。

【００１８】上記の非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用
透明電極の表面の凹凸を１０ｎｍ以内にすることによ
り、配向膜の基となる樹脂層を塗布法，スピンコート法
等の方法によって形成する際に使用するコーティング液
の溶剤として用いられるＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリド
ン）等の溶剤を透過させない能力を有している液晶駆動
用透明電極を得ることが可能になる。その理由は、上記
の非晶質酸化物膜の表面の平滑性を当該表面の凹凸が１
０ｎｍ以内になるまで高めることによって、前記の溶剤
が接触した場合の接触面積が当該溶剤の浸透を防ぐこと
が可能な程度まで小さくなるからであると推察される。

【００１９】この液晶駆動用透明電極は、前記の溶剤の
他、液晶セル組み工程前に行われる受入れ洗浄で用いら
れる純水や精密洗浄用溶剤として用いられるＩＰＡ（イ
ソプロピルアルコール）等、２０℃における粘度が１．
０ｃＰ以上の液体を透過させない能力を有している。以
下、本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタについ
て「溶剤遮断性」というときは、「２０℃における粘度
が１．０ｃＰ以上の液体を透過させない能力」について
いうものとする。

【００２０】なお、ｎ−ヘキサンのように２０℃におけ
る粘度が１．０ｃＰ未満の液体は、上記の非晶質酸化物
膜からなる液晶駆動用透明電極の表面の凹凸を１０ｎｍ
以内にしても当該液晶駆動用透明電極を透過してしまう
ことがある。しかしながら、液晶セルの組み立て工程に
おいては、前記の粘度が１．０ｃＰ未満である液体を液
晶駆動用透明電極に接触させる必要はない。

【００２１】上記の非晶質酸化物膜としては、インジウ
ム元素と亜鉛元素との原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が
０．８以上０．９未満であるものが好ましい。前記の原
子比が０．８未満になると導電性が低下し、液晶駆動用
透明電極として所望の面抵抗を有すものを得るためには
その膜厚を厚くしなければならず、その結果として光透
過性が低下する。一方、前記の原子比が０．９以上にな
ると結晶質になり易くなり、結晶質となった場合には結
晶粒界を通じて溶剤が当該結晶質膜を透過するようにな
る。

【００２２】上記の非晶質酸化物膜は、インジウム元素
および亜鉛元素以外のカチオン元素として、正三価以上
の原子価を有する第３の元素を１種以上含んでいてもよ
い。この第３の元素の種類は正三価以上の原子価を有す
るものであれば特に限定されないが、例えば錫，アルミ
ニウム，アンチモン，ガリウム，ゲルマニウム，チタン
が挙げられる。第３の元素を含有させることにより、非
晶質酸化物膜の導電性を向上させることができるが、カ
チオン元素の総量に占める第３の元素の合量の割合が２
０at％を超えると導電性が低下し易くなる。このため、
第３の元素の合量の割合はカチオン元素の総量に対して
２０at％以下とすることが好ましい。

【００２３】上記の非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用
透明電極の比抵抗は低ければ低いほどよく、少なくとも
２．０×１０^-4Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。上
記の非晶質酸化物膜におけるインジウム元素と亜鉛元素
との原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８以上０．９未
満である場合、比抵抗が２．０×１０^-4Ω・ｃｍ以下の
液晶駆動用透明電極を得るためには、その膜厚を概ね３
０オングストローム〜１μｍとすればよい。当該液晶駆
動用透明電極の膜厚の好ましい値は２００〜３０００オ
ングストロームであり、３００〜８００オングストロー
ムが特に好ましい。比抵抗が２．０×１０^-4Ω・ｃｍを
超えると、前述したように、液晶駆動用透明電極として
所望の面抵抗を有すものを得るためにはその膜厚を厚く
する必要が生じ、その結果として光透過性が低下する。

【００２４】上述の非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用
透明電極は、前述したように、着色層を平面視上覆うよ
うにして設けられている。そして、この液晶駆動用透明
電極は溶剤遮断性を有している。したがって、本発明の
液晶ディスプレイ用カラーフィルタにおいては着色層と
液晶駆動用透明電極との間に透明保護層を設ける必要性
が無く、その結果として、工程の簡略化とコスト削減を
図ることが可能になる。当該液晶ディスプレイ用カラー
フィルタは、液晶駆動用透明電極として共通電極（全面
電極）を有するタイプの液晶ディスプレイ用カラーフィ
ルタ、例えば薄膜トランジスタ方式等の電界効果トラン
ジスタ駆動方式の液晶ディスプレイ等に使用される液晶
ディスプレイ用カラーフィルタとして好適である。

【００２５】次に、本発明の液晶ディスプレイ用カラー
フィルタの製造方法について説明する。本発明の液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタの製造方法は、前述したよ
うに、電気絶縁性透明基板の片面に所定のパターンで複
数種の着色層を形成する工程と、酸化インジウムと酸化
亜鉛とを含有する組成物からなる焼結体ターゲットを用
いたスパッタリング法により、主要カチオン元素として
インジウム元素および亜鉛元素を含有し、表面の凹凸が
１０ｎｍ以内である非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用
透明電極を前記着色層上に該着色層を平面視上覆うよう
にして形成する工程とを含むことを特徴とするものであ
る。

【００２６】着色層を形成する方法は特に限定されるも
のではなく、前述したように、染色法，印刷法，分散
法，電着法，ミセル電解法等、従来より利用されている
種々の方法の中から適宜選択される。

【００２７】主要カチオン元素としてインジウム元素お
よび亜鉛元素を含有する非晶質酸化物膜は、種々の方法
により形成することが可能である。しかしながら、当該
非晶質酸化物膜の表面の凹凸を１０ｎｍ以内にするため
には、酸化インジウムと酸化亜鉛とを含有する組成物か
らなる焼結体ターゲットを用いたスパッタリング法を適
用することが好ましい。当該スパッタリング法によれ
ば、表面の凹凸が１０ｎｍ以内である非晶質酸化物膜を
形成することが可能であるとともに、緻密性に優れ、か
つ、着色層との密着性に優れた非晶質酸化物膜を形成す
ることが可能である。

【００２８】上記の非晶質酸化物膜は液晶ディスプレイ
用カラーフィルタにおける液晶駆動用透明電極であるの
で、実用上十分な導電性を有する液晶駆動用透明電極を
得るうえからは、前述しように、上記の非晶質酸化物膜
におけるインジウム元素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉ
ｎ＋Ｚｎ）は０．８以上０．９未満であることが好まし
い。そして、このような非晶質酸化物膜をスパッタリン
グ法により形成する場合、スパッタリング法によって得
られる非晶質酸化物膜における前記の原子比と焼結体タ
ーゲットにおける前記の原子比との間に若干のずれが生
じることから、上記の焼結体ターゲットにおけるインジ
ウム元素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）は
０．８２以上０．９２未満であることが好ましい。この
値は、実験的、経験的に得られたものである。

【００２９】本発明の方法で用いる焼結体ターゲット
は、酸化インジウムと酸化亜鉛とを含有する組成物から
なるわけであるが、この焼結体ターゲットとしては、Ｉ
ｎ₂Ｏ₃（ＺｎＯ）_m （ｍ＝２〜２０。好ましくはｍ＝２
〜８。さらに好ましくはｍ＝２〜６。）で表される六方
晶層状化合物を含有するものが好ましい。当該焼結体タ
ーゲットは、前記の六方晶層状化合物のみから実質的に
なっていていもよし、この六方晶層状化合物の他に酸化
インジウムまたは酸化亜鉛を含有していてもよい。これ
らの酸化物の純度はできるだけ高いほうが好ましく、９
８％以上、特に９９％以上が望ましい。また、この焼結
体ターゲットには正三価以上の原子価を有する第３の元
素またはその化合物が１種以上ドープされていてもよ
く、このような焼結体ターゲットを用いた場合には、よ
り導電性の高い非晶質酸化物膜を得ることができる。た
だし、最終的に得られる非晶質酸化物膜におけるドープ
元素（前述した第３の元素）の割合がカチオン元素の総
量に対して２０at％を超えると、かえって導電性が低下
し易くなるので、そのドープ量は、最終的に得られる非
晶質酸化物膜におけるドープ元素の割合がカチオン元素
の総量に対して２０at％を超えないように調整する。ド
ープ元素の具体例としては、錫，アルミニウム，アンチ
モン，ガリウム，ゲルマニウム，チタンが挙げられる。

【００３０】上述した焼結体ターゲットは、例えば次の
ようにして得ることができる。まず、酸化インジウムま
たは焼成により酸化インジウムとなる化合物（例えば塩
化インジウム，硝酸インジウム，酢酸インジウム，水酸
化インジウム，インジウムアルコキシド）と、酸化亜鉛
または焼成により酸化亜鉛となる化合物（例えば塩化亜
鉛，硝酸亜鉛，酢酸亜鉛，水酸化亜鉛，亜鉛アルコキシ
ド）とを混合する。このとき、必要に応じて正三価以上
の原子価を有する第３の元素（インジウムを除く。）か
らなる単体（気体を除く。）や前記第３の元素の塩等を
添加してもよい。次に、得られた混合物を５００〜１２
００℃で仮焼する。次いで、得られた仮焼物をボールミ
ル，ロールミル，パールミル，ジェットミル等で粉砕し
て、粒子径が０．０１〜１．０μｍの範囲内でかつ粒径
の揃った粉末を得る。なお、粉砕に先だって１００〜８
００℃で還元処理を施してもよい。また、必要に応じて
前記粉末の仮焼、粉砕を所望回数繰り返してもよい。こ
の後、得られた粉末を所望形状に加圧成形し、成形物を
８００〜１７００℃で焼結する。このとき、必要に応じ
てポリビニルアルコール，メチルセルロース，ポリワッ
クス，オレイン酸等を焼結助剤として用いてもよい。こ
のようにして焼結体を得ることにより、目的とする焼結
体ターゲットが得られる。

【００３１】この焼結体ターゲットをスパッタリングタ
ーゲットとして用いてのスパッタリング法によって、表
面の凹凸が１０ｎｍ以内である上述の非晶質酸化物膜を
形成するにあたっては、ターゲット印加電圧を２００Ｖ
未満としたＤＣまたはＲＦマグネトロンスパッタリング
法等を適用することができるが、生産性や得られる膜の
膜特性等の観点から、工業的には、ターゲット印加電圧
を２００Ｖ未満としたＤＣマグネトロンスパッタリング
法が好ましい。

【００３２】ＤＣマグネトロンスパッタリング法によっ
て目的とする非晶質酸化物膜を形成する場合のスパッタ
条件の一例を挙げるとすれば次のようになる。すなわ
ち、スパッタリング雰囲気はアルゴンガス等の不活性ガ
ス、または不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスとし、ス
パッタ時の雰囲気圧（真空度）は１×１０^-4〜５×１０
^-2Torr程度、ターゲット印加電圧は前述のように２００
Ｖ未満とする。基板温度は、電気絶縁性透明基板や着色
層が変色、変質、分解等を起こさないように適宜設定さ
れる。

【００３３】スパッタ時の真空度が１×１０^-4Torr未満
ではプラズマの安定性が悪く、５×１０^-2Torrを超える
と、得られる非晶質酸化物膜の着色層への付着性が悪く
なる。また、ターゲット印加電圧を２００Ｖ以上にする
と非晶質酸化物膜がプラズマによるダメージを受け、電
気伝導度および緻密性の低下をまねき易く、緻密性が低
下した場合には、着色層および液晶の保護を図るために
従来と同様に透明保護膜が必要になる。ターゲット印加
電圧は１８０Ｖ未満であることが好ましく、１５０Ｖ未
満であることが更に好ましい。

【００３４】なお、プラズマによる非晶質酸化物膜のダ
メージを防ぐためには、ターゲット印加電圧はできる限
り低い方がよいが、ターゲット印加電圧を低くすること
に伴って生産性が低下する。したがって、最適のターゲ
ット印加電圧は、目的とする非晶質酸化物膜に要求され
る導電性，溶剤遮断性および生産性を総合的に考慮した
うえで適宜選択される。また、ターゲット印加電圧を２
００Ｖ未満にして成膜を行うためには、焼結体ターゲッ
トの中央部における平行磁場強度を４００ガウス以上に
することが好ましく、特に５００ガウス以上にすること
が好ましい。焼結体ターゲットの中央部における平行磁
場強度が４００ガウス未満では、低電圧で安定した放電
を行うことが困難であるため、２００Ｖ未満のターゲッ
ト印加電圧で成膜，生産を行うことが実質的に不可能に
なる。

【００３５】上述のようにして形成される非晶質酸化物
膜からなる液晶駆動用透明電極の膜厚は、当該非晶質酸
化物膜におけるインジウム元素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ
／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８以上０．９未満である場合に
は、本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの説明
の中で述べたように、概ね３０オングストローム〜１μ
ｍである。そして、非晶質酸化物膜におけるインジウム
元素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８
以上０．９未満である場合、当該非晶質酸化物膜からな
る液晶駆動用透明電極の膜厚の好ましい値は２００〜３
０００オングストロームであり、３００〜８００オング
ストロームが特に好ましい。

【００３６】本発明の方法では、上述の非晶質酸化物膜
からなる液晶駆動用透明電極を形成するにあたって、当
該液晶駆動用透明電極が前述した着色層を平面視上覆う
ようにする。そして、上記の非晶質酸化物膜は、前述し
た溶剤遮断性を有している。したがって、本発明の方法
においては、着色層および液晶の保護を図るために着色
層と液晶駆動用透明電極との間に透明保護層を設ける必
要性が無く、その結果として、工程の簡略化とコスト削
減を図ることが可能になる。

【００３７】以上説明した方法によって得ることができ
る本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィルタは、従来
と同様に、漏れ光によるコントラストや色純度の低下を
防止するために、１つの着色層と他の着色層との間等
に、金属クロムや着色フォトレジスト等からなる遮光層
を備えていてもよい。この遮光層は、カラーフィルタを
装備したカラー液晶ディスプレイを平面視したときに当
該遮光層が画素間に位置するように設けられ、その全体
形状は一般にマトリックス状あるいはストライプ状を呈
する。また、液晶駆動用透明電極上に配向膜を有してい
てもよい。

【００３８】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィル
タを用いたカラー液晶パネルは、例えば、当該カラーフ
ィルタの他に、所定形状の透明電極等を備えた電気絶縁
性透明基板（以下、駆動用基板という）を用意し、互い
に対向させて配置した前記カラーフィルタと前記駆動用
基板との間に所望の液晶を封入することで得られる。こ
のときのカラーフィルタと駆動用基板とは、それぞれ電
気絶縁性透明基板が外側に位置するように配置され、こ
れらの間には液晶の他にガラスビーズやポリマー粒子等
からなるスペーサーが分散配置される。

【００３９】本発明の液晶ディスプレイ用カラーフィル
タは、カラーフィルタを使用するタイプのカラー液晶デ
ィスプレイであれば直視型、前面投射型、背面投射型の
いずれのタイプのカラー液晶ディスプレイにも利用する
ことができる。カラー液晶ディスプレイの具体例として
は、コンピュータ用やワードプロセッサ用あるいは機器
モニター用のカラー液晶ディスプレイ、液晶カラープロ
ジェクター、液晶カラーテレビ、液晶カラーオーバーヘ
ッドプロジェクター、カラー車搭載インストルメントパ
ネル、カラーオーロラビジョン（商品名）のような大画
面カラー液晶ディスプレイが挙げられる。

【００４０】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 実施例１ （１）着色層の形成 電気絶縁性透明基板としてのガラス基板上に面抵抗２０
Ω／□のＩＴＯ膜（厚さ１２０ｎｍ）を成膜したもの
（ジオマテック社製。ガラス基板はコーニング社製の＃
７０５９。以下「ＩＴＯ膜付ガラス基板」という。）を
用意し、下記（ａ）〜（ｄ）の要領で、当該ＩＴＯ膜付
ガラス基板の片面にミセル電解法によって着色層を形成
した（以下、着色層まで形成したＩＴＯ膜付ガラス基板
を「着色層付ガラス基板」という。）。

【００４１】（ａ）フォトリソグラフィー法によるミセ
ル電解用ＩＴＯ電極の形成 上記のＩＴＯ膜付ガラス基板を１０００rpm の回転速度
で回転させながら、当該ＩＴＯ膜付ガラス基板のＩＴＯ
膜上に紫外線硬化型レジスト剤（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製のＦＨ２２１３０）をスピンコ
ートする。スピンコート後、８０℃で１５分間プリベー
クを行う。その後、レジスト膜が形成されたＩＴＯ膜付
ガラス基板を露光機にセットする。マスクは、線幅１０
０μｍ、ギャップ２０μｍ、線長２３０ｍｍ、１９２０
本のストライプ縦パターンとする。光源としては２ｋＷ
の高圧水銀灯を用いる。プロキシミティギャップ７０μ
ｍをとり、レジスト膜を１２０ｍＪ／ｃｍ² 露光した
後、現像液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー
社製のＦＨＤ−５）で現像して、前記レジスト膜を所定
形状にパターニングする。現像後、純水でリンスし、リ
ンス後に１８０℃でポストベークする。

【００４２】次に、エッチング液として１Ｎ ＦｅＣｌ₃
・６Ｎ ＨＣｌ・０．１Ｎ ＨＮＯ₃・０．１Ｎ Ｃｅ（Ｎ
Ｏ₃）₄ 水溶液を準備し、所定形状にパターニングされ
た前記のレジスト膜をマスクとして用いて、前記のエッ
チング液によりＩＴＯ膜を約２０分間エッチングする。
エッチングの終点は電気抵抗により測定する。エッチン
グ終了後、純水でリンスし、リンス後に１ＮのＮａＯＨ
でレジスト膜を剥離する。このようにして、ストライプ
状のミセル電解用ＩＴＯ電極をガラス基板上に形成する
（以下、ミセル電解用ＩＴＯ電極を備えたガラス基板を
「ＩＴＯパターニングガラス基板」という。）。

【００４３】（ｂ）遮光層の形成 遮光層形成用レジスト剤として、富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製のカラーモザイクＣＫ、同Ｃ
Ｒ、同ＣＧおよび同ＣＢを３：１：１：１の割合（重量
比）で混合したものを用いる。上記（ａ）の要領で作製
したＩＴＯパターニングガラス基板を１０rpm の回転速
度で回転させ、このガラス基板の片面（ミセル電解用Ｉ
ＴＯ電極を形成した側の面）上に前記の遮光層形成用レ
ジスト剤３０ｃｃを噴霧する。次に、ＩＴＯパターニン
グガラス基板の回転速度を５００rpm にして、当該ＩＴ
Ｏパターニングガラス基板の前記の片面上に前記の遮光
層形成用レジスト剤を均一にスピンコートする。スピン
コート後、８０℃で１５分間プリベークを行う。その
後、アライメント機能のある露光機を用いて、所定の位
置合せをしながら、所定のデザイン（９０×３１０μｍ
角−２０μｍ線幅）のマスクを用いてレジスト膜を露光
する。光源としては２ｋＷの高圧水銀灯を用いる。プロ
キシミティギャップ７０μｍをとり、レジスト膜を１０
０ｍＪ／ｃｍ² 露光した後、現像液（富士ハントエレク
トロニクステクノロジー社製の富士ハントＣＤを純水で
４倍に希釈したもの）で３０秒間現像して、前記のレジ
スト膜を所定形状にパターニングする。現像後、純水で
リンスし、リンス後に２００℃で１００分間ポストベー
クする。このようにして、前記のレジスト膜からなる所
定形状の遮光層（厚さ１．０μｍ）を得る（以下、遮光
層まで形成したものを「遮光層付ガラス基板」とい
う。）。

【００４４】（ｃ）ミセル電解用の分散液の調製 赤色波長域の分光透過率が高い着色層（以下「Ｒ着色
層」という。）形成用の分散液としては、クロモフター
ルレッドＡ２Ｂ（チバガイギー社製）の分散液（分散
媒；純水）を用いる。また、緑色波長域の分光透過率が
高い着色層（以下「Ｇ着色層」という。）形成用の分散
液は、ヘリオゲングリーンＬ９３６１（ＢＡＳＦ社製）
の分散液（分散媒；純水）とイルガジンエロ−２ＲＬＴ
（チバガイギー社製）の分散液（分散媒；純水）とをそ
れぞれ２０℃に保ったまま７０：３０の割合（重量比）
で混合し、さらに、混合液を超音波ホモジナイザーで３
０分間分散させることで調製する。そして、青色波長域
の分光透過率が高い着色層（以下「Ｂ着色層」とい
う。）形成用の分散液は、ファストゲンブルーＴＧＲ
（大日本インキ社製）の分散液（分散媒；純水）とファ
ストゲンスーパーバイオレット２ＲＮ（大日本インキ社
製）とをそれぞれ２０℃に保ったまま８０：２０の割合
（重量比）で混合することで調製する。

【００４５】（ｄ）ミセル電解 まず、上記（ａ）および（ｂ）の要領で作製した遮光層
付ガラス基板を、上記（ｃ）の要領で調製したＲ着色層
形成用の分散液（液温２０℃）に浸漬し、Ｒ着色層を形
成しようとする箇所のミセル電解用ＩＴＯ電極にポテン
ショスタットを接続する。そして、０．５Ｖｖｓ．ＳＣ
Ｅ、２５分間の定電位電解を行ってＲ着色層を得る。電
解後、純水でリンスし、リンス後に１００℃で１５分間
ベークする。次に、この基板を上記（ｃ）の要領で調製
したＧ着色層形成用の分散液（液温２０℃）に浸漬し、
Ｇ着色層を形成しようとする箇所のミセル電解用ＩＴＯ
電極にポテンショスタットを接続する。そして、０．５
Ｖｖｓ．ＳＣＥ、２０分間の定電位電解を行ってＧ着色
層を得る。電解後、純水でリンスし、リンス後に１００
℃で１５分間ベークする。最後に、この基板を上記
（ｃ）の要領で調製したＢ着色層形成用の分散液（液温
２０℃）に浸漬し、Ｂ着色層を形成しようとする箇所の
ミセル電解用ＩＴＯ電極にポテンショスタットを接続す
る。そして、０．５Ｖｖｓ．ＳＣＥ、１５分間の定電位
電解を行ってＢ着色層を得る。電解後、純水でリンス
し、リンス後に１００℃で１５分間ベークする。なお、
Ｒ着色層、Ｇ着色層およびＢ着色層の最終的な厚さ（ミ
セル電解用ＩＴＯ電極上の厚さ）は、０．９μｍであ
る。

【００４６】（２）液晶駆動用透明電極の形成 上記（１）で得た着色層付ガラス基板をＤＣマグネトロ
ンスパッタ装置に装着し、真空槽内を１×１０^-6Torr以
下まで減圧した後、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガ
ス（Ａｒ：Ｏ₂ ＝９７：３（体積比））を真空槽内の圧
力が３×１０^-3Torrになるまで導入した。そして、Ｉｎ
₂Ｏ₃（ＺｎＯ）₅ で表される六方晶層状化合物と酸化イ
ンジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）とからなる焼結体ターゲット（原
子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）＝０．８５）を用いて、ター
ゲット印加電圧１５０Ｖ、ターゲット中央部における平
行磁場強度５００ガウス、基板温度２００℃の条件で所
定時間、スパッタリングを行った。このスパッタリング
により、主要カチオン元素としてインジウム元素および
亜鉛元素を含有する非晶質酸化物膜からなる厚さ８００
オングストローム程度の液晶駆動用透明電極が着色層上
に形成され、目的とする液晶ディスプレイ用カラーフィ
ルタが得られた。なお、ターゲット中央部における平行
磁場強度は、電磁石をターゲットの裏面に設置し、この
電磁石へ流す電流を制御することにより調整した。

【００４７】図１に示すように、上記の液晶ディスプレ
イ用カラーフィルタ１は、ガラス基板からなる電気絶縁
性透明基板２と、この電気絶縁性透明基板２の片面に所
定間隔で交互に並列配置されたストライプ状のＲ着色層
３Ｒ，Ｇ着色層３ＧおよびＢ着色層３Ｂと、これらのＲ
着色層３Ｒ，Ｇ着色層３ＧおよびＢ着色層３Ｂの各々の
幅方向（長手方向と直交する方向）の側方に各着色層と
隣接するようにして形成された遮光層４と、Ｒ着色層３
Ｒ，Ｇ着色層３ＧおよびＢ着色層３Ｂの各々ならびに全
ての遮光層４を平面視上覆うようにしてこれらの層上に
設けられた液晶駆動用透明電極５とを備えている。な
お、Ｒ着色層３Ｒ，Ｇ着色層３ＧおよびＢ着色層３Ｂの
各々は、電気絶縁性透明基板２の片面に所定間隔のスト
ライプ状に形成されたミセル電解用ＩＴＯ電極６上に形
成されている。

【００４８】上記の液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
１の液晶駆動用透明電極５におけるインジウム元素と亜
鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）は、ＩＣＰ分析
（誘導プラズマ発光分光分析。使用機種はセイコー電子
社製のＳＰＳ−１５００ＶＲ。）の結果、０．８３であ
った。また、この液晶駆動用透明電極５の面抵抗を三菱
油化社製のロレスタＦＰにより測定したところ１５Ω／
□であり、この値と、スローン（ＳＬＯＡＮ）社製のＤ
ＥＫＴＡＫ３０３０を用いて測定した液晶駆動用透明電
極５の膜厚から求めた比抵抗は１．２×１０^-4Ω・ｃｍ
であった。そして、当該液晶駆動用透明電極５の表面の
凹凸を前記のＤＥＫＴＡＫ３０３０を用いて測定したと
ころ、９オングストロームであった。

【００４９】上記の液晶駆動用透明電極５について、Ｎ
ＭＰ（２０℃における粘度：１．６５ｃＰ）、ＩＰＡ
（２０℃における粘度：２．４３ｃＰ）および純水（２
０℃における粘度：１．００２ｃＰ）の透過性試験を行
い、その溶剤遮断性を評価した。なお、透過性試験は、
試験に使用する液体を液晶駆動用透明電極５上にミリリ
ットル滴下することによって行い、溶剤遮断性の評価
は、試験に使用する液体の滴下から５分後に液晶駆動用
透明電極５を目視観察し、その観察結果を基に行った。
これらの結果を表１に示す。

【００５０】実施例２ 液晶駆動用透明電極を形成する際のターゲット印加電圧
を１８０Ｖとした以外は実施例１と同様にして、液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタの液晶駆動用透明電極について、
実施例１と同様の測定、評価を行った。これらの結果を
表１に示す。

【００５１】実施例３ （１）フォトリソグラフィー法による遮光層（ブラッ
ク）の形成 電気絶縁性透明基板としてガラス基板（コーニング社製
の＃７０５９）を用意し、遮光層形成用レジスト剤とし
て新日鉄化学（株）製の耐熱ネガ型ブラックレジストＶ
−２５９ＢＫを用いて、次のようにして遮光層を形成し
た。先ず、上記のガラス基板を１０rpm の回転速度で回
転させ、この上に前記の遮光層形成用レジスト剤２５ｃ
ｃを噴霧した。次に、ガラス基板の回転速度を１０００
rpm にして、このガラス基板上に前記の遮光層形成用レ
ジスト剤を均一にスピンコートした。スピンコート後、
８０℃で６分間プリベークを行った。その後、アライメ
ント機能のある露光機を用いて、所定の位置合せをしな
がら、所定のデザイン（９０×３１０μｍ角−２０μｍ
線幅）のマスクを用いてレジスト膜を露光した。光源と
しては２ｋＷの高圧水銀灯を用いた。プロキシミティギ
ャップ７０μｍをとり、レジスト膜を５００ｍＪ／ｃｍ
² 露光した後、現像液（新日鉄化学（株）製の専用現像
液：Ｖ−２５９ＩＤ）で１分間現像して、前記のレジス
ト膜を所定形状にパターニングした。現像後、純水をス
プレーしながらブラシによるスクラブリンスを行い、リ
ンス後に２００℃で６０分間ポストベークした。このよ
うにして、前記のレジスト膜からなる所定形状の遮光層
（厚さ１．０μｍ）を得た（以下、遮光層を形成したガ
ラス基板を「遮光層付ガラス基板」という。）。

【００５２】（２）着色層の形成 上記（１）で得た遮光層付ガラス基板の片面（遮光層を
設けた側の面）に、下記（ａ）〜（ｃ）の要領で、スト
ライプ状を呈する厚さ１．０μｍの着色層を顔料分散法
によって形成した（以下、着色層まで形成したガラス基
板を「着色層付ガラス基板」という。）。

【００５３】（ａ）フォトリソグラフィー法によるＲ着
色層の形成 Ｒ着色層（赤色波長域の分光透過率が高い着色層）形成
用レジスト剤として、新日鉄化学（株）製の耐熱ネガ型
カラーレジストＶ−２５９Ｒを用いる。まず、上記の遮
光層付ガラス基板を１０rpm の回転速度で回転させ、こ
の遮光層付ガラス基板の片面（遮光層を形成した側の
面）上に前記のＲ着色層形成用レジスト剤２５ｃｃを噴
霧する。次に、遮光層付ガラス基板の回転速度を７００
rpm にして、この遮光膜付ガラス基板上に前記のＲ着色
層形成用レジスト剤を均一にスピンコートする。スピン
コート後、８０℃で６分間プリベークを行う。その後、
アライメント機能のある露光機を用いて、所定の位置合
せをしながら、所定のデザイン（９０×３１０μｍ角−
２０μｍ線幅）のマスクを用いてレジスト膜を露光す
る。光源としては２ｋＷの高圧水銀灯を用いる。プロキ
シミティギャップ７０μｍをとり、レジスト膜を５００
ｍＪ／ｃｍ² 露光した後、現像液（新日鉄化学（株）製
の専用現像液：Ｖ−２５９ＩＤ）で１分間現像して、前
記のレジスト膜を所定形状にパターニングする。現像
後、純水をスプレーしながらブラシによるスクラブリン
スを行い、リンス後に２００℃で６０分間ポストベーク
する。このようにして、前記のレジスト膜からなる所定
形状のＲ着色層を得る（以下、Ｒ着色層まで形成したも
のを「Ｒ着色層付ガラス基板」という。）。

【００５４】（ｂ）フォトリソグラフィー法によるＧ着
色層の形成 Ｇ着色層（緑色波長域の分光透過率が高い着色層）形成
用レジスト剤として新日鉄化学（株）製の耐熱ネガ型カ
ラーレジストＶ−２５９Ｇを用い、スピンコート時の回
転速度を８００rpm にする以外は上記（ａ）と同様にし
て、所定形状のＧ着色層を得る。

【００５５】（ｃ）フォトリソグラフィー法によるＢ着
色層の形成 Ｂ着色層（青色波長域の分光透過率が高い着色層）形成
用レジスト剤として新日鉄化学（株）製の耐熱ネガ型カ
ラーレジストＶ−２５９Ｂを用い、スピンコートの回転
数を１０００rpm にする以外は上記（ｂ）と同様にし
て、所定形状のＢ着色層を得る。

【００５６】（３）液晶駆動用透明電極の形成 上記（２）で得た着色層付ガラス基板をＤＣマグネトロ
ンスパッタ装置に装着し、実施例１と同様にして着色層
上に液晶駆動用透明電極を形成して、目的とする液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタの断面形状は、ミセル電解用ＩＴ
Ｏ電極がない点を除いて、実施例１で得た液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタと同様である。上記の液晶ディス
プレイ用カラーフィルタの液晶駆動用透明電極につい
て、実施例１と同様の測定、評価を行った。これらの結
果を表１に示す。

【００５７】実施例４ 液晶駆動用透明電極を形成する際のターゲット印加電圧
を１８０Ｖとした以外は実施例３と同様にして、液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタの液晶駆動用透明電極について、
実施例１と同様の測定、評価を行った。これらの結果を
表１に示す。

【００５８】比較例１ 液晶駆動用透明電極を形成するにあたり、ターゲットと
してＩＴＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃：ＳｎＯ₂ ＝９５：５（重量
比））を用いた以外は実施例１と同様にして、液晶ディ
スプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶ディスプレ
イ用カラーフィルタにおける液晶駆動用透明電極は、本
発明における限定範囲外の物質であるＩＴＯからなる。
上記の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの液晶駆動用
透明電極について、実施例１と同様の測定、評価を行っ
た。これらの結果を表１に示す。

【００５９】比較例２ 液晶駆動用透明電極を形成する際のターゲット印加電圧
を４００Ｖとした以外は実施例１と同様にして、液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶ディスプ
レイ用カラーフィルタにおける液晶駆動用透明電極の表
面の凹凸は２３ｎｍであり、本発明の限定範囲外であっ
た。上記の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの液晶駆
動用透明電極について、実施例１と同様の測定、評価を
行った。これらの結果を表１に示す。

【００６０】比較例３ 液晶駆動用透明電極を形成する際のターゲット印加電圧
を３００Ｖとし、かつ、ターゲット中央部の平行磁場強
度を２５０ガウスとした以外は実施例１と同様にして、
液晶ディスプレイ用カラーフィルタを得た。この液晶デ
ィスプレイ用カラーフィルタにおける液晶駆動用透明電
極の表面の凹凸は１６ｎｍであり、本発明の限定範囲外
であった。上記の液晶ディスプレイ用カラーフィルタの
液晶駆動用透明電極について、実施例１と同様の測定、
評価を行った。これらの結果を表１に示す。

【００６１】参考例１ 実施例１で得た液晶ディスプレイ用カラーフィルタの液
晶駆動用透明電極について、実施例１と同様にしてｎ−
ヘキサン（２０℃における粘度：０．３１ｃＰ）の透過
性試験を行い、その溶剤遮断性を評価した。この結果を
表１に示す。

【００６２】

【表１】

【００６３】表１から明らかなように、実施例１〜実施
例４で得られた各液晶ディスプレイ用カラーフィルタで
は、透過性試験によっても液晶駆動用透明電極にヒビ割
れ、白濁は生じず、各々の液晶駆動用透明電極はＮＭ
Ｐ、ＩＰＡおよび純水に対して耐性を有している。この
試験結果と参考例１の透過性試験の結果から、実施例１
〜実施例４で得られた各々の液晶ディスプレイ用カラー
フィルタにおける液晶駆動用透明電極は、溶剤遮断性を
有している。したがって、これらの液晶ディスプレイ用
カラーフィルタにおいては、透明保護層を設けずとも着
色層および液晶の保護を図ることが可能である。

【００６４】一方、比較例１〜比較例３で得られた各液
晶ディスプレイ用カラーフィルタでは、透過性試験によ
って液晶駆動用透明電極にヒビ割れ、白濁が生じた。こ
のことから、各々の液晶ディスプレイ用カラーフィルタ
における液晶駆動用透明電極はＮＭＰ、ＩＰＡおよび純
水に対して耐性を有していない。すなわち、溶剤遮断性
を有していない。したがって、着色層および液晶の保護
を図るためには着色層上に透明保護層を設ける必要があ
る。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶ディ
スプレイ用カラーフィルタは、透明保護層を有してない
にも拘わらず着色層および液晶の保護を図ることが可能
である。したがって、本発明によれば製造工程の簡略化
とコストの低減を実現した液晶ディスプレイ用カラーフ
ィルタの提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得た液晶ディスプレイ用カラーフィ
ルタの断面の概略図である。

【符号の説明】

１ 液晶ディスプレイ用カラーフィルタ ２ 電気絶縁性透明基板 ３Ｒ Ｒ着色層 ３Ｇ Ｇ着色層 ３Ｂ Ｂ着色層 ４ 遮光層 ５ 液晶駆動用透明電極 ６ ミセル電解用ＩＴＯ電極

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電気絶縁性透明基板と、この電気絶縁性
   透明基板の上に所定のパターンで配置された複数種の着
   色層と、これらの着色層を平面視上覆うようにして該着
   色層上に設けられた液晶駆動用透明電極とを少なくとも
   備え、前記液晶駆動用透明電極が主要カチオン元素とし
   てインジウム元素および亜鉛元素を含有する非晶質酸化
   物膜からなり、該液晶駆動用透明電極の表面の凹凸が１
   ０ｎｍ以内であることを特徴とする液晶ディスプレイ用
   カラーフィルタ。
2. 【請求項２】 液晶駆動用透明電極が、２０℃における
   粘度が１．０ｃＰ以上の溶剤に対して遮断性を有する、
   請求項１に記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルタ。
3. 【請求項３】 液晶駆動用透明電極におけるインジウム
   元素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８
   以上０．９未満である、請求項１または請求項２に記載
   の液晶ディスプレイ用カラーフィルタ。
4. 【請求項４】 電気絶縁性透明基板の片面に所定のパタ
   ーンで複数種の着色層を形成する工程と、酸化インジウ
   ムと酸化亜鉛とを含有する組成物からなる焼結体ターゲ
   ットを用いたスパッタリング法により、主要カチオン元
   素としてインジウム元素および亜鉛元素を含有し、表面
   の凹凸が１０ｎｍ以内である非晶質酸化物膜からなる液
   晶駆動用透明電極を前記着色層上に該着色層を平面視上
   覆うようにして形成する工程とを含むことを特徴とする
   液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。
5. 【請求項５】 焼結体ターゲットとして、インジウム元
   素と亜鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８２
   以上０．９２未満のものを用いて、インジウム元素と亜
   鉛元素の原子比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｚｎ）が０．８以上０．
   ９未満の非晶質酸化物膜からなる液晶駆動用透明電極を
   形成する、請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】 ターゲット印加電圧を２００Ｖ未満とし
   たマグネトロンスパッタリング法により液晶駆動用透明
   電極を形成する、請求項４または請求項５に記載の方
   法。
7. 【請求項７】 焼結体ターゲットの中央部における平行
   磁場強度を４００ガウス以上とする、請求項６に記載の
   方法。