KR950008936B1 - 칼라필터 및 그 제조방법 - Google Patents

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Description

칼라필터 및 그 제조방법

제1(a) 내지 제1(g)도는 종래 기술에 따른 LCD용 칼라필터의 제조 공정도.

제2(a) 내지 제2(f)도는 본 발명에 마른 LCD용 칼라필터의 제조 공정도.

제3도는 종래 기술에 따른 LCD용 칼라필터의 단면도.

제4도는 본 발명에 따른 LCD용 칼라필터의 단면도.

제5도는 본 발명에 따른 블랙 매트릭스 전착 개념도.

제6도는 ITO 패턴의 예.

제7도는 R, G, B 칼라패턴의 파장에 따른 분광 스펙트럼.

[산업상 이용분야]

본 발명은 LCD(Liquid Crystal Display)용 칼라필터에 관한 것으로서, 특히 R,G,B 칼라층과 각 필터패턴 사이에 위치하는 광차단층(Black Matrix Layer)을 평면구조로 형성하여 종래 R,G,B 패턴 사이의 갭(gap) 제거 및 필터표면을 평탄화시키기 위해서 설치하던 보호층(Over Coat Layer)을 제거할 수 있는 LCD용 칼라필터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

[종래 기술 및 문제점]

최근 OA기기나 휴대용 소형 TV 등의 보급에 따라 이제까지의 전자 디스플레이 장치로 브라운관(CRT)대신에 액정 디스플레이(LCD), 일렉트로 알루미너센서(EL)소자, 플라즈마 디스플레이(PDP), 발광 다이오드(LED), 형광 표시관(VFD) 둥의 연구가 활발히 추진되고 일부는 실용화 되고 있다.

그중에서도 액정 디스플레이(display)는 극도로 정량으로 박형, 저가 저소비전력 구동으로 직접 회로와의 정합성이 좋은 둥의 특징을 가져 랩 톱 컴퓨터(Lap Top Cmputer)나 포켓 컴퓨터(Pocket Computer)의 표시외에 차량 적재용, 칼라(Color) TV 화상용으로서 그 용도를 급속하게 확대하고 있다.

또한 LCD에 사용되고 있는 칼라필터는 3∼5인치가 실용화되어 있고, 10∼14인치가 개발중이며 대형화를 향해 급속히 진행되고 있다.

이러한 액정 표시판은 개별스위칭 소자인 박막 트랜지스터(Thin Film Transjstor:TFT)가 형성된 하부기판 즉, TFT기판과, 액정층과, 레드(R), 그린(G) 및 블루(B)의 3가지 색 필터층이 반복 배열되어 칼라화를 시키는 상부기판 및 상기 상부기판 위에 형성된 오버 코트층(Over Coat Layer)과 ITO(Induim Tin Oxide) 투명 전극막으로 구성되어 있다.

색 필터층이 형성되어 있는 상부기관의 제조와 관련된 종래의 칼라필터 제조방법을 제1도를 참조하여 설명한다.

제1도에 나타낸 바와 같이, CPA(Cutting, Polishing, Annelaling) 처리를 한 투명한 유리기판(1)에 흑색 안료 분산 수지를 1∼2μm의 두께로 도포하고, 그위에 감광재 코팅, 마스크 노광, 현상을 하여 흑색 안료 분산 수지와 포토 레치스트(photoresiste : 이하 PR이라 한다)를 동시에 형성한 후 n-부틸 아세테이트 또는 1-메톡시(methoxy)-2-프로페놀아세테이트(propanol acetate) 등의 유기용제로 PR을 박리하여 광차단층인 블랙 매트릭스(black matrix)(2)를 형성한다.

그 후 흑색 안료 분산 수지 재질의 블랙 매트릭스가 형성된 투명기판(1) 상에 소정의 분광 특성을 갖도록 네가티브 포토레지스트, 예컨데 유기안료가 분산되어 있는 착색 아크릴 감광성 수지(안료 분산 PR)(3)을 1.0∼2.0μm 두께로 도포하고, 80∼110℃의 핫 플렛트에서 5분동안 소프트 베이크(soft bake)한 다음, 노광시 발생하는 레지스트의 산화 방지를 위해 산소 차단막(4) 등의 투명성 수지를 이미 형성된 착색막 위에 도포, 건조시킨 뒤 포토마스크를 이용하여 365nm 자외선으로 노광(5)을 실시한다.

그 다음 현상액으로 2∼3분 동안 현상한 후 DIW(Deionized Water)로 5∼6분 동안 린스하여 최적화된 레드 분광 특성을 가지는 제1색 필터층(6)을 형성한다.

상기 제1색 필터층(6)과 동일한 방법으로 상기 블랙 매트릭스(2) 상에 중첩되고 제1색 필터층(6)과 분리되게 상기 유리기판(1)상에 최적화된 그린 분광 특성을 갖는 착색 아크릴 감광성 수지의 제2색 필터층을 형성한다.

계속해서 상기 블랙 매트릭스(2)상에 중첩되고 상기 제2색 필터층(7)과 분리되게 상기 유리기판(1)상에 최적화된 블루 분광특성을 가지는 착색 아크릴 수지의 제3색 필터층(8)을 형성한다.

R,G,B 칼라층을 완성한 다음 블랙 매트릭스에 의해 형성된 칼라패턴과 블랙 매트릭스 층의 겹침부 단자, 각 칼라패턴 사이의 1.0∼2.0μm이 갭(Gap), 안료 분산 PR 특유의 노광 광흡수, 반사에 의해서 발생하는 오버행(Over Hang)(11)(제3도 참조)에 의한 후속 공정에서 ITO 단선을 방지하기 위하여 제1(f)도에서 도시한 바와 같이 상기 착색 패턴(6,7,8)을 보호함과 아울러 착색 패턴(6,7,8)사이를 메꾸는 방법으로 표면 경도가 높고 광투과성이 우수한 아크릴수지, 폴리이미드 수지 등의 투명수지를 0.5∼3μm 정도의 두께로 형성한 후 150∼220℃ 핫플레트에서 5분동안 가열하여 오버코트층(9)을 형성한다.

그후 제1(g)도에 나타낸 바와 같이 상기 오버코트층(9)의 전표면상에 액정 구동을 위한 전압이 인가되는 ITO전극(10)을 스퍼터하여 칼라필터를 완성한다.

한편, 제3도에 도시된 종래기술에 따른 칼라필터의 단면도에서 알 수 있듯이 종래에 있어서는 노광시 착색 감광막에 의한 빛의 흡수 반사로 인하여 현상(Develop)후 빛의 흡수량에 차이가 생기게 되어 패턴 에지부(Edge부)의 모양이 변화됨을 알 수 있다.

즉, 빛이 용이하게 도달하는 상층부는 패턴이 크고, 색에 의해 빛의 흡수가 방해되는 하층부는 빛이 흡수되지 못하여 가교결합이 충분하게 이루어지지 않기 때문에 칼라필터 패턴의 형상은 역삼각형 모양을 이루게 된다.

이와 같은 상태에서 ITO 전극을 증착하게 되면 패턴 에지부에서 단선을 일으키기 때문에 ITO 전극 단락 방지를 위해 패턴상에 평탄화성이 우수한 아크릴 또는 폴리이미드 수지를 도포, 건조하여 패턴 에지부분의 불균일을 평화화 시킨 후 ITO 전극을 증착하여 칼라패턴을 완성하였다.

상기한 바와 같이 종래에 있어서는, 1) 안료 분산 PR이 레드(R), 그린(G), 블루(B)의 칼라를 이미 포함하고 있기 때문에 패턴 형성을 위한 노광시 안료 분산 PR의 두께가 1μm 이상이 되면 빛을 효과적으로 흡수하지 못하여 패턴 상부보다 하부가 작아지는 오버행이 필연적으로 발생하여 오버코트 층을 반드시 필요로 하고 있다는 점과, 2) 오버코트막 형성시 전면에 도포함으로써 칼라필터 표면에 생기는 돌기, 이물, 스피드 보트(Speed boat)를 없애고 표면의 균질성(Uniformity) 등을 만족하기 위해 고도의 기술과 고가의 설비가 필요하고, 오버코트막의 보관에 있어 어려움이 따르기 때문에 원부자재 과소비가 불가피하며, 3) 1.0∼2.0μm 두께의 블랙매트릭스와 칼라층이 겹치는 부분에서 블랙 매트릭스 두께 만큼의 오목 블록이 발생하여 치명적인 화질 불량의 요인이 되었고, 4) 이와 같은 오목 블록을 감소시키기 위하여 칼라필터에 본질적으로 불필요한 오버코트 막을 1∼3μm의 두께로 두껍게 코팅하여 스루풋(throughput : 시스템효율) 저하 및 수율 저하의 원인이 되고 있으며, 5) 오버코트막을 형성하지 않으면 오버행 부분에서 ITO 단선이 발생하며, 6) ITO 형성시 고온에서 증착함으로써 유기막 위에 유기막이 헝성되는 과정에서 그 계면에 결정구조 및 열적특성이 상이하기 때문에 주름이 생겨 투과율을 저하시키고 있으며 LCD패널 제조시 칼라필터(상판)와, TFT(하판; M/M. poly, STN의 세그먼트(segment 전극) 및 접착과정에서 어셈블리(Assembly)후두 패널(panel) 사이에 있는 접착제로 쓰이는 열경화제가 유기막에는 접착성이 뛰떨어져 패널이 분리되는 등의 문제점을 안고 있었다.

[발명의 목적]

이에 본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 이루어진 것으로, R,G,B 패턴 및 블랙 매트릭스(전착 흑색 안료패턴)를 평면구조로 일체화시킴으로써 오목 블록부분을 근원적으로 제거하여, 오버코트를 하지 않고도 평탄화 칼라필터 표면 및 ITO 투명전극막의 단선이 없는 칼라필터 및 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.

[발명의 구성]

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 칼라필터는 투명유리기판 상에 전기분해용 베이스 전극으로서 소정 패턴의 공간을 갖는 도전성 전극 패턴과, 상기 도전성 전극 패턴 사이의 공간에 동일 높이로 각각 분리되어 순차적으로 형성되는 제1색 내지 제3색 필터층과, 상기 도전성 전극 패턴 위에 상기 제1색 내지 제3색 필터층과 동일 높이로 형성되는 광차단층과, 전체적으로 평탄화된 상기 색필터층과 광차단층 위에 형성된 투명 전극막으로 구성됨을 특징으로 한다.

한편, 상기 칼라 필터의 제조방법은 투명 유리기판 상에 소정패턴의 공간을 갖는 도전성 전극 패턴을 형성하는 제1공정과; 상기 도전성 전극 패턴 사이에 각각 분리되어 제1색, 제2색 및 제3색 필터층을 동일 높이로 순차로 형성하는 제2공정과; 상기 도전성 전극 패턴위에 상기 제1색 내지 제3필터층과 동일높이로 광차단층을 전착하는 제3공정과; 상기 공정후 평탄화된 제1 내지 제3색 필터층 및 광차단층 위에 투명 전극막을 형성하는 제4공정으로 이루어짐을 특징으로 한다.

[작용]

본 발명은 상술한 구성에 의해 ITO 재질의 도전성 전극 패턴이 형성된 유리기판의 공간에 3색, 즉 레드(R), 그린(G), 블루(B)막 패턴을 각각의 패턴 사이의 단자가 0.1μm 이내가 되도록 하고 상기 3색막 패턴 사이에 형성된 갭에 흑색 안료패턴을 전착시킬 경우, 전착막은 ITO 전극상에서 전착 성장이 되므로 R,C,B 칼라패턴 사이의 갭을 효과적으로 메꾸어주어 칼라필터의 평면구조가 가능하게 되어, R,G,B막 위에 직접 ITO 전극막을 입혀도 ITO 전극막의 단선 둥의 결합이 발생치 않으며, 안료 포토레지스트의 내열성이 우수하기 때문에 ITO 전극막, 배향막 공정(process)의 제약을 받지 않게 된다.

또한, 블랙 매트릭스 패턴으로 레드, 그린, 블루 각각의 필터와 필터 사이의 단자를 없애기 위하여 단자가 생기는 부분만 고분자 수지가 착색되므로 평활성이 좋게 되어 STN용 칼라필터를 쉽게 적용할 수 있으며, LCD패널 제조시 셀갭(Cell gap)이 좋아져 얼룩이 발생하지 않게 되고 레드, 그린, 블루 위에 오버코트막이 존재하지 않으므로 종래의 칼라필터 보다 투과율이 2∼5% 향상되어 선명한 색도를 얻을 수 있게 된다.

[실시예]

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명한다.

제2(a)도 내지 제2(f)도는 본 발명에 따른 칼라필터의 제조 공정도를 도시하고 있으며, 제4도 및 제5도는 본 발명에 따른 LCD용 칼라필터의 단면도 및 블랙 매트릭스 전착 개념도를 나타낸다.

본 명세서 도면중 제2도, 제4도 및 제5도에 표시된 것과 동일한 부호는 동일 구성 부분을 나타내고 있음에 유의하여야 한다.

제4도를 참조하면, 본 발명에 따른 실시예는 유리기판(1) 상부에 ITO를 재질로하여 소정 간격으로 형성된 다수의 ITO 전극패턴(12)과 제1, 제2, 제3색필터층(6,7,8)과 상기 필터패턴(6,7,8) 사이에 형성된 갭 즉, 도전성 ITO 전극 패턴 위에 상기 제1 내지 제3색 필터층(6,7,8)과 동일 높이로 전착된 흑색 안료 패턴인 블랙 매트릭스(13), 이들 상부에 형성된 ITO의 투명전극막(10) 구조로 되어 있음을 알 수 있다.

상기 구조와 제3도에 나타낸 종래의 칼라필터 구조의 비교해 볼 때, 본 발명에 따라 칼라필터의 구조는 종래 칼라필터가 블랙 매트릭스(2) 상에서 블랙매트릭스(2)와 제1색 내지 제3색 필터층(6,7,8)의 오보행간의 단자가 매우 컸으나 본 발명에서는 각 R,G,B 패턴 사이의 단자를 0.1μm로 규정한 뒤 그 사이에 형성되어 있는 ITO 전극 패턴을 베이스 전극으로 하여 블랙 매트릭스(13)를 전착 성장시켜 R,G,B칼라 필터패턴 사이의 갭을 효과적으로 메꾸어 주어 색필터층 평탄화 목적의 후속 공정인 보호층을 게거함으로써 제4도와 같은 칼라 필터 구조를 갖도록 하여 본 발명의 목적을 달성하는 것이 큰 차이점이다.

제4도에 도시된 본 발명에 따른 상기 칼라 필터 구조의 제조방법을 제2(a)도 내지 제2(f)도를 참조하여 상세히 설명한다.

제2(a)도에 나타낸 바와 같이 유리기판(1) 상에 ITO를 300∼2000Å 두께로 증착(이때 ITO 증착을 E-비임, 스퍼터 등의 기법을 사용할 수 있으며 어떤 방법을 사용하여도 무방하다)한 후, ITO가 형성되어 있는 기판상에 마스크 노광법을 이용하여 감광재 도포, 마스크 노광, 현상을 실시하여 후에 형성되는 블랙 매트릭스와 동일한 PR 패턴을 형성하고, 이 기판을 ITO 식각액인 HC1; 45∼49%, DI; 45∼49% 및 HNO₃; 2∼10%에 1∼5분간 침적하여 ITO를 식각(Etch)한다.

다음에 PR 패턴을 박리하여 제6도와 같은 블랙 매트릭스 전착용 도전성 ITO 패턴(12)을 완성한다. 이와 같은 방법에서 필터 패턴 모양에 제약은 없으며 기본적인 칼라필터 패턴 즉, 스트라이프(strip), 모자이크(Mosaic), 트라이 앵글(Triangle) 등 모두 용이하게 가능하다.

그 다음 제2(b)도에서와 같이 상기 블랙 매트릭스 전착용 ITO전극 패턴(12)이 형성된 유기판(1) 상에 착색 아크릴 감광성 수지(안료 분산 PR)(3)인 레드 포토레지스트(Red P.R)(3)를 1.0∼2.0μm 두꼐로 도포하고, 80∼110℃의 핫 플렛트에서 5분동안 소프트 베이크(Soft Bake)를 실시한다.

계속해서, 제2(c)도는 노광시 발생하는 PR의 산화방지를 위해 레드 포토레지스트(3)위에 산소 차단막(4)인 투명성 수지를 제2(b)도에서 전술한 사항과 동일한 방식으로 스핀 코팅 및 건조시킨다.

그 다음 제2(d)도는 건조시킨 산소 차단막위에 소정의 칼라패턴이 형성되어 있는 포토 마스크(PhotoMask)(5)를 정렬(Align)하여 자외선으로 노광을 실시한다.

계속해서, 제2(e)도에 나타나 있는 바와 같이 현상액으로 2∼3분동안 현상한 후 DIW(Deionionized Water)로 5∼6분 동안 린스하여 최적화된 레드 분광 특성을 가지는 제1색 필터층(6)을 형성한다.

그후 확실한 가교결합과 접착력 강화를 위해 하드베이크를 실시한다.

동시에 마찬가지 방법으로 상기 유리기판(1)상에 제1색 필터층(6)과 분리되어 최적화된 그린 분광 특성을 가지는 착색 아크릴 감광 수지의 제2색 필터층(7)으로서 그린패턴이 형성되고, 또다시 상기 유리기판(1)상에 제2색 필터층(7)과 분리되어 최적화된 블루 분광 특성을 갖는 착색 아크릴 감광성 수지의 제3색필터층(8)으로서 블루 패턴을 형성한다.

이때 제1색 내지 제3색 각각의 패턴 두께는 1.0∼2.0μm의 두께로 동일하며 각각의 단자는 0.1μm 이내가 되도록 조정한다.

제7도를 참조로 하여 R,G,B에 대한 분광특성을 조사해 본 결과, 칼라패턴의 두께가 상기 조건보다 얇은 경우에는 곡선이 위로 이동하게 되고, 칼라 패턴의 두께가 상기 조건보다 두꺼울 경우에는 곡선이 아래로 이동하게 되어 어둡게 된다.

이와같이 칼라 필터의 두께는 제7도의 칼라 스펙트럼(spectrum) 특성을 맞추기 위하여 조정하는 것이므로 물론 1.0μm 이하, 2.0μm 이상도 가능하나 본 발명에서는 칼라 스펙트럼 특성을 벗어나므로 바람직하지 않다.

그 다음에, 제2(e)도에 도시된 것과 같은 칼라필터 패턴이 완성된 기판을 전기 영동법(electric deposition)을 이용하여 블랙 매트릭스 전극 패턴위에 고분자 수지를 1.0∼2.0μm의 칼라필터 패턴과 동일 두께로 증착시킨다.

이와 같이 하기 위해서는 제5도에 나타난 바와 같이 구성된 전해조에 흑색안료 분산수지액 즉, 전하를 가진 가용성 수지인 폴리에스텔 멜라민 수지와 물 또는 유기용매(또는 양자의 화합물)에 분산 용해시킨 전착용액중에 상기 기판을 침적하고 상기 불랙 매트릭스용 ITO 전극패턴에는 양극을, 대향전극에는 음극을 연결한 뒤 직류전압을 10∼50V 걸어서 용매중의 고분자수지를 상기 블랙 매트릭스용 ITO전극패턴 위에 석출시켜 상기 칼라필터 두께와 같은 정도로 전압을 제어하면서 전착두께가 1.0∼2.0μm가 되도록 조정한다.

블랙매트릭스(13)의 두께는 전압과 시간만의 함수이므로 용이하게 R,G,B 패턴과 동일 두께로 형성 가능하며, 상기 블랙 매트릭스(13)는 ITO 전극상에서 전착, 성장이 되므로 R,G,B 칼라 필터 패턴 사이의 갭(Gap)을 효과적으로 메꾸어주어 칼라필터의 평면구조가 가능하다.

[발명의 효과]

1) R,G,B(6,7,8) 및 블랙 매트릭스(13)가 평면구조로 되어 있어 칼라 필터표면이 평탄화되기 때문에 종래 R,G,B 패턴 보호막 및 평탄화막 역할을 해주는 오버코트층(Over Coat Layer : 보호층)이 없이도 투명전극막과 배향막의 공정상 제약을 받지 않게 되며, 보호층 형성시 발생되는 단선등의 불량요인을 없앨 수 있어 수율향상 및 제조비용 절감등이 가능하게 되고, 2) 칼라필터 패턴의 오버행(Over Hang)에 의해 발생되던 ITO 전극 단선을 평면구조 칼라필터에서는 효과적으로 예방할 수 있을 뿐 아니라, 3) 오버코트막 형성에 비해 고도의 기술이 요하지 않고, LCD패널(panel) 제조시 생기는 열경화재가 떨어져 나가는 현상이 줄어들어 생산성 향상에 기여할 수 있으며, 4) ITO 증착시 생기는 유기막과 투기막 계면간에 생기는 주름 및 투과율 감소가 개선되므로 색도가 좋아 선명한 색상을 얻을 수 있고, 5) R,G,B 및 블랙 매트릭스가 평면 구조로 되어 있어 칼라필터 표면이 평탄하기 때문에, LCD의 셀갭(Cell Gap)에 미치는 영향이 전혀 없게 되면 또한 종래 STN LCD의 경우 0.1μm 이하의 셀갭이 유지되지 않을시에 발생될 수 있었던 화상 얼룩등과 같은 문제점이 개선된다.

Claims (13)

1. 투명유기판 상에 전기분해용 베이스 전극으로서 소정 패턴의 공간을 갖는 도전성 전극 패턴과, 상기 도전성 전극 패턴 사이의 공간에 동일 높이로 각각 분리되어 순차적으로 형성되는 제1색 내지 제3색 필터층과, 상기 도전성 전극 패턴 위에 상기 제1색 내지 제3색 필터충과 동일 높이로 형성되여 흑색 안료 수지로 이루어지는 광차단층과, 전체적으로 평탄화된 상기 색필터층과 광차단층 위에 형성된 투명 전극막으로 구성됨을 특징으로 하는 칼라 필터.
2. 제1항에 있어서, 상기 제1색 내지 제3색 필터층은 안료 분산 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼라 필터.
3. 제1항에 있어서, 상기 도전성 전극은 ITO로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼라필터.
4. 제3항에 있어서, 상기 도전성 전극 패턴은 스트라이프, 모자이크 또는 트라이앵글 방식으로 배치된 공간을 갖는 패턴인 것을 특징으로 하는 칼라필터.
5. 칼라필터 제조방법에 있어서, 투명 유리기판 상에 소정패턴의 공간을 갖는 도전성 전극 패턴을 형성하는 제1공정과; 상기 도전성 전극 패턴 사이에 각각 분리되어 제1색, 제2색 및 제3색 필터층을 동일 높이로 순차로 형성하는 제2공정과; 상기 도전성 전극 패턴위에 상기 제1색 내지 제3색필터층과 동일높이로 광차단층을 전착하는 제3공정과; 상기 공정후 평탄화된 제1 내지 제3색 필터층 및 광차단층 위에 투명 전극막을 형성하는 제4공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 칼라필터 제조방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 도전성 전극패턴은 ITO로 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
7. 제5항 내지 제6항중 한항에 있어서, 상기 도전성 전극패턴은 스트라이프, 모자이크 또는 트라이 앵글방식으로 배치된 공간을 갖는 패턴인 것을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
8. 제5항에 있어서, 상기 각 색 필터층은 상기 도전성 전극패턴이 형성된 유리기판 상에 착색 포토레지스트를 코팅한 후 건조하는 공정, 상기 포트레지스트가 노광시 산화되는 것을 막아주기 위해서 상기 포토레지스트 위에 산소 차단막을 코팅한 후 건조하는 공정, 노광 및 현상에 의해 소정간격으로 상기 도전성 전극패턴 사이에 각 색 필터층을 형성하고 하드 베이크를 실시하는 공정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
9. 제5항에 있어서, 상기 도전성 전극패턴의 두께는 1∽2μm범위로 형성함을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
10. 제5항에 있어서, 투명 전극막은 RF 마그네트론 스퍼터로 증착하여 형성함을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
11. 제5항에 있어서, 상기 광차단층인 블랙 매트릭스 패턴은 전기 영동범에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 광차단층 형성공정은 전하를 가진 가용성 수지인 전착액중에 상기 도전성 전극패턴과 R,G,B 패턴이 형성된 기판을 침적하는 공정과, 상기 도전성 전극패턴에 양극을, 대향전극은 음극으로 연결한 뒤 직류전압을 걸어서 용매중의 고분자 수지를 상기 칼라필터의 두께와 같은 정도로 상기 도전성 전극패턴 위에 석출시켜 광차단층을 형성하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 칼라필터의 제조방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 전착액은 가용성 수지인 폴리에스텔 멜라민 수지를 물 또는 유기용매에 분산, 용해시켜 형성하는 것을 특징으로 하는 칼라필터 제조방법.