JP2003066486A - 液晶表示装置と液晶表示装置用光照射装置 - Google Patents
液晶表示装置と液晶表示装置用光照射装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ブラックマトリックスや信号線が存在して
も、紫外線照射が遮断されず、封印剤の全量が硬化し、
２枚の基板を完全に密着できる液晶表示板の提供。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置には互いに対向す
る２枚の基板及び２枚の基板の間に注入されている液晶
物質層及び２枚の基板の表示領域外（Ｄ）のペンアウト
領域周囲（Ｏ）に形成されて２枚の基板の間に注入され
ている液晶物質層を封印し、紫外線硬化材からなる封印
材９０を含む。この時、封印材９０はペンアウト領域
（Ｏ）でパッド６８と重なっておらず、封印材９０と重
なっている互いに隣接するゲート線及びデータ線６２の
間隔はゲート線及びデータ線６２の幅に対して１〜１０
倍の間隔で形成されており、ゲート線及びデータ線６２
の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている。
も、紫外線照射が遮断されず、封印剤の全量が硬化し、
２枚の基板を完全に密着できる液晶表示板の提供。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置には互いに対向す
る２枚の基板及び２枚の基板の間に注入されている液晶
物質層及び２枚の基板の表示領域外（Ｄ）のペンアウト
領域周囲（Ｏ）に形成されて２枚の基板の間に注入され
ている液晶物質層を封印し、紫外線硬化材からなる封印
材９０を含む。この時、封印材９０はペンアウト領域
（Ｏ）でパッド６８と重なっておらず、封印材９０と重
なっている互いに隣接するゲート線及びデータ線６２の
間隔はゲート線及びデータ線６２の幅に対して１〜１０
倍の間隔で形成されており、ゲート線及びデータ線６２
の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置及び液
晶表示装置用封印材を硬化させるための光照射装置に関
する。
晶表示装置用封印材を硬化させるための光照射装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】一般に液晶表示装置は電極が形成されて
いる２枚の基板及びその間に注入されている液晶物質層
を含み、２枚の基板は周縁に形成された液晶物質を封じ
込める封印材で結合されており、２枚の基板の間に配置
されている間隔材により所定の間隔が維持されている。
いる２枚の基板及びその間に注入されている液晶物質層
を含み、２枚の基板は周縁に形成された液晶物質を封じ
込める封印材で結合されており、２枚の基板の間に配置
されている間隔材により所定の間隔が維持されている。
【０００３】このような液晶表示装置では異方性誘電率
を有する液晶物質に電極を利用して電界を印加し、この
電界の強さを調節して基板を透過する光の量を調節する
ことによって画像を表示する。
を有する液晶物質に電極を利用して電界を印加し、この
電界の強さを調節して基板を透過する光の量を調節する
ことによって画像を表示する。
【０００４】このような液晶表示装置を製造するために
は、まず２枚の基板に信号伝達用配線、配線と電気的に
連結されている電界生成電極及び様々な色を表現するた
めのカラーフィルターを形成する。次に、２枚の基板の
表面に液晶分子を配向するための配向膜を塗布し配向処
理を実施した後、そのうち一つの基板に間隔材を配置
し、液晶注入口を残して封印材を周囲に印刷する。次
に、２枚の基板を位置合わせし封印材を利用して２枚の
基板を所定距離隔てて接着した後、液晶注入口を通じて
２枚の基板の間に液晶物質を注入し液晶注入口を封止し
て液晶セルを完成する。
は、まず２枚の基板に信号伝達用配線、配線と電気的に
連結されている電界生成電極及び様々な色を表現するた
めのカラーフィルターを形成する。次に、２枚の基板の
表面に液晶分子を配向するための配向膜を塗布し配向処
理を実施した後、そのうち一つの基板に間隔材を配置
し、液晶注入口を残して封印材を周囲に印刷する。次
に、２枚の基板を位置合わせし封印材を利用して２枚の
基板を所定距離隔てて接着した後、液晶注入口を通じて
２枚の基板の間に液晶物質を注入し液晶注入口を封止し
て液晶セルを完成する。
【０００５】この時、封印材としては熱硬化性材料また
は紫外線硬化性材料を用いることができ、紫外線硬化性
材料を使用する場合には紫外線を照射しながら２枚の基
板を付着する工程を進める。
は紫外線硬化性材料を用いることができ、紫外線硬化性
材料を使用する場合には紫外線を照射しながら２枚の基
板を付着する工程を進める。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この場合、画像が表示
される表示領域周囲から漏洩する光を遮断するためのブ
ラックマトリックスや走査信号または画像信号を伝達す
るための信号線が形成されている基板の側から紫外線を
照射すれば、このような配線などによって照射される紫
外線が遮断される。よって、これら配線と重なっている
封印材の全量が硬化しないため、硬化度が１００％に達
しないことがあり、これによって２枚の基板が完全に接
着できず、両基板間の接合不良が発生する。また、硬化
していない封印材は液晶物質層の液晶物質と混合されて
液晶物質を汚染させ液晶表示装置の表示特性を低下させ
る問題点を誘発させる。
される表示領域周囲から漏洩する光を遮断するためのブ
ラックマトリックスや走査信号または画像信号を伝達す
るための信号線が形成されている基板の側から紫外線を
照射すれば、このような配線などによって照射される紫
外線が遮断される。よって、これら配線と重なっている
封印材の全量が硬化しないため、硬化度が１００％に達
しないことがあり、これによって２枚の基板が完全に接
着できず、両基板間の接合不良が発生する。また、硬化
していない封印材は液晶物質層の液晶物質と混合されて
液晶物質を汚染させ液晶表示装置の表示特性を低下させ
る問題点を誘発させる。
【０００７】本発明の技術的課題は、液晶表示装置用基
板の接合不良を防止すると共に液晶物質の汚染を防止す
ることである。
板の接合不良を防止すると共に液晶物質の汚染を防止す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明では、このような
課題を解決するために液晶表示装置用基板を接合するの
に使用する光硬化性封印材の硬化度を高める。このため
に、光を遮る配線の幅と間隔を調節したり光が多様な角
度で封印材に照射できるようにする。
課題を解決するために液晶表示装置用基板を接合するの
に使用する光硬化性封印材の硬化度を高める。このため
に、光を遮る配線の幅と間隔を調節したり光が多様な角
度で封印材に照射できるようにする。
【０００９】本発明の一つの特徴による液晶表示板は絶
縁基板、基板上に形成されている多数の信号線、そして
信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受
ける多数の信号パッドを含み、信号パッド付近の信号線
の間の間隔は信号線の幅の１乃至１０倍である。
縁基板、基板上に形成されている多数の信号線、そして
信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受
ける多数の信号パッドを含み、信号パッド付近の信号線
の間の間隔は信号線の幅の１乃至１０倍である。
【００１０】この時、信号線の幅は１０〜１００μmで
あるのが好ましく、信号パッド付近では信号線が折れ曲
がっていることもある。
あるのが好ましく、信号パッド付近では信号線が折れ曲
がっていることもある。
【００１１】本発明の一つの実施例による液晶表示装置
は表示領域、パッド領域及び前記両領域の中間に位置す
るペンアウト領域を含む。表示領域には走査信号を伝達
するゲート線及びゲート線に交差して画素領域を定義し
画像信号を伝達するデータ線が形成されていて画像が表
示される。パッド領域にはゲート線及びデータ線に連結
されており、外部から走査信号及び画像信号をゲート線
及びデータ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパ
ッドが形成されている。そしてペンアウト領域には表示
領域とパッド領域の間に位置して対向する２枚の基板の
間に注入されている液晶物質を封じ込め、ゲート線及び
データ線と交差して表示領域外の周囲に形成されていて
ゲートパッド及びデータパッドと重なっていない封印材
がある。
は表示領域、パッド領域及び前記両領域の中間に位置す
るペンアウト領域を含む。表示領域には走査信号を伝達
するゲート線及びゲート線に交差して画素領域を定義し
画像信号を伝達するデータ線が形成されていて画像が表
示される。パッド領域にはゲート線及びデータ線に連結
されており、外部から走査信号及び画像信号をゲート線
及びデータ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパ
ッドが形成されている。そしてペンアウト領域には表示
領域とパッド領域の間に位置して対向する２枚の基板の
間に注入されている液晶物質を封じ込め、ゲート線及び
データ線と交差して表示領域外の周囲に形成されていて
ゲートパッド及びデータパッドと重なっていない封印材
がある。
【００１２】この時、ペンアウト領域で互いに隣接する
ゲート線またはデータ線はゲート線またはデータ線の幅
に対して１乃至１０倍の間隔で形成されており、ゲート
線またはデータ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成さ
れているのが好ましい。
ゲート線またはデータ線はゲート線またはデータ線の幅
に対して１乃至１０倍の間隔で形成されており、ゲート
線またはデータ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成さ
れているのが好ましい。
【００１３】また、封印材は紫外線硬化性であるのが良
く、ペンアウト領域でゲート線またはデータ線は折れて
いることがあり、少なくとも封印材の一部はゲート線及
びデータ線の折れた部分と重なっていることがある。
く、ペンアウト領域でゲート線またはデータ線は折れて
いることがあり、少なくとも封印材の一部はゲート線及
びデータ線の折れた部分と重なっていることがある。
【００１４】本発明の一つの実施例による液晶表示装置
用光照射装置は発光部材、対向する２枚の基板及び２枚
の基板の周囲に形成されている紫外線硬化性封印材を含
む液晶セルを支持する支持台、そして液晶セルの上部、
下部または側面に対応して配置されており、発光部材か
らの光の方向を変える光経路変更部材を含む。
用光照射装置は発光部材、対向する２枚の基板及び２枚
の基板の周囲に形成されている紫外線硬化性封印材を含
む液晶セルを支持する支持台、そして液晶セルの上部、
下部または側面に対応して配置されており、発光部材か
らの光の方向を変える光経路変更部材を含む。
【００１５】この時、発光部材が発する光は紫外線であ
ることがあり、光経路変更部材は光を反射または散乱さ
せ、このために屈曲面を有することもある。
ることがあり、光経路変更部材は光を反射または散乱さ
せ、このために屈曲面を有することもある。
【００１６】また、光経路変更部材は支持台の上部に配
置されることがあり、その上に光透過部材が配置される
こともある。この場合光経路変更部材は支持台と一体に
なっていることがある。
置されることがあり、その上に光透過部材が配置される
こともある。この場合光経路変更部材は支持台と一体に
なっていることがある。
【００１７】光経路変更部材はまた支持台と液晶セルの
間及び液晶セルと発光部材の間に配置されていたり、液
晶セルの側面に多段に配置されることがあり、後者の場
合反射面を有するのが好ましい。
間及び液晶セルと発光部材の間に配置されていたり、液
晶セルの側面に多段に配置されることがあり、後者の場
合反射面を有するのが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参考として
本発明の実施例による液晶表示装置について本発明の属
する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実
施できるように詳細に説明する。
本発明の実施例による液晶表示装置について本発明の属
する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実
施できるように詳細に説明する。
【００１９】［実施例１（液晶表示装置の構造）］ま
ず、図１及び図２を参照して本発明の第１実施例による
液晶表示装置の構造を概略的に説明する。
ず、図１及び図２を参照して本発明の第１実施例による
液晶表示装置の構造を概略的に説明する。
【００２０】図１は、本発明の第１実施例による液晶表
示装置の構造を示した概略的な配置図であり、図２は図
１でII−II´線に沿って切断した断面図である。
示装置の構造を示した概略的な配置図であり、図２は図
１でII−II´線に沿って切断した断面図である。
【００２１】図１及び図２に示したように、本発明によ
る液晶表示装置は互いに対向する２枚の基板組立体、つ
まり、下板１００及び上板２００の間に注入されている
液晶物質層３００、そして二つの板１００、２００の間
に位置して液晶物質層３００を封じ込める封印材９０を
含む。
る液晶表示装置は互いに対向する２枚の基板組立体、つ
まり、下板１００及び上板２００の間に注入されている
液晶物質層３００、そして二つの板１００、２００の間
に位置して液晶物質層３００を封じ込める封印材９０を
含む。
【００２２】下板１００は上板２００より寸法が大き
く、画像を表示する表示領域（Ｄ）とその外側の周辺領
域に分けることができる。
く、画像を表示する表示領域（Ｄ）とその外側の周辺領
域に分けることができる。
【００２３】封印材９０は周辺領域に位置し、下板１０
０の縁に沿って閉四角形模様に形成されている。ここで
封印材９０が閉曲線模様であるのは上板２００と下板１
００を組立てる前に液晶物質を入れる工程によるからで
ある。具体的には、下板１００に封印材９０を形成した
後、封印材９０で囲まれた領域に液晶物質を滴下して、
上板２００を置く方法で組立作業を進める場合にこのよ
うな模様になる。このような方法で液晶物質を入れる場
合には液晶物質の量を正確に調節することが難しい。こ
のため四角形に突出部を作った後、液晶物質を十分に入
れて、余分の液晶物質を突出部側に集まるようにする方
法を用いることもできる。封印材９０は光硬化材、特に
紫外線を照射すれば硬化する紫外線硬化材からなり、封
印材９０の表面には封印材９０と液晶物質の反応を防止
するための反応防止膜を形成することができる。
０の縁に沿って閉四角形模様に形成されている。ここで
封印材９０が閉曲線模様であるのは上板２００と下板１
００を組立てる前に液晶物質を入れる工程によるからで
ある。具体的には、下板１００に封印材９０を形成した
後、封印材９０で囲まれた領域に液晶物質を滴下して、
上板２００を置く方法で組立作業を進める場合にこのよ
うな模様になる。このような方法で液晶物質を入れる場
合には液晶物質の量を正確に調節することが難しい。こ
のため四角形に突出部を作った後、液晶物質を十分に入
れて、余分の液晶物質を突出部側に集まるようにする方
法を用いることもできる。封印材９０は光硬化材、特に
紫外線を照射すれば硬化する紫外線硬化材からなり、封
印材９０の表面には封印材９０と液晶物質の反応を防止
するための反応防止膜を形成することができる。
【００２４】液晶物質層３００には二つの板１００、２
００を平行に支持するための球形の基板間隔材（図示せ
ず）が混合されることができ、封印材９０も基板間隔材
を含むことができる。一方、基板間隔材は窒化シリコン
または有機絶縁物質などからなる突起で形成されること
もできる。
００を平行に支持するための球形の基板間隔材（図示せ
ず）が混合されることができ、封印材９０も基板間隔材
を含むことができる。一方、基板間隔材は窒化シリコン
または有機絶縁物質などからなる突起で形成されること
もできる。
【００２５】図１及び図２のように、本発明の第１実施
例による液晶表示装置の下板１００は、絶縁基板１０１
とその上のゲート配線２０及びデータ配線６０を含む。
ゲート配線２０とデータ配線６０は低抵抗の導電物質か
らなっており、ゲート絶縁膜３０で隔てられて互いに絶
縁されている。ゲート配線２０は、図面からは具体的に
認められないが、横方向にのびていて走査信号を伝達す
る表示領域（Ｄ）内の複数のゲート線、周辺領域に位置
しゲート線と連結されていて外部から走査信号を受けて
ゲート線に伝達する複数のゲートパッド及びゲート線に
連結されている薄膜トランジスタの複数のゲート電極を
含む。
例による液晶表示装置の下板１００は、絶縁基板１０１
とその上のゲート配線２０及びデータ配線６０を含む。
ゲート配線２０とデータ配線６０は低抵抗の導電物質か
らなっており、ゲート絶縁膜３０で隔てられて互いに絶
縁されている。ゲート配線２０は、図面からは具体的に
認められないが、横方向にのびていて走査信号を伝達す
る表示領域（Ｄ）内の複数のゲート線、周辺領域に位置
しゲート線と連結されていて外部から走査信号を受けて
ゲート線に伝達する複数のゲートパッド及びゲート線に
連結されている薄膜トランジスタの複数のゲート電極を
含む。
【００２６】また、データ配線６０は表示領域（Ｄ）で
縦方向にのびてゲート線と交差する複数のデータ線（図
３の６２）、周辺領域に位置しデータ線と連結されてい
て外部から画像信号の伝達を受けてデータ線に伝達する
複数のデータパッド（図３の６８）、データ線に連結さ
れている薄膜トランジスタの複数のソース電極、そして
ソース電極から分離されており、薄膜トランジスタのチ
ャンネル部に対してソース電極の対向側に位置する薄膜
トランジスタの複数のドレーン電極を含む。
縦方向にのびてゲート線と交差する複数のデータ線（図
３の６２）、周辺領域に位置しデータ線と連結されてい
て外部から画像信号の伝達を受けてデータ線に伝達する
複数のデータパッド（図３の６８）、データ線に連結さ
れている薄膜トランジスタの複数のソース電極、そして
ソース電極から分離されており、薄膜トランジスタのチ
ャンネル部に対してソース電極の対向側に位置する薄膜
トランジスタの複数のドレーン電極を含む。
【００２７】このデータ配線は保護膜７０で覆われてお
り、隣接する二つのゲート線と隣接する二つのデータ線
で囲まれた領域で定義され、行列形態で配列されている
画素領域の保護膜７０の上部には薄膜トランジスタのド
レーン電極と連結されており、ＩＴＯ（indium tin oxi
de）またはＩＺＯ（indium zinc oxide）などのような
透明な導電物質または高い反射率を有する不透明な導電
物質からなる画素電極（図示せず）が形成されている。
り、隣接する二つのゲート線と隣接する二つのデータ線
で囲まれた領域で定義され、行列形態で配列されている
画素領域の保護膜７０の上部には薄膜トランジスタのド
レーン電極と連結されており、ＩＴＯ（indium tin oxi
de）またはＩＺＯ（indium zinc oxide）などのような
透明な導電物質または高い反射率を有する不透明な導電
物質からなる画素電極（図示せず）が形成されている。
【００２８】ここで、絶縁基板１０１上には、またゲー
ト線から分離されていて共通電極電圧などの電圧の印加
を受ける維持電極配線が形成されていることがあり、こ
のような維持電極配線は画素電極と重なって画素の電荷
保存能力を向上させる維持蓄電器を構成する。
ト線から分離されていて共通電極電圧などの電圧の印加
を受ける維持電極配線が形成されていることがあり、こ
のような維持電極配線は画素電極と重なって画素の電荷
保存能力を向上させる維持蓄電器を構成する。
【００２９】下板１００と対向する上板２００は絶縁基
板２０１とその上のブラックマトリックス２０２、共通
電極２０３、複数のカラーフィルター（図示せず）など
を含む。ブラックマトリックス２０２は行列形式に配列
された切除部（開口部）を有し、この切除部は下板１０
０の画素領域に対応する。ブラックマトリックス２０２
はまた表示領域（Ｄ）の周囲にも形成されて表示領域
（Ｄ）の周囲から漏洩する光を遮断する。ブラックマト
リックス２０２の切除部、つまり、画素領域対応部分に
は赤色、緑色、青色のカラーフィルター（図示せず）が
形成されている。この時、赤、緑、青のカラーフィルタ
ーは列方向には三交替に配列されるが、行方向には同じ
色のカラーフィルターが同じ行に位置するように配列さ
れたり、あるいは、列方向と同様に三交替に配列でき
る。カラーフィルターなどは平坦化特性に優れた保護膜
で覆われることができる。
板２０１とその上のブラックマトリックス２０２、共通
電極２０３、複数のカラーフィルター（図示せず）など
を含む。ブラックマトリックス２０２は行列形式に配列
された切除部（開口部）を有し、この切除部は下板１０
０の画素領域に対応する。ブラックマトリックス２０２
はまた表示領域（Ｄ）の周囲にも形成されて表示領域
（Ｄ）の周囲から漏洩する光を遮断する。ブラックマト
リックス２０２の切除部、つまり、画素領域対応部分に
は赤色、緑色、青色のカラーフィルター（図示せず）が
形成されている。この時、赤、緑、青のカラーフィルタ
ーは列方向には三交替に配列されるが、行方向には同じ
色のカラーフィルターが同じ行に位置するように配列さ
れたり、あるいは、列方向と同様に三交替に配列でき
る。カラーフィルターなどは平坦化特性に優れた保護膜
で覆われることができる。
【００３０】一方、下板１００と上板２００の最上部に
は、図２のように液晶物質層３００の液晶分子を特定の
方向に配向するためのもので、ラビング処理された配向
膜１１０、２１０が形成されている。図１に示したよう
に、下板１００は上板２００より大きくて配線２０、６
０が上板２００の外側に露出される。
は、図２のように液晶物質層３００の液晶分子を特定の
方向に配向するためのもので、ラビング処理された配向
膜１１０、２１０が形成されている。図１に示したよう
に、下板１００は上板２００より大きくて配線２０、６
０が上板２００の外側に露出される。
【００３１】図３は図１で表示領域（Ｄ）の外側のデー
タパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図
である。図３のように、周辺領域は再びパッド領域
（Ｐ）とペンアウト領域（Ｏ）に分けることができる
が、パッド領域（Ｐ）にはゲートパッドとデータパッド
６８が位置し、ペンアウト領域（Ｏ）は封印材形成領域
で、表示領域（Ｄ）とパッド領域（Ｐ）の間に位置す
る。ペンアウト領域（Ｏ）ではデータ線６２がデータパ
ッド６８と連結できるように折れており、封印材９０は
このペンアウト領域（Ｏ）に形成されている。もちろん
このペンアウト領域（Ｏ）でもデータ線６２が折れずに
直線に伸びることができ、この時にはデータパッド６８
の間の間隔が広くなる。
タパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図
である。図３のように、周辺領域は再びパッド領域
（Ｐ）とペンアウト領域（Ｏ）に分けることができる
が、パッド領域（Ｐ）にはゲートパッドとデータパッド
６８が位置し、ペンアウト領域（Ｏ）は封印材形成領域
で、表示領域（Ｄ）とパッド領域（Ｐ）の間に位置す
る。ペンアウト領域（Ｏ）ではデータ線６２がデータパ
ッド６８と連結できるように折れており、封印材９０は
このペンアウト領域（Ｏ）に形成されている。もちろん
このペンアウト領域（Ｏ）でもデータ線６２が折れずに
直線に伸びることができ、この時にはデータパッド６８
の間の間隔が広くなる。
【００３２】このような位置にある封印材９０を硬化す
るために、下板１００の下側から紫外線を照射すれば、
封印材９０に含まれている開始剤が封印材９０に含まれ
ている単量体または軽度の重合体を重合反応させるが、
この反応は紫外線が直接照射された部分からそうでない
部分に連鎖的に進められるので、紫外線が直接照射され
た照射領域だけでなく照射領域の境界から信号線つま
り、データ線６２下部（非照射部）の内側に一定の距離
まで硬化が行われる。したがって配線が占める面積と配
線間の間隔を適切に調節すれば封印材９０の全ての部分
を硬化させることができる。本実施例によれば、ペンア
ウト領域（Ｏ）にある隣接データ線間隔はデータ線６２
の幅（Ｂ）に対して１乃至１０倍とし、データ線６２の
幅（Ｂ）は１０〜１００μｍ範囲とする。ゲートパッド
部分もこれと殆ど似たような構造を有するのでペンアウ
ト領域（Ｏ）でのゲート線の幅及びその間隔についても
同一な条件を適用する。
るために、下板１００の下側から紫外線を照射すれば、
封印材９０に含まれている開始剤が封印材９０に含まれ
ている単量体または軽度の重合体を重合反応させるが、
この反応は紫外線が直接照射された部分からそうでない
部分に連鎖的に進められるので、紫外線が直接照射され
た照射領域だけでなく照射領域の境界から信号線つま
り、データ線６２下部（非照射部）の内側に一定の距離
まで硬化が行われる。したがって配線が占める面積と配
線間の間隔を適切に調節すれば封印材９０の全ての部分
を硬化させることができる。本実施例によれば、ペンア
ウト領域（Ｏ）にある隣接データ線間隔はデータ線６２
の幅（Ｂ）に対して１乃至１０倍とし、データ線６２の
幅（Ｂ）は１０〜１００μｍ範囲とする。ゲートパッド
部分もこれと殆ど似たような構造を有するのでペンアウ
ト領域（Ｏ）でのゲート線の幅及びその間隔についても
同一な条件を適用する。
【００３３】実験例１
紫外線を照射しない場合（事例Ｘ）と、信号線つまり、
データ線６２の幅が２９．１６μｍであり隣接信号線間
隔が２０．２９μｍであって、信号線間隔（Ａ）がデー
タ線６２の幅（Ｂ）より小さい場合（事例Ｙ）と、デー
タ線６２の幅（Ｂ）が１８μｍでありデータ線６２間の
間隔（Ａ）が１２２２．４７μｍであって、データ線６
２間の間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）に比べて約
８．３倍程度大きい場合（事例Ｚ）の三例に対してペン
アウト領域の信号線上部に形成された封印材の硬化程度
を分析した。ここで、封印材の硬化度はラマンスペクト
ルを使用して測定した。
データ線６２の幅が２９．１６μｍであり隣接信号線間
隔が２０．２９μｍであって、信号線間隔（Ａ）がデー
タ線６２の幅（Ｂ）より小さい場合（事例Ｙ）と、デー
タ線６２の幅（Ｂ）が１８μｍでありデータ線６２間の
間隔（Ａ）が１２２２．４７μｍであって、データ線６
２間の間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）に比べて約
８．３倍程度大きい場合（事例Ｚ）の三例に対してペン
アウト領域の信号線上部に形成された封印材の硬化程度
を分析した。ここで、封印材の硬化度はラマンスペクト
ルを使用して測定した。
【００３４】図４はラマンスペクトルであって、横軸は
ラマンシフト（Raman Shift、cm-1であり、縦軸はラマ
ン強度（Raman intensity）である。図４の１６０８ｃ
ｍ-1ピークは硬化反応に参加しないベンゼン環構造を示
し、１６３１ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加する炭素二
重結合を示す。図４で事例Ｚの場合が１６３１ピーク値
が最も小さいので硬化がよくできるということが分か
る。具体的にラマンスペクトルから硬化度を求める方法
は次の通りである。
ラマンシフト（Raman Shift、cm-1であり、縦軸はラマ
ン強度（Raman intensity）である。図４の１６０８ｃ
ｍ-1ピークは硬化反応に参加しないベンゼン環構造を示
し、１６３１ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加する炭素二
重結合を示す。図４で事例Ｚの場合が１６３１ピーク値
が最も小さいので硬化がよくできるということが分か
る。具体的にラマンスペクトルから硬化度を求める方法
は次の通りである。
【００３５】まず、Ｘの場合のように紫外線を照射しな
くて全く硬化されていない場合を硬化度０％とし、反対
に完全に硬化されたことを硬化度１００％とする。この
二つの場合に対して各々ラマンスペクトル曲線を捜し出
す。この二つの場合、全て１６０８ｃｍ-1ピークと１６
３１ｃｍ-1ピークを有しているが、まず１６０８ｃｍ -1
ピークの両側の谷を直線で連結しスペクトル曲線とその
直線で囲まれた部分の面積を求める。次に、１６３１ｃ
ｍ-1ピークに対しても同じ方法で面積を求めた後、１６
３１面積/１６０８面積の比率を計算する。硬化度０％
である場合の面積比をｒ1、１００％である場合の面積
比をｒ2とすれば、面積比がｒである場合の硬化度Ｈ
は、 Ｈ＝１００・（r1-r）／（r1-r2） に与えられる。この式を見れば面積比が大きいほど硬化
度が小さくなることが分かる。又、面積比は１６３１面
積/１６０８面積で与えられ、１６０８面積は図４の三
つの場合全てが似ているので、結局１６３１面積によっ
て硬化度が左右されることが分かる。図４ではＺの場合
がＹの場合より面積が小さいので硬化度がさらに大きい
ことと見ることができる。
くて全く硬化されていない場合を硬化度０％とし、反対
に完全に硬化されたことを硬化度１００％とする。この
二つの場合に対して各々ラマンスペクトル曲線を捜し出
す。この二つの場合、全て１６０８ｃｍ-1ピークと１６
３１ｃｍ-1ピークを有しているが、まず１６０８ｃｍ -1
ピークの両側の谷を直線で連結しスペクトル曲線とその
直線で囲まれた部分の面積を求める。次に、１６３１ｃ
ｍ-1ピークに対しても同じ方法で面積を求めた後、１６
３１面積/１６０８面積の比率を計算する。硬化度０％
である場合の面積比をｒ1、１００％である場合の面積
比をｒ2とすれば、面積比がｒである場合の硬化度Ｈ
は、 Ｈ＝１００・（r1-r）／（r1-r2） に与えられる。この式を見れば面積比が大きいほど硬化
度が小さくなることが分かる。又、面積比は１６３１面
積/１６０８面積で与えられ、１６０８面積は図４の三
つの場合全てが似ているので、結局１６３１面積によっ
て硬化度が左右されることが分かる。図４ではＺの場合
がＹの場合より面積が小さいので硬化度がさらに大きい
ことと見ることができる。
【００３６】本実験例において、ｒ1=０．５、ｒ2=０．
１であり、これによりＨ=１００・[（０．５−ｒ）/０．
４]となった。図４のグラフでは、Ｘの場合は、前述し
たようにｒ=０．５で硬化度０％、Ｙの場合はｒが０．
１４程度で硬化度９０％、Ｚの場合はｒが殆ど０．１で
あって１００％に近い硬化度と推定された。
１であり、これによりＨ=１００・[（０．５−ｒ）/０．
４]となった。図４のグラフでは、Ｘの場合は、前述し
たようにｒ=０．５で硬化度０％、Ｙの場合はｒが０．
１４程度で硬化度９０％、Ｚの場合はｒが殆ど０．１で
あって１００％に近い硬化度と推定された。
【００３７】［実施例２〜４（紫外線照射器の構造）］
一方、封印材の硬化を完全にするために、前の第１実施
例でのように液晶表示装置自体の構造を変えることがで
きるが、紫外線を照射する方法及び装置を改善して紫外
線が均等に照射できるようにすることも可能である。、
例えば、液晶表示装置の上側で紫外線を照射する場合、
その下側及び/または横側に反射板または散乱板を設置
する。下記にこのような方法及び装置について詳細に説
明する。
一方、封印材の硬化を完全にするために、前の第１実施
例でのように液晶表示装置自体の構造を変えることがで
きるが、紫外線を照射する方法及び装置を改善して紫外
線が均等に照射できるようにすることも可能である。、
例えば、液晶表示装置の上側で紫外線を照射する場合、
その下側及び/または横側に反射板または散乱板を設置
する。下記にこのような方法及び装置について詳細に説
明する。
【００３８】図５は本発明の第２実施例による液晶表示
装置の紫外線照射装置を示した概略図である。ここで、
紫外線が反射または散乱されることを具体的に表示する
ために液晶表示装置は一部だけを示した。
装置の紫外線照射装置を示した概略図である。ここで、
紫外線が反射または散乱されることを具体的に表示する
ために液晶表示装置は一部だけを示した。
【００３９】図５のように、本発明の第２実施例による
液晶表示装置用紫外線照射装置は、紫外線を生成する紫
外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置
する支持台５２０及び支持台５２０の上部に形成されて
いる反射板５３０を含む。紫外線照射される液晶表示装
置は反射板５３０上に置かれ、反射板５３０は支持台５
２０と一体に形成されることもできる。なお、発光ラン
プ５１０と反射板５３０の間に集光部材たとえばかまぼ
こ形レンズを設置してもよい。
液晶表示装置用紫外線照射装置は、紫外線を生成する紫
外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置
する支持台５２０及び支持台５２０の上部に形成されて
いる反射板５３０を含む。紫外線照射される液晶表示装
置は反射板５３０上に置かれ、反射板５３０は支持台５
２０と一体に形成されることもできる。なお、発光ラン
プ５１０と反射板５３０の間に集光部材たとえばかまぼ
こ形レンズを設置してもよい。
【００４０】この時、反射板５３０は反射率に優れた誘
電多層膜または金属物質たとえば反射面にフッ化マグネ
シウムを蒸着したアルミニウムなどからなり、紫外線が
様々な方向に反射されたり乱反射が起こるように粗研磨
（grinding）などの方法で処理して表面に屈曲を作るこ
とが好ましい。
電多層膜または金属物質たとえば反射面にフッ化マグネ
シウムを蒸着したアルミニウムなどからなり、紫外線が
様々な方向に反射されたり乱反射が起こるように粗研磨
（grinding）などの方法で処理して表面に屈曲を作るこ
とが好ましい。
【００４１】このような本発明による液晶表示装置用紫
外線照射装置では発光ランプ５１０で照射された紫外線
が上板２００及び下板１００を通過した後、反射板５３
０によって様々な方向に反射されるので信号線（図１の
２０、６０）またはブラックマトリックス２１０下部に
位置した封印材９０にも到達できて封印材９０の硬化度
を極大化することができる。
外線照射装置では発光ランプ５１０で照射された紫外線
が上板２００及び下板１００を通過した後、反射板５３
０によって様々な方向に反射されるので信号線（図１の
２０、６０）またはブラックマトリックス２１０下部に
位置した封印材９０にも到達できて封印材９０の硬化度
を極大化することができる。
【００４２】図６及び７は本発明の第３及び第４実施例
による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概
略図である。
による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概
略図である。
【００４３】図６のように、本発明の第３実施例による
液晶表示装置用紫外線照射装置は、第２実施例の紫外線
照射装置の反射板５３０に加えて、紫外線発光ランプ５
１０と反射板５３０の間に位置して紫外線発光ランプ５
１０からの紫外線を散乱させ液晶セル１００、２００に
送る反射板５４０をさらに含む。
液晶表示装置用紫外線照射装置は、第２実施例の紫外線
照射装置の反射板５３０に加えて、紫外線発光ランプ５
１０と反射板５３０の間に位置して紫外線発光ランプ５
１０からの紫外線を散乱させ液晶セル１００、２００に
送る反射板５４０をさらに含む。
【００４４】このような本発明の第３実施例による液晶
表示装置用紫外線照射装置を利用して紫外線を照射する
場合、液晶セル１００、２００に入射される光が第２実
施例のように液晶セル１００、２００に対して均一で垂
直に入射されることでなく、多様な方向に傾いて入射さ
れ、反射板５３０に到達する光も多様な方向に均等に入
射されるので、第２実施例の場合よりさらに多くの部位
にさらに多量の紫外線が到達することができる。
表示装置用紫外線照射装置を利用して紫外線を照射する
場合、液晶セル１００、２００に入射される光が第２実
施例のように液晶セル１００、２００に対して均一で垂
直に入射されることでなく、多様な方向に傾いて入射さ
れ、反射板５３０に到達する光も多様な方向に均等に入
射されるので、第２実施例の場合よりさらに多くの部位
にさらに多量の紫外線が到達することができる。
【００４５】また、図７のように、本発明の第４実施例
による液晶表示装置用紫外線照射装置は第３実施例の反
射板５３０上に一定の厚さのスペーサ６００が配置され
ている構造を有する。この時、スペーサ６００は透明ま
たは半透明であり散乱性を有することも可能である。
による液晶表示装置用紫外線照射装置は第３実施例の反
射板５３０上に一定の厚さのスペーサ６００が配置され
ている構造を有する。この時、スペーサ６００は透明ま
たは半透明であり散乱性を有することも可能である。
【００４６】このスペーサ６００は液晶セル１００、２
００と反射板５３０の間の距離を遠くして反射板５３０
から反射される紫外線がさらに広くて稠密に照射できる
ようにする。
００と反射板５３０の間の距離を遠くして反射板５３０
から反射される紫外線がさらに広くて稠密に照射できる
ようにする。
【００４７】以下、本発明の実施例による液晶表示装置
用紫外線照射装置を利用して封印材を硬化した実験例に
ついて具体的に説明する。
用紫外線照射装置を利用して封印材を硬化した実験例に
ついて具体的に説明する。
【００４８】実験例２
図８は本発明の実施例による液晶表示装置用紫外線照射
装置を利用して封印材の硬化度を測定するための試料の
概略図であり、図９は位置による封印材の硬化度を示す
グラフである。
装置を利用して封印材の硬化度を測定するための試料の
概略図であり、図９は位置による封印材の硬化度を示す
グラフである。
【００４９】本実験例では図８に示したように０．７ｍ
ｍ厚さのガラス基板二枚のうち一つにクロム（Ｃｒ）を
メッキして陰影部８を形成し、紫外線硬化性封印材７を
陰影部８と重なるように基板上部に塗った後、反射板の
ない従来の紫外線照射装置及び第２実施例の紫外線照射
装置を使用して紫外線を照射し２枚の基板を接着した。
図８で六つの地点（１−６）で封印材の硬化度を測定し
たが、図面から見るように、地点１は陰影部で遮らない
部分に位置し、地点（２−６）は陰影部の境界線から５
０、１８０、３３０、５３０及び１，３００μｍ離れた
部分に各々位置する。
ｍ厚さのガラス基板二枚のうち一つにクロム（Ｃｒ）を
メッキして陰影部８を形成し、紫外線硬化性封印材７を
陰影部８と重なるように基板上部に塗った後、反射板の
ない従来の紫外線照射装置及び第２実施例の紫外線照射
装置を使用して紫外線を照射し２枚の基板を接着した。
図８で六つの地点（１−６）で封印材の硬化度を測定し
たが、図面から見るように、地点１は陰影部で遮らない
部分に位置し、地点（２−６）は陰影部の境界線から５
０、１８０、３３０、５３０及び１，３００μｍ離れた
部分に各々位置する。
【００５０】図９で硬化度は実験例１と同じ方法で求め
たものであって、Ｑは反射板を使用した場合に封印材の
硬化度を示し、Ｒは反射板を使用しない場合の封印材の
硬化度を示す。
たものであって、Ｑは反射板を使用した場合に封印材の
硬化度を示し、Ｒは反射板を使用しない場合の封印材の
硬化度を示す。
【００５１】図９のように、反射板を使用しない従来の
場合（Ｒ）には地点１及び陰影部の境界線から５０μｍ
離れた地点２までは封印材の硬化度が９０％以上と認め
られたが、陰影部の他の地点では封印材の硬化度が５０
％乃至０％であった。これと比較して、本発明の実施例
のように反射板を利用した場合（Ｑ）には全ての地点で
封印材硬化度が９０％以上となった。このように、反射
板を利用する場合には陰影部の中にまで紫外線が十分に
照射されて封印材が硬化されることが分かる。
場合（Ｒ）には地点１及び陰影部の境界線から５０μｍ
離れた地点２までは封印材の硬化度が９０％以上と認め
られたが、陰影部の他の地点では封印材の硬化度が５０
％乃至０％であった。これと比較して、本発明の実施例
のように反射板を利用した場合（Ｑ）には全ての地点で
封印材硬化度が９０％以上となった。このように、反射
板を利用する場合には陰影部の中にまで紫外線が十分に
照射されて封印材が硬化されることが分かる。
【００５２】［実施例５〜８（紫外線照射器の構造）］
本発明の第２乃至第４実施例では基板の下部及び/また
は上部に反射板及び/または散乱板を配置して封印材の
硬化度を増加させたが、基板の側面に反射板及び散乱板
を配置して紫外線の硬化度を増加させることができる。
下記にこれを具体的に説明する。
本発明の第２乃至第４実施例では基板の下部及び/また
は上部に反射板及び/または散乱板を配置して封印材の
硬化度を増加させたが、基板の側面に反射板及び散乱板
を配置して紫外線の硬化度を増加させることができる。
下記にこれを具体的に説明する。
【００５３】図１０乃至図１３は本発明の第５乃至第８
実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示
した概略図である。
実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示
した概略図である。
【００５４】図１０のように、本発明の第５実施例によ
る液晶表示装置用紫外線照射装置は紫外線を発生させる
紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位
置する支持台５２０及び支持台５２０上部側面に配置さ
れている反射板５５０を含む。ここで液晶セル１００、
２００は支持台５２０上に位置する。
る液晶表示装置用紫外線照射装置は紫外線を発生させる
紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位
置する支持台５２０及び支持台５２０上部側面に配置さ
れている反射板５５０を含む。ここで液晶セル１００、
２００は支持台５２０上に位置する。
【００５５】側面に位置した反射板５５０は傾いた反射
面を有していて発光ランプ５１０からの紫外線を傾くよ
うに反射させブラックマトリックス２１０と重なってそ
の下部に位置した紫外線硬化性の封印材９０に到達する
ようにする。
面を有していて発光ランプ５１０からの紫外線を傾くよ
うに反射させブラックマトリックス２１０と重なってそ
の下部に位置した紫外線硬化性の封印材９０に到達する
ようにする。
【００５６】例えば反射板５５０の数、位置及び模様な
どを多様にして封印材９０の硬化をさらに極大化するこ
とができる。図１１に示した本発明の第６実施例による
液晶表示装置用紫外線照射装置のように上下方向に多段
で反射板５５０を配置することもでき、図１２に示した
本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装
置のように反射板５５０の表面を凸（または凹）の曲面
に作ることができ、図１３に示した本発明の第８実施例
による液晶表示装置用紫外線照射装置でのように反射板
５５０の表面をエンボシングまたは粗研磨処理して表面
に屈曲５５２を作って紫外線を乱反射させることもでき
る。
どを多様にして封印材９０の硬化をさらに極大化するこ
とができる。図１１に示した本発明の第６実施例による
液晶表示装置用紫外線照射装置のように上下方向に多段
で反射板５５０を配置することもでき、図１２に示した
本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装
置のように反射板５５０の表面を凸（または凹）の曲面
に作ることができ、図１３に示した本発明の第８実施例
による液晶表示装置用紫外線照射装置でのように反射板
５５０の表面をエンボシングまたは粗研磨処理して表面
に屈曲５５２を作って紫外線を乱反射させることもでき
る。
【００５７】前述した第２乃至第８実施例の反射板５３
０、５４０、５５０は別々に用いられることもでき、こ
れらの組み合わせで用いられることも可能である。
０、５４０、５５０は別々に用いられることもでき、こ
れらの組み合わせで用いられることも可能である。
【００５８】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明による
と、ペンアウト領域でパッドと連結されている信号線の
間隔と幅を適正水準に合せて、信号線と重なるために紫
外線が直接照射されない封印材部分の硬化度を高めた
り、反射板または散乱板を紫外線発光ランプと液晶表示
板の間または液晶表示板の下部及び側面に配置して紫外
線を様々な高さまたは角度に液晶表示板に入射して封印
材の全ての部分に紫外線が到達するようにすることによ
って、２枚の基板の接合不良を防止し封印材による液晶
物質の汚染を防止することができる。
と、ペンアウト領域でパッドと連結されている信号線の
間隔と幅を適正水準に合せて、信号線と重なるために紫
外線が直接照射されない封印材部分の硬化度を高めた
り、反射板または散乱板を紫外線発光ランプと液晶表示
板の間または液晶表示板の下部及び側面に配置して紫外
線を様々な高さまたは角度に液晶表示板に入射して封印
材の全ての部分に紫外線が到達するようにすることによ
って、２枚の基板の接合不良を防止し封印材による液晶
物質の汚染を防止することができる。
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造
を示した概略的な配置図である。
を示した概略的な配置図である。
【図２】図１のII−II´線に沿って切断した液晶表示装
置の断面図である。
置の断面図である。
【図３】図１で表示領域（Ｄ）外側のデータパッド部分
の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。
の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。
【図４】配線の下部に位置した封印材のラマンスペクト
ルである。
ルである。
【図５】各々本発明の第２実施例による液晶表示装置の
紫外線照射装置を示した概略図である。
紫外線照射装置を示した概略図である。
【図６】各々本発明の第３実施例による液晶表示装置の
紫外線照射装置を示した概略図である。
紫外線照射装置を示した概略図である。
【図７】各々本発明の第４実施例による液晶表示装置の
紫外線照射装置を示した概略図である。
紫外線照射装置を示した概略図である。
【図８】封印材の硬化度を測定するための試料の概略図
である。
である。
【図９】図８の試料で、位置による紫外線の硬化度を示
したグラフである。
したグラフである。
【図１０】各々本発明の第５実施例による液晶表示装置
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１１】各々本発明の第６実施例による液晶表示装置
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１２】各々本発明の第７実施例による液晶表示装置
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１３】各々本発明の第８実施例による液晶表示装置
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
１ 地点
２ 境界線から５０μm離れた地点
７ 紫外線硬化性封印材
８ 陰影部
２０ ゲート配線
３０ ゲート絶縁膜
６０ データ配線
６２ 信号線
６８ データパッド
７０ 保護膜
９０ 封印材
１００ 下板
１０１ 絶縁基板
１１０ 配向膜
２００ 上板
２０１ 絶縁基板
２０２ ブラックマトリックス
２０３ 共通電極
２１０ 配向膜
３００ 液晶物質層
５１０ 発光ランプ
５２０ 支持台
５３０ 反射板
５４０ 散乱板
５５０ 反射板
６００ スペーサ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 李 愚 植
大韓民国ソウル市瑞草区瑞草洞1643−49番
地202号
(72)発明者 權 容 俊
大韓民国ソウル市江南区三成洞ヘチョンア
パート４棟203号
Ｆターム(参考） 2H089 MA04Y MA07Y NA60 QA12
QA16 TA03 TA17 TA18
2H092 GA33 GA41 PA04 PA12 PA13
5C094 AA31 BA01 BA43 CA19 DB01
EA10 FA01 FB04 GB01 HA08
JA01 JA08
Claims (18)
- 【請求項１】絶縁基板と、 前記基板上に形成されている多数の信号線と、 前記信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加
を受ける多数の信号パッドを含み、 前記信号パッド付近の前記信号線の線間間隔は前記信号
線の幅の１乃至１０倍である液晶表示板。 - 【請求項２】前記信号線の幅は１０〜１００μｍであ
る、請求項１に記載の液晶表示板。 - 【請求項３】前記信号線は前記信号パッド付近で折れて
いる、請求項２に記載の液晶表示板。 - 【請求項４】走査信号を伝達するゲート線及び前記ゲー
ト線に交差して画素領域を定義し画像信号を伝達するデ
ータ線が形成されており、画像が表示される表示領域
と、 前記ゲート線及び前記データ線に連結されており、外部
から前記走査信号及び前記画像信号を前記ゲート線及び
前記データ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパ
ッドが形成されているパッド領域と、 前記表示領域と前記パッド領域の間に位置し、対向する
２枚の基板の間に注入されている液晶物質を封じ込め、
前記ゲート線及び前記データ線と交差して前記表示領域
外の周囲に形成されていて前記ゲートパッド及び前記デ
ータパッドと重なっていない封印材を有するペンアウト
領域と、を含む液晶表示装置。 - 【請求項５】前記ペンアウト領域で互いに隣接する前記
ゲート線または前記データ線は前記ゲート線または前記
データ線の幅に対して１乃至１０倍の間隔で形成されて
いる、請求項４に記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】前記ゲート線または前記データ線の幅は１
０〜１００μｍ範囲で形成されている、請求項５に記載
の液晶表示装置。 - 【請求項７】前記封印材は紫外線硬化性である、請求項
４に記載の液晶表示装置。 - 【請求項８】前記ペンアウト領域で前記ゲート線または
前記データ線は折れており、 少なくとも前記封印材の一部は前記ゲート線及び前記デ
ータ線の折れた部分と重なっている、請求項４に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項９】発光部材と、 対向する２枚の基板及び前記２枚の基板の周囲に形成さ
れている紫外線硬化性封印材を含む液晶セルを支持する
支持台と、 前記液晶セルの上部、下部または側面に配置されていて
前記発光部材からの光の方向を変える光経路変更部材
と、を含む液晶表示装置用光照射装置。 - 【請求項１０】前記発光部材が発する光は紫外線であ
る、請求項９に記載の液晶表示装置用光照射装置。 - 【請求項１１】前記光経路変更部材は光を反射または散
乱させる、請求項９に記載の液晶表示装置用光照射装
置。 - 【請求項１２】前記光経路変更部材は前記支持台の上部
に配置され、前記液晶セルは前記光経路変更部材上に置
かれる、請求項９に記載の液晶表示装置用光照射装置。 - 【請求項１３】前記光経路変更部材は前記支持台と一体
になっている、請求項１２に記載の液晶表示装置用光照
射装置。 - 【請求項１４】前記光経路変更部材上部に配置された光
透過部材をさらに含み、前記液晶セルは前記光透過部材
上に置かれる、請求項１２に記載の液晶表示装置用光照
射装置。 - 【請求項１５】前記光経路変更部材は光を乱反射させる
屈曲面を有する、請求項９に記載の液晶表示装置用光照
射装置。 - 【請求項１６】前記光経路変更部材は前記支持台と前記
液晶セルの間及び前記液晶セルと前記発光部材の間に配
置されている、請求項９に記載の液晶表示装置用光照射
装置。 - 【請求項１７】前記光経路変更部材は前記液晶セルの側
面に多段で配置されている、請求項９に記載の液晶表示
装置用光照射装置。 - 【請求項１８】前記光経路変更部材は前記液晶セルの側
面に配置されて傾いた反射面を有する、請求項９に記載
の液晶表示装置用光照射装置。
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