JP4741311B2 - 微少質量測定用センサの表面処理方法 - Google Patents
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本発明による微少質量測定用センサ5の表面2処理方法では、まず、微少質量測定用センサ素子6の露出された表面にフォトレジスト膜7を保護膜として塗布し、次に光を照射してフォトレジスト保護膜7を硬化する。
また、本発明の微少質量測定用センサ5の表面処理方法では、センサ5として用いる直前に、フォトレジスト保護膜7が微少質量測定用除去される。
このQCMセンサ素子6の表面処理方法では、センサの容器形状は問わず、QCMセンサ素子6の露出された表面2を汚染物質の付着から保護することが出来、測定に際して従来の保管方法が施されたセンサに比べ、QCMセンサ5の検出感度の低下を抑制することが出来る。
フォトレジスト膜7は、使用する直前に、侵襲性の少ないアルカリ性水溶液や、有機溶媒により簡単に除去することが出来る。
剥離工程は、ポジレジストを用いたプロセスの方がその工程の簡素化が可能である。以上の手法は電極として金属薄膜を使用する場合について有効な方法である。
図2の上側の模式図は、QCMセンサ素子6の露出された表面2に汚染物質の付着が無く、レセプターが固定化される際、電極への汚染物(付着物)による固定化が抑制されず、QCMセンサ5の検出感度が低下されることが無く測定が行われる様子を示している。
また、図2の下側の従来の梱包方法でのQCMセンサ5の表面2の状態を示す模式図では、大気中にQCMセンサ5の電極が露出した状態となっていることから、測定に著しく影響を及ぼす測定に用いられる電極上にチリやほこりなど汚染物が付着するおそれが有り、また、電極材料によっては、大気中に放置されることにより電極の表面2が変質するおそれがある。
ピコグラム、若しくはナノグラムといった非常に微少な質量の変化を検出する電極上に先述の汚染物質を付着させたままではレセプターを固定化させる際に、電極への汚染物(付着物)により固定化が抑制され、その結果、QCMセンサ5の検出感度をおとすおそれがあることを示している。従って、使用直前でQCMセンサ素子の洗浄が不可欠となり、この工程を行う手間が大きな負担となっていた。
大気中に放置されることにより電極表面に酸化膜が形成されるなどの変質のおそれがあり、ピコグラム、若しくはナノグラムといった非常に微少な質量の変化を検出する電極上に汚染物を洗浄により除去し得たとしても、変質した電極表面ではレセプターなどプローブを固定化(修飾)するとき密着・信頼性に大きな問題が発生するおそれがあった。
2 表面
3 金属膜
5 微少質量測定用センサー
6 微少質量測定用センサー素子
7 フォトレジスト保護膜
9 縁部
13 反応物
Claims (1)
- 水晶基板の表面に金属膜を形成して成る水晶振動子を用いた微少質量測定用センサの表面処理方法において、
搬送・保管される前の前記微少質量測定用センサに対して、
微少質量測定用センサの表面に、ポジレジストを用いたフォトレジスト保護膜を塗布する工程と、
光を照射して前記フォトレジスト保護膜を硬化する工程と
を備え、
且つ、前記微少質量測定用センサを使用する直前に、
前記微少質量測定用センサの前記表面の前記フォトレジスト保護膜を剥離し除去する工程
を備えたことを特徴とする微少質量測定用センサの表面処理方法。
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