JP4740799B2 - 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 - Google Patents
薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4740799B2 JP4740799B2 JP2006158899A JP2006158899A JP4740799B2 JP 4740799 B2 JP4740799 B2 JP 4740799B2 JP 2006158899 A JP2006158899 A JP 2006158899A JP 2006158899 A JP2006158899 A JP 2006158899A JP 4740799 B2 JP4740799 B2 JP 4740799B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- conductive
- conductive plate
- storage container
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 74
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 115
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 47
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910000639 Spring steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
ウェハ収納容器に変形が生ずると、段ガイドに支持された半導体ウェハの支持間隔が不揃いになり、ウェハ収納容器に半導体ウェハを挿抜するための搬送アームの保持板の半導体ウェハ間への挿入等の際に、保持板が半導体ウェハに当たって半導体ウェハを傷付けるることがあり、ウェハ収納容器の変形量が多い場合には半導体ウェハを破損させるという問題が生ずる。
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたもので、ウェハ収納容器等の薄板収納容器の変形の検査における判定を正確に行うことができると共に、その検査効率を向上させる手段を提供することを目的とする。
3は検査装置1の基台であり、比較的厚い鋼板等により形成された矩形の板状部材であって、その中央部に設置されるウェハ収納容器2の設置位置の位置決めを行うためのL字状に配置された基準板4がその上面にボルトにより固定されている。
ウェハ収納容器2は、半導体の製造ラインのラインサイドに設置され、図示しない搬送アームの保持板に吸着保持された薄板としての半導体ウェハを1枚毎に段ガイド5に支持させて収納し、収納された半導体ウェハを保持板に吸着保持して取出すための収納容器である。
7は導電板であり、ウェハ収納容器2に収納される半導体ウェハと同じ直径および同じ厚さを有する円盤状の導電性を有する板状部材であって、銅(Cu)やアルミニウム(Al)、鉄(Fe)等の導電性を有する金属材料で形成された円盤状の板や、樹脂材料等で形成された円盤状の板の上下面および側面を含む全表面を、蒸着等により金(Au)や銅等の導電材料からなる導電性被膜で被覆して形成される。
10は検査装置1の接触検知部であり、ウェハ収納容器2に対して基台3のウェハ挿抜方向の一方の側に配置されている。
本実施例の直線案内機構は、基台3に調整ねじ15により固定された補助基台3aにボルトにより基台3のウェハ挿抜方向に沿って平行に設置された2本のレール16aに、鞍状のスライダ16bを図示しないボール等の転動体を介してそれぞれ嵌合させて、レール16a上にスライダ16bを直線往復移動可能に支持する2台のリニアガイド装置16により形成され、そのスライダ16bにシャフト取付板11がボルト等により固定されている。
27は接触子組立体26のホルダであり、樹脂材料等の絶縁性を有する材料で形成された有底の円筒状部材であって、その底板には銅等の導電性を有する金属材料で形成された端子部28が底板を貫通して形成されている。
これにより、接触子25がホルダ27に出没可能に支持される。
C=(L−T)/2 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(1)
で表される。
D=P−L ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(2)
で表される。
このため、接触子25の固定位置は、図6に示すように、正常なウェハ収納容器2に支持ピッチPで支持された半導体ウェハの支持位置と同じ位置に設定され、シャフト12の固定位置は、接触子25のピッチPtとシャフト12のピッチPsがともに半導体ウェハの支持ピッチPと同一であるので、支持ピッチPの半ピッチ(=P/2)ずらした状態に設定される。
本実施例のウェハ収納容器2の支持ピッチPは4.76mm、半導体ウェハの厚さTは0.65mmであり、許容長Lは1.76mmであるので、(1)、(2)式より、シャフト12の直径Dは3mm、隙間Cは0.56mmに設定される。
上記の検査装置1を用いて、ウェハ収納容器2の変形を検査する場合の検査方法について、Sで示すステップに従って説明する。
S1、変形のない基準となるウェハ収納容器2(基準収納容器という。)を準備し、5枚の導電板7を最下段、下から7段目、13段目、19段目および25段目(最上段)の各段の段ガイド5に当接部8側から挿入し、各導電板7を段ガイド5に支持させて収納し(図5参照)、接触検知部10のシャフト取付板11に前記の各段の導電板7を挟む位置にシャフト12をそれぞれ固定する。
S2、5枚の導電板7を収納した基準収納容器の底板を、基台3の各基準板4に合わせて基台3上に設置する。
S3、接触検知部10をグリップ14を用いて基準収納容器の方向に移動させ、押え具18の弾性部材18bを導電板7の外周面に当接させ、前記各段に収納された導電板7を挟んでシャフト12を挿入する。
そして、導電板7の上面および下面とシャフト12の外周面との間に、それぞれ隙間Cが形成されていることを、シックネスゲージまたはギロチンゲージ(本実施例では0.56mmの隙間Cを挟むように調整された隙間ゲージ)等を用いて確認する。
S5、次いで、検査対象となるウェハ収納容器2に、5枚の導電板7を前記の各段の段ガイド5に当接部8側から挿入し、各導電板7を段ガイド5に支持させて収納する。
S6、上記ステップS2と同様にして、ウェハ収納容器2を基台3上に設置する。
S8、上記ステップS4と同様にして、接触子25の端面を導電板7の当接部8に当接させ、表示板33の発光ダイオード34の点灯状況を確認する。
全ての発光ダイオード34が点灯しないようであれば、ステップS5において検査対象としたウェハ収納容器2は変形があったとしても許容範囲内であるので合格と判定し、一つでも発光ダイオード34が点灯するようであれば、変形量が多くなっていることが懸念されるので、点灯した発光ダイオード34の段ガイド5の段位置を記録して不合格と判定する。
このようにして、本実施例の検査装置1を用いたウェハ収納容器2の変形が検査される。
この場合に、上記ステップS8において、本実施例の接触子25は、導電板7毎に設置されているので、シャフト12が導電板7の上面および下面のどちらの面に接触してもその導電板7の位置を特定することができる。
このように、本実施例の検査装置1は、ウェハ収納容器2の段ガイド5に支持された導電板7に接触子25を当接させ、その導電板7の上面および下面にそれぞれ隙間Cを介してシャフト12を配置したので、接触子25に電流を供給してシャフト12と導電板7の接触による導通により、ウェハ収納容器2の隙間C以上の変形を、隙間Cが小さい場合においても熟練を要する目視判定によらずに、誰でも容易かつ正確に判定することができると共に、導電板7を挟んでシャフト12を挿入するだけで、ウェハ収納容器2の変形を容易に判定することが可能になり、ウェハ収納容器2の変形の検査における検査効率を向上させることができる。
この場合において、許容範囲の許容長Lが更に短いときは、シャフト12の直径を大きくすれば、容易に許容範囲の変更に対応することができる。
更に、導電板7を全表面に導電性被膜を形成したシリコン基板で形成したので、金属板で導電板7を形成する場合に較べて、軽量かつ高剛性な導電板7を得ることができ、導電板7の自重による撓みを抑制して、更に正確な変形量の判定を行うことができる。
なお、上記ステップS7とS8との順を入れ換えてもよい。つまり、先に接触子25を導電板7に当接させておき、その後にシャフト12を挿入して導電板7を接触子25と押え具18の弾性部材18bとの間に挟持するようにしてもよい。
更に、ウェハ収納容器2は全てが絶縁材料で一体に形成されているとして説明したが、段ガイド5が絶縁性を有していれば足り、段ガイド5を別に形成してウェハ収納容器2の内部に取付けるようにしてもよい。
以上説明したように、本実施例では、絶縁性を有する段ガイドを備えたウェハ収納容器の変形を検査する検査装置に、段ガイドに支持された半導体ウェハと同じ厚さTを有する導電板の上面および下面に、それぞれ隙間Cを介して配置された導電性を有するシャフトと、導電板に当接する導電性を有する接触子とを設けたことによって、接触子に電流を供給してシャフトと導電板との接触による導通により、ウェハ収納容器の隙間C以上の変形を誰でも容易かつ正確に判定することができと共に、導電板を挟んでシャフトを挿入するだけでウェハ収納容器の変形を容易に判定することが可能になり、ウェハ収納容器の変形の検査における検査効率を向上させることができる。
更に、導電板を、全表面に導電性被膜を形成したシリコン基板としたことによって、導電板を軽量かつ高剛性なものとして導電板の自重による撓みを抑制することができ、ウェハ収納容器の変形量の判定を更に正確に行うことができる。
なお、上記実施例においては、表示灯は発光ダイオードであるとして説明したが、白熱灯等の導通により光を発するものであればどのようなものであってもよい。
更に、上記実施例においては、薄板としての半導体ウェハを段状に収納する薄板収納容器としてウェハ収納容器を例に説明したが、薄板収納容器は前記に限らず、塗装工程における薄板としての鉄板を複数収納する鉄板収納容器や、ケース等の製作に用いる薄板としての樹脂パネルを複数収納するパネル収納容器等であってもよい。要は絶縁性を有する段ガイドを備えた薄板収納容器であればどのような薄板収納容器であっても、その変形の検査に本発明を適用すれば上記と同様の効果を得ることができる。
2 ウェハ収納容器
3 基台
3a 補助基台
4 基準板
5 段ガイド
7 導電板
8 当接部
10 接触検知部
11 シャフト取付板
12 シャフト
13 止めねじ
14、24 グリップ
15 調整ねじ
16、22 リニアガイド装置
16a、22a レール
16b、22b スライダ
18 押え具
18a ブロック
18b 弾性部材
18c 押え板
20 電流供給部
21 レール設置溝
23 接触子取付板
23a カバー
25 接触子
25a 頭部
25b 軸部
25c ストッパ部
26 接触子組立体
27 ホルダ
28 端子部
29 バネ部材
31 ホルダ嵌合穴
33 表示板
34 発光ダイオード
35 抵抗
37 スイッチ
38 電源
40 検査機構
Claims (5)
- 絶縁性を有し、薄板を1枚毎に支持する段ガイドを備えた薄板収納容器の検査装置であって、
上面および下面を有し、前記段ガイドに支持されると共に導電性を有する導電板と、
前記上面および前記下面に、それぞれ隙間を介して配置された導電性を有するシャフトと、
前記導電板に当接する導電性を有する接触子とを備えたことを特徴とする薄板収納容器の検査装置。 - 請求項1において、
前記シャフトが、前記導電板に接触したときに、該接触した導電板を表示する表示灯を設けたことを特徴とする薄板収納容器の検査装置。 - 請求項1または請求項2において、
前記導電板が、全表面に導電性被膜を形成したシリコン基板であることを特徴とする薄板収納容器の検査装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項において、
前記シャフトの外周面と前記導電板の上面および下面との間の隙間を、それぞれ前記段ガイドに支持された薄板の支持位置の許容範囲の許容長から前記薄板の厚さを減じた値の半分に設定したことを特徴とする薄板収納容器の検査装置。 - 絶縁性を有し、薄板を1枚毎に支持する段ガイドを備えた薄板収納容器の検査方法であって、
上面および下面を有し、導電性を有する導電板を前記段ガイドに支持させるステップと、
前記段ガイドに支持された前記導電板の前記上面および前記下面に、それぞれ隙間を介して配置された導電性を有するシャフトを、前記導電板を挟んで挿入するステップと、
導電性を有する接触子を、前記導電板に当接させるステップとを備えることを特徴とする薄板収納容器の検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006158899A JP4740799B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 |
US11/730,994 US7532004B2 (en) | 2006-06-07 | 2007-04-05 | Inspection device for inspecting thin plate container and method of inspecting thin plate container |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006158899A JP4740799B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007329277A JP2007329277A (ja) | 2007-12-20 |
JP4740799B2 true JP4740799B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=38822105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006158899A Active JP4740799B2 (ja) | 2006-06-07 | 2006-06-07 | 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7532004B2 (ja) |
JP (1) | JP4740799B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9570331B2 (en) * | 2014-07-30 | 2017-02-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Wafer cassette with electrostatic carrier charging scheme |
US10840121B2 (en) | 2016-10-31 | 2020-11-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method and apparatus for unpacking semiconductor wafer container |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05162823A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-06-29 | Nippon Steel Corp | ウェハーカセットの歪み検出装置 |
JP2001284444A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Sony Corp | ウェーハカセット試験装置 |
JP2004111830A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
JP2004172287A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Fujitsu Ltd | ウェハキャリア、検査用ウェハおよびウェハキャリアへのウェハ挿入調整方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0828205B2 (ja) * | 1989-10-27 | 1996-03-21 | 株式会社日立製作所 | ウエハ搬送装置 |
JP3869098B2 (ja) | 1997-11-28 | 2007-01-17 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 搬送装置、基板搬入搬出装置及び基板処理装置 |
US6591162B1 (en) * | 2000-08-15 | 2003-07-08 | Asyst Technologies, Inc. | Smart load port with integrated carrier monitoring and fab-wide carrier management system |
US7153079B2 (en) * | 2001-09-18 | 2006-12-26 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Automated guided vehicle |
JP2004072067A (ja) | 2002-06-13 | 2004-03-04 | Renesas Technology Corp | 半導体ウエハカセットおよび半導体処理装置の調整方法 |
JP4276440B2 (ja) * | 2003-01-06 | 2009-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検出方法及び装置並びに基板処理装置 |
US6889818B2 (en) * | 2003-04-09 | 2005-05-10 | Lsi Logic Corporation | Wafer blade contact monitor |
US7290813B2 (en) * | 2004-12-16 | 2007-11-06 | Asyst Technologies, Inc. | Active edge grip rest pad |
-
2006
- 2006-06-07 JP JP2006158899A patent/JP4740799B2/ja active Active
-
2007
- 2007-04-05 US US11/730,994 patent/US7532004B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05162823A (ja) * | 1991-12-13 | 1993-06-29 | Nippon Steel Corp | ウェハーカセットの歪み検出装置 |
JP2001284444A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Sony Corp | ウェーハカセット試験装置 |
JP2004111830A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 基板収納容器 |
JP2004172287A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Fujitsu Ltd | ウェハキャリア、検査用ウェハおよびウェハキャリアへのウェハ挿入調整方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7532004B2 (en) | 2009-05-12 |
US20070286598A1 (en) | 2007-12-13 |
JP2007329277A (ja) | 2007-12-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9733299B2 (en) | Inspection jig | |
JP6073304B2 (ja) | 互いに噛み合わされた蛇行する検査接点を有する電子デバイス検査用のプローブモジュール | |
JP4684805B2 (ja) | プローブ装置及び被検査体とプローブとの接触圧の調整方法 | |
JP4740799B2 (ja) | 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法 | |
JP6721302B2 (ja) | 両面回路基板の検査装置 | |
KR101785820B1 (ko) | 프로브 장치 | |
WO2021039501A1 (ja) | 絶縁材の耐電圧特性評価方法及び耐電圧特性測定装置 | |
JP2011007750A (ja) | ウエハのクラックの検出方法及びその検出装置 | |
KR20150135312A (ko) | 프로브 장치 | |
US20090319216A1 (en) | Teaching device and teaching method | |
KR101828547B1 (ko) | 전자 부품 검사 장치 | |
JP6019198B2 (ja) | 蒸着用磁性体検査装置 | |
CN209181720U (zh) | 探针误差检测装置 | |
TWI675432B (zh) | 測試位置對位校正裝置 | |
JP2012057995A (ja) | 検査治具及び接触子 | |
TWM601346U (zh) | 夾持式檢測電路機構 | |
JP2012057995A5 (ja) | ||
JP2008157681A (ja) | 回路基板の検査装置 | |
CN110153378A (zh) | 检测砂芯组芯安装合格的辅助装置 | |
JP2005134224A (ja) | 半導体バーの通電装置 | |
JP2009250660A (ja) | 基板検査用治具及び検査用接触子 | |
JPH06289097A (ja) | コンタクトユニット | |
KR20140145426A (ko) | 불량 행거 검사장치 | |
KR20150054295A (ko) | 스크래치 테스트 장치 및 이를 이용한 박막의 접착력 측정 방법 | |
WO2021149668A1 (ja) | プローブ、測定装置、及び測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080813 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20081210 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090127 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110405 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110502 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4740799 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |