JP2005134224A - 半導体バーの通電装置 - Google Patents

半導体バーの通電装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005134224A
JP2005134224A JP2003370007A JP2003370007A JP2005134224A JP 2005134224 A JP2005134224 A JP 2005134224A JP 2003370007 A JP2003370007 A JP 2003370007A JP 2003370007 A JP2003370007 A JP 2003370007A JP 2005134224 A JP2005134224 A JP 2005134224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
electrode
bar
semiconductor laser
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003370007A
Other languages
English (en)
Inventor
Isamu Kawashima
勇 川島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2003370007A priority Critical patent/JP2005134224A/ja
Publication of JP2005134224A publication Critical patent/JP2005134224A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】 本発明の目的は、半導体バーに対して、一度に、複数の半導体チップの個々の表面電極と個別に接触することができ、かつ、半導体チップに過大な機械的ストレスを与えることなく確実で安定した接触が得られる上部電極を具備した半導体バーの通電装置を提供することである。
【解決手段】 本発明の通電装置101は、主に、テスタに末端を接続された上部電極としての弾性を有する絶縁性フィルム102上に形成した金属膜で成る電極パターン103と、上部電極102,103を上から半導体レーザバー4に一定の圧力で押し付ける剛性を有するパッド104と、半導体レーザバー4の裏面を真空吸着するともに半導体レーザチップ3の裏面電極と当接して導通する下部電極5と、レーザ光を受光する受光素子部(図示せず)とで構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーの表裏面電極に、それぞれ上部電極と下部電極とを当接させ通電する半導体バーの通電装置に関する。
半導体チップの製造工程では、半導体ウェーハの状態から個々の半導体チップに分離するまでの途中の形態で電気的測定や通電試験を行う場合がある。
例えば、半導体レーザチップなどでは個々の半導体レーザチップに分離してから電気的測定や通電試験を行うよりも、取扱い易さや面倒な半導体レーザチップの整列作業を省略できる点などを考慮して、多数の半導体レーザチップがバー状に繋がった形態で電気的測定や通電試験を行うことがある。
従来の半導体バーの通電装置の一例として、半導体レーザチップの電気的特性を半導体レーザバーの形態で検査する検査装置に使用される通電装置の要部斜視図を図4に示す。
通電装置1は、主に、電気的特性を測定するテスタ(図示せず)に末端を接続された上部電極としてのプローブ針2と、多数の半導体レーザチップ3がバー状に繋がった半導体レーザバー4の裏面を真空吸着するともに半導体レーザチップ3の裏面電極と当接して導通する下部電極5と、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光する受光素子部(図示せず)とで構成されている。
また、プローブ針2は、半導体レーザチップ3に対してやや斜めに傾けて取り付けられ、昇降機構(図示せず)により、測定のため下降し表面電極と接触し、測定後、上昇し、順次、隣の半導体レーザチップ3の位置までピッチ移動可能となっている。尚、プローブ針2を斜めに傾けて取り付けるのは、下降の際に尖ったプローブ針2の先端が半導体レーザチップ3表面に与える機械的ストレスを緩和させるためである。
また、下部電極5は、その表面に複数の吸着穴(図示せず)が設けられており、その吸着穴(図示せず)で半導体レーザバー4を真空吸着する。そして、測定電圧を印加する一方の測定用電極の役目もするため、少なくとも半導体レーザバー4の裏面電極に接する面は導電性のよい金属材料でできている。
また、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光する受光素子部(図示せず)は、半導体レーザチップ3の発光部と対向する位置に取り付けられており、テスタ(図示せず)に接続されている。
次に、電気的特性の検査方法を説明する。
先ず、半導体レーザバー4は、吸着ノズル(図示せず)によって下部電極5上の所定位置に載置され真空吸着される。
次に、下部電極5は水平移動機構(図示せず)により、真空吸着された半導体レーザバー4の一方の端の半導体レーザチップ3がプローブ針2の直下にくる位置まで移動した後、半導体レーザチップ3の表面電極にプローブ針2が下降し、一定の圧力で押し付けられ電圧が印加される。
そして、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光素子部(図示せず)で受光し所定の電気的特性を測定する。
その後、プローブ針2は半導体レーザチップ3の表面電極から離れ所定の待機位置まで上昇する。そして順次、次の半導体レーザチップ3がプローブ針2の下にくるように下部電極5が水平にピッチ移動し測定を繰り返す。
尚、上記では、下部電極5が水平ピッチ移動する構成で説明したが、プローブ針2が水平ピッチ移動する構成であってもよい。(例えば、特許文献1参照。)。
特開2002−40101(第2頁、0004〜0008段落、第3図)
しかしながら、上記の通電装置1では、1本のプローブ針2で順次、ピッチ移動しながら測定する構成であるため作業効率が悪い。そのため、これに対する改善案として例えば、図5に示すように、複数のプローブ針2を絶縁性のホルダー6に組み込んで1回の下降動作で一度に複数の半導体レーザチップ3の表面電極との接触を得て、測定電圧をプローブ針2毎に順次、切替えて通電する構成が考えられる。
尚、図5では組み込むプローブ針2の本数を半導体レーザチップ3の個数と同じとして、一度にすべての半導体レーザチップ3の表面電極との接触が得られる構成を示している。しかし、プローブ針2の本数は特にこれに限るものではなく、例えば、プローブ針2を半導体レーザチップ3の個数の半数にして1つおきに配置し1回目の測定後、1ピッチ移動して2回目の測定を行うようにしてもよい。但し、少ない下降動作で済むように極力、多数のプローブ針2を組み込む構成とすることが望ましいことは言うまでもない。
ところがこのような複数のプローブ針2を組み込む構成においても以下の問題があった。
先ず、第1の問題点として、多数のプローブ針2を絶縁性のホルダー6に高精度に組み込む必要があり、上部電極5の製作自体が困難で高価なものとなった。
次に、第2の問題点として、初期的には多数のプローブ針2を高精度に組み込んだとしても、測定を繰り返すうちにプローブ針2の先端高さに差が生じ、その結果、接触圧力にばらつきが生じ接触不安定や接触不良を起こすおそれがあった。そして、これに対してプローブ針2と表面電極との接触圧力を増大させてこの不揃いを吸収しようとすると、プローブ針2先端が尖っているためプローブ針2によっては半導体レーザチップ3に過大な機械的ストレスを与え兼ねないと言う問題があった。
本発明の目的は、多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに対して、一度に、複数の半導体チップの個々の表面電極と個別に接触することができ、かつ、半導体チップに過大な機械的ストレスを与えることなく確実で安定した接触が得られる上部電極を具備した半導体バーの通電装置を提供することである。
本発明の半導体バーの通電装置は、表裏面にそれぞれ電極を有する多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに通電する通電装置であって、半導体チップのすべての裏面電極に共通に当接して導通する下部電極と、半導体チップの個々の表面電極と個別に当接して導通する上部電極とを備え、下部電極と上部電極との間に半導体バーを挟み込み通電する半導体バーの通電装置において、上部電極は、弾性を有する絶縁性フィルム上に形成した複数の半導体チップの個々の表面電極に個別に対応した金属膜で成る電極パターンであることを特徴とする半導体バーの通電装置である。
本発明の半導体バーの通電装置によれば、上部電極を弾性を有する絶縁性フィルム上に形成した複数の半導体チップの個々の表面電極に個別に対応した金属膜で成る電極パターンとしたので、多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに対して、一度に、複数の半導体チップの個々の表面電極と個別に接触することができ、かつ、その弾性を利用して確実で安定した接触が得られる。
多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに対して、一度に、複数の半導体チップの個々の表面電極に個別に安定して接触するという目的を、上部電極を弾性を有する絶縁性フィルム上に形成した複数の半導体チップの個々の表面電極に個別に対応した金属膜で成る電極パターンとすることで実現した。
本発明の半導体バーの通電装置の一例として、半導体レーザチップの電気的特性を半導体レーザバーの形態で検査する検査装置に使用される通電装置の要部斜視図を図1に、側面図を図2に示す。尚、図4,図5と同一部分には同一符号を付す。
本発明の通電装置101は、主に、電気的特性を測定するテスタ(図示せず)に末端を接続された上部電極としての弾性を有する絶縁性フィルム102上に形成した金属膜で成る電極パターン103と、上部電極102,103を上から半導体レーザバー4に一定の圧力で押し付ける剛性を有するパッド104と、多数の半導体レーザチップ3がバー状に繋がった半導体レーザバー4の裏面を真空吸着するともに半導体レーザチップ3のすべての裏面電極と共通に当接して導通する下部電極5と、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光する受光素子部(図示せず)とで構成されている。
ここで、金属膜で成る電極パターン103は、すべての半導体レーザチップ3の表面電極に一対一で個別に対応する電極パターンであり、個々のパターン配線は末端で個別にテスタ(図示せず)に接続されており、測定電圧をパターン配線毎に順次、切替えて個別に通電可能となっている。
また、金属膜としては、導通性がよく、適度な柔らかさを有する例えば、AuあるいはAlなどを含む蒸着膜とし、半導体レーザチップ3の表面電極をキズ付けることが少ない材料とする。
また、絶縁性フィルム102としては、ポリイミド樹脂、または、ポリエステル樹脂がよく、透明あるいは半透明であると半導体レーザチップ3の表面電極に対する位置出しが視認性よくできて好適である。
また、絶縁性フィルム102は、耐熱性を有する材料とすると半導体レーザチップ3を高温に晒しながら電気的特性を検査したりする場合などに好適である。
また、上部電極102,103は、その電極パターン103が形成された面を半導体レーザチップ3側に向けて配置され、昇降機構(図示せず)により、測定のため下降し、表面電極と接触し、測定後、所定の待機位置まで上昇可能となっている。
また、下部電極5は、その表面に複数の吸着穴(図示せず)が設けられており、その吸着穴(図示せず)で半導体レーザバー4を真空吸着する。そして、測定のための電圧を印加する一方の測定用電極の役目もするため、少なくとも半導体レーザバー4の裏面電極に接する面は導電性のよい金属材料でできている。
また、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光する受光素子部(図示せず)は、半導体レーザチップ3の発光部と対向する位置に取り付けられており、テスタ(図示せず)に接続されている。
次に、電気的特性の検査方法を説明する。
先ず、半導体レーザバー4は、吸着ノズル(図示せず)によって下部電極5上の所定位置に載置され真空吸着される。
次に、下部電極5は水平移動機構(図示せず)により、真空吸着された半導体レーザバー4のすべての半導体レーザチップ3の個々の表面電極と、上部電極102,103の電極パターン103とが一対一で対応する位置まで移動した後、半導体レーザチップ3の表面電極に上部電極102,103が下降する。そして、さらにその上からパッド104で押し付けた状態で測定電圧をパターン配線毎に順次、切替えて通電する。
そして、半導体レーザチップ3が発するレーザ光を受光素子部(図示せず)で受光し所定の電気的特性を測定する。
その後、上部電極102,103は、半導体レーザチップ3の表面電極から離れ所定の待機位置まで上昇する。
このようにすると、1回の下降動作で、一度に、すべての半導体レーザチップ3の表面電極と接触することができ作業効率がよい。また、絶縁性フィルム102の有する弾性を利用したフレキシブルな上部電極であるため表面電極および電極パターン103の高さのばらつきを吸収できる。また、プローブ針のように先端が尖っていないため接触時に過大な機械的ストレスが加わるおそれがなく、それらの結果として、確実で安定した通電が可能となる。
尚、上記では、電極パターン103をすべての半導体レーザチップ3の表面電極に一対一で個別に対応する電極パターンとして説明したが、特にこれに限るものではなく例えば、図3に示すように、半導体レーザチップ3の表面電極に一つおきに個別に対応する電極パターンとして、先ず、図3(a)に示すように、先ず、1回目の測定として、1つおきの半数の半導体レーザチップ3の表面電極と接触し測定した後、図3(b)に示すように、1ピッチ移動して、図3(c)に示すように、2回目の測定として、残りの半数の測定を行うようにしてもよい。
多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに対して、一度に、複数の半導体チップの個々の表面電極と個別に接触することができ、かつ、半導体チップに過大な機械的ストレスを与えることなく確実で安定した接触が得られる上部電極を具備した半導体バーの通電装置に適用できる。
本発明の通電装置の一例の要部斜視図 本発明の通電装置の一例の側面図 本発明の通電装置の他の例の側面図 従来の通電装置の一例の要部斜視図 従来の通電装置の他の例の要部斜視図
符号の説明
1 従来の通電装置
2 プローブ針
3 半導体レーザチップ
4 半導体レーザバー
5 下部電極
6 絶縁性のホルダー
101 本発明の通電装置
102 絶縁性フィルム
103 電極パターン
104 パッド

Claims (9)

  1. 表裏面にそれぞれ電極を有する多数の半導体チップがバー状に繋がった半導体バーに通電する通電装置であって、前記半導体チップのすべての裏面電極に共通に当接して導通する下部電極と、前記半導体チップの個々の表面電極と個別に当接して導通する上部電極とを備え、前記下部電極と前記上部電極との間に前記半導体バーを挟み込み通電する半導体バーの通電装置において、前記上部電極は、弾性を有する絶縁性フィルム上に形成した複数の前記半導体チップの個々の表面電極に個別に対応した金属膜で成る電極パターンであることを特徴とする半導体バーの通電装置。
  2. 前記金属膜で成る電極パターンは、すべての前記半導体チップの表面電極に一対一で個別に対応する電極パターンであることを特徴とする請求項1に記載の半導体バーの通電装置。
  3. 前記金属膜で成る電極パターンは、前記半導体チップの表面電極に一つおきに個別に対応する電極パターンであることをことを特徴とする請求項1に記載の半導体バーの通電装置。
  4. 前記絶縁性フィルムは、透明または半透明であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
  5. 前記絶縁性フィルムは、耐熱性を有することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
  6. 前記絶縁性フィルムは、ポリイミド樹脂またはポリエステル樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
  7. 前記金属膜は、Au,Alのいずれかを含むことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
  8. 前記半導体チップは半導体レーザチップであることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
  9. 前記上部電極を上から前記半導体バーに押え付けるパッドをさらに備えたことを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の半導体バーの通電装置。
JP2003370007A 2003-10-30 2003-10-30 半導体バーの通電装置 Pending JP2005134224A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003370007A JP2005134224A (ja) 2003-10-30 2003-10-30 半導体バーの通電装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003370007A JP2005134224A (ja) 2003-10-30 2003-10-30 半導体バーの通電装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005134224A true JP2005134224A (ja) 2005-05-26

Family

ID=34647146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003370007A Pending JP2005134224A (ja) 2003-10-30 2003-10-30 半導体バーの通電装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005134224A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007019265A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Sony Corp 発光装置
JP2012122919A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Mitsubishi Electric Corp アレイ型半導体レーザ素子の通電試験装置
US20130242549A1 (en) * 2012-03-16 2013-09-19 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Test device for led light bar
JP2018009791A (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 アルファクス株式会社 半導体素子の検査用プローブ及びそのプローブの押え機構

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007019265A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Sony Corp 発光装置
JP2012122919A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Mitsubishi Electric Corp アレイ型半導体レーザ素子の通電試験装置
US20130242549A1 (en) * 2012-03-16 2013-09-19 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Test device for led light bar
JP2018009791A (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 アルファクス株式会社 半導体素子の検査用プローブ及びそのプローブの押え機構

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100877907B1 (ko) 프로브 조립체
KR20040004002A (ko) 반도체 검사장치용 프로브카드의 니들고정장치 및 방법
US20030141883A1 (en) Multiple contact vertical probe solution enabling kelvin connection benefits for conductive bump probing
JP4544810B2 (ja) 基板製造方法
JP3327534B2 (ja) 基板検査装置、基板製造方法及びバンプ付き基板
JP6721302B2 (ja) 両面回路基板の検査装置
JP2005134224A (ja) 半導体バーの通電装置
KR101199016B1 (ko) 엘이디 검사용 프로브 카드
KR101322265B1 (ko) 검사 탐침 장치
JPH09246599A (ja) 半導体素子の電気光学特性測定装置
EP3364194A1 (en) Kelvin test probe, kelvin test probe module, and manufacturing method therefor
KR102559566B1 (ko) Led 검사 장치 및 이송 장치
TW200502556A (en) Wafer test method
JP2003035725A (ja) 電気的接続装置
JP3225685B2 (ja) コンタクトユニット及びic半導体装置の機能テスト方法
JP4740799B2 (ja) 薄板収納容器の検査装置およびその検査方法
KR101748189B1 (ko) 디스플레이 패널 검사용 프로버
KR100744232B1 (ko) 반도체 검사장치
JP5896878B2 (ja) 評価装置および評価方法
JP6685526B1 (ja) プローバ装置、及び計測用治具
WO2021039898A1 (ja) 検査治具、及び検査装置
TW201350862A (zh) 膜式探針卡
JP2005127961A (ja) テスト用基板及びそれを使用したテスト装置
JP2002040101A (ja) 半導体チップ検査装置
JP3057999B2 (ja) 半導体チップ試験装置