JP4739552B2

JP4739552B2 - 感光性レジスト上に湾曲線引を構成する方法および装置

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Publication number: JP4739552B2
Application number: JP2001062433A
Authority: JP
Inventors: プロントゥケライナー; シューベルトアンドレアス; ブルーメミヒャエル; シュトールベルクイネス
Original assignee: ヴィステックエレクトロンビームゲーエムべーハー
Priority date: 2000-03-08
Filing date: 2001-03-06
Publication date: 2011-08-03
Anticipated expiration: 2021-03-06
Also published as: ATE408234T1; EP1132945A2; DE10011201A1; US20010040221A1; DE50114293D1; EP1132945A3; EP1132945B1; JP2001290281A; US6774375B2

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線リソグラフィーの分野に関し、この場合、特に、感光性レジストを被覆した基板上に電子線によって線引（線ストローク）を構成する（線を描写する）方法および装置であって、被覆した基板表面にＺ座標の方向へ電子線を向け、基板をカルテシアン座標系（ラスタ）のＸ座標および／またはＹ座標の方向へ段階的に摺動させ、この間、所定エネルギの電子線をレジストに作用させる形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子線リソグラフィー装置は、感光性レジストを被覆した基板に向けられた集束電子線を放射する光源を含む。基板は、電子線に直角に向けられレジスト層を担持する基板表面で、カルテシアン座標系に沿って摺動自在のテーブル上に載置、保持される。所定のテーブル摺動または電子線の電磁的偏向または双方の同時操作によって、この際、基板表面に対して定められた電子線の衝突点を変更して、レジストに幾何学的構造またはパタン、特に、線引を描く。
【０００３】
少なくともほぼ不動の電子線に対して基板テーブルを摺動することによって基板と電子線とを相対運動させるというこの原理は、例えば、ＭｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ２７（１９９５）Ｐ１３５−１３８から公知である。基板表面の衝突点を適切に変更する他の方式の場合、例えば、電子線偏向系によって電子線を偏向する。
【０００４】
基板テーブルまたは電子線を位置決めするこの種の装置は、一般に、Ｘ，Ｙ座標を有するカルテシアン座標系を利用するので、基板に構成すべき幾何学的構造のデータも、同じく、カルテシアン座標に記述するのが好ましい。これは、顕微鏡において典型的に使用される如き、主として長方形または台形の形状を有する構造の記述に好適である。この場合に概ね現れる直線の線引は、段階的に制御される位置決め装置を使用して、エッジの荒さを僅少に保持して基板に移行（転写）させることができる。
【０００５】
しかしながら、光学的用途のために考えられた基板の露光の場合は特に、例えば、楕円格子、円格子また湾曲した送波体を製造できるよう、湾曲線引も高精度で描くことに大きい関心が持たれる。この種の線引は、カルテシアン・ラスタを使用した場合、何れにせよ、適切な位置決め装置のＸ，Ｙ座標の単位増分の精度で近似させることができる。単位増分値を所望の線引の幅に関して十分に小さく選択すれば、段階的近似に起因するエッジの荒さまたは理論的に理想的な線引に対するほぼ近似の線引の形状偏差を無視できる。
【０００６】
基板におけるある線引（線分）の構成は、増分行程のテーブル変位にもとづき、多数の照射点を密着並置することによって行われる。１つの点の照射の場合、所望のエネルギ投入が達成されるまで、短い滞留時間だけ電子線を当該点へ向ける。次いで、次の点へ移行し、同様に操作する。この場合、必ずしも、次の隣接の点の間で電子線を遮断する必要はない。レジスト上の電子線の衝突点におけるエネルギ投入の大きさに応じて、レジスト上には小さくまたは大きく露光された“点”が生ずる。
【０００７】
従って、極めて細いができる限り均一な線幅の線引を構成する場合、線引に沿って感光性レジストに加えられる投入エネルギ、即ち、有効線量（面積当り電荷）または有効ライン線量（長さ当り電荷）を十分一定に保持することが極めて重要である。線引に場合によっては現れる幅変動は、エッジ荒さとは異なり、電子線に対する基板の位置決め時に単位行程を短縮することによっては排除できない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
Ｘ，Ｙ座標において段階的（ステップ状)に操作される位置決め装置によって、Ｘ，Ｙ座標の１つの座標における送りのみを単位増分だけ行う軸線平行の単位行程およびＸ座標へもＹ座標へも送りを行う単位行程が可能である。後者の場合、単位行程の出発点と終点との間の間隔は、軸線平行の単位行程の場合よりも大きいことは明らかであろう。双方の座標、即ち、Ｘ座標およびＹ座標の単位行程が等大である場合は、長さが√２倍だけ増大する。
【０００９】
即ち、各単位行程後に、同一のエネルギ投入を行う場合、軸線平行の単位行程について、Ｘ座標方向またはＹ座標方向の線量は、対角線方向の線引についてＸ座標またはＹ座標に対して４５°の角度で傾斜した直線の方向の線量よりも大きい。この異なるエネルギ投入は、線幅の偏差を結果する。即ち、対角線方向の線引は、軸線平行の線引よりも小さい幅を有する。
【００１０】
他方、逆に、√２倍だけ大きい投入エネルギを設定した場合は、軸線平行に形成される直線に関して、過大の線量が生ずる。なぜならば、経路長さが、傾斜した直線の場合よりも短いからである。定量的計算から、この考察例では、偏差が、２２.５°の角度において最大であり、約８％であることが知られる。直線に関する投入エネルギを角度に依存して調節することによって、理論的に、上記偏差を減少することが可能である。もちろん、これは、演算作業の著しい増大に結びつくことになろう。
【００１１】
湾曲した線引の場合、特に、円の場合、経路の傾斜は、定常的に変化する。各単位行程後の投入エネルギの別個の計算は、演算作業の莫大な増大を招き、従って、湾曲した線を描く際の作業速度をドラスチックに低下することになろう。従って、各単位行程後に線引の実際の傾斜に依存して正確な投入エネルギを決定するこの操作態様は、効率の良い製造に関して、殆ど満足できない。他方、円格子の場合はまさに、近似から生ずる線量変動が特に顕著であり、従って、この場合、補助手段の創成に関心が持たれる。
【００１２】
従って、本発明の課題は、僅かな演算作業で均一な線幅の湾曲線引を構成できるよう、公知の電子線リソグラフィー法を改良することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の視点にもとづき、感光性レジストを被覆した基板上に電子線によって湾曲線引を構成する以下の方法が提供される。該方法においては、被覆された基板表面にカルテシアン座標系のＺ座標の方向へ電子線を向け、基板をカルテシアン座標系のＸ座標および／またはＹ座標の方向へ段階的に摺動させ、この間、所定有効線量の電子線をレジストに作用させ、各単位行程後、複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依存して、設定すべき有効線量を、中間記憶装置と接続されている演算回路を用い、（ａ）単位増分の行程幅に応じて異なる、単位行程のためのカテゴリを決定し、（ｂ）該カテゴリに対応して単位行程に対し、単位増分の行程幅に比例する修正係数を割り当て、（ｃ）中間記憶装置にファイルした、複数の先行の単位行程のための修正係数から、平均修正係数を形成することにより定める。
【００１４】
かくして、レジストに対して線引推移に十分に適合されたエネルギ投入を達成でき、従って、極めて均一な線幅を有する任意に湾曲した線引を構成できる。複数の先行の単位行程（ステップ）を考慮することによって、最後に実施した位置決め単位行程後に投入エネルギを定めるために線引推移に関して把握ずみまたは計算ずみの情報を利用する。このために必要な演算作業は、単位行程の実施と関連して線引の推移の記述から理論的に正確な投入エネルギを別個に計算する場合よりも遥かに少ない。ほぼ作業速度を低下することなく、各工程の前歴を考慮できる。
【００１５】
線引方法の基本原理は、以降の単位行程における投入エネルギを求めるために特定の修正係数を配した単位行程の一群のカテゴリを定義することにある。この場合、各種の単位行程のカテゴリに関連された修正係数に対して、出発点と最終点との間の最短経路長さにそれぞれ対応して重みづけし、重み同一の単位行程をそれぞれ１つのカテゴリに関連づければ目的に適う。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本方法の好ましい実施形態においては、単位行程の２つだけのカテゴリ、即ち、Ｘ座標の方向またはＹ座標の方向の単位増分の形の軸線平行の単位行程の第１カテゴリＡと、それぞれＸ座標およびＹ座標の単位増分の形の対角線方向の単位行程の第２カテゴリＢとを使用する。
【００１７】
カテゴリＡの単位行程には修正係数１を配し、カテゴリＢの単位行程には√２を配する。次の単位行程の投入エネルギの決定は、本実施形態にもとづき、カテゴリＡ，Ｂの既に行われた単位行程に依存して行う。単位増分をＸ座標およびＹ座標へ方向づけることによって且つまた異なるタイプの単位行程の数が少ないことによって、本方法を使用した場合の制御作業および演算作業は僅少にとどまる。しかも、有効線量の極めて均一な推移および任意に湾曲した経路曲線に沿う線幅の極めて均一な推移が、上記経路曲線の傾斜角に関係なく達成される。
【００１８】
例えば、８つの直前の単位行程を考慮し且つカテゴリＡ，Ｂの単位行程の数に依存して請求項３に開示の関連性規定に対応して平均修正係数Ｋｎを定める場合に、演算作業は特に僅少となる。
【００１９】
しかしながら、必要に応じて、遡及的に考察した単位行程（ステップ）の数を減少するか、精度を更に向上するために増加することを容易に実現できる。もちろん、考慮すべき単位行程の数の増加とともにハードウエア作業および演算作業は増加する。更に、単位行程をもどせば、平均修正係数の誤差を求めることができる。この問題を考慮するには、８つの先行の単位行程を考察するのが特に有利であることが判明している。計算した平均修正係数Ｋｎに比例してエネルギ投入を行うのが好ましい。
【００２０】
電子線出力を一定に保持すれば、各単位行程について電子線の作用時間を介して修正係数Ｋｎに比例して投入エネルギを調節できる。この操作方式には、定常運転において極めて均一な電子線出力を特徴とする電界放射陰極を電子線源として使用できるという利点がある。作用時間は、単位行程後のテーブル位置決め装置の保持時間で設定される。従って、実施した単位行程後にテーブルの位置を固定する時間インターバルは、平均修正係数Ｋｎに比例する。
【００２１】
上記形態に対して他の実施形態の場合、作用時間または保持時間を一定に保持して、電子線出力の変更によってエネルギ投入を行う。この場合、単位行程について、電子線出力は、修正係数Ｋｎに比例して変更するか、新たに設定する。この場合、一定の作業サイクルでテーブル摺動を実現できるという利点が得られる。電子線源として電界放射陰極を使用する場合、もちろん、運転中に電子線出力を変更しないことが目的に適う。なぜならば、印加電圧の変更に対して電子線出力を適合させる操作は、極めてゆっくり行わざるを得ないからである。投入エネルギを制御する場合、電子線源から放射された電子線を、例えば、空心コイルを使用して、順次に弱小化する。この限りにおいて、保持時間を変更する最初の実施形態が好ましい。
【００２２】
本発明の第２の視点において、本発明の課題は、更に、カルテシアン座標系のＺ座標に配向された電子線のための光源と、カルテシアン座標系のＸＹ平面内で単位行程ごとに摺動でき基板と電子線との間に相対運動を形成する送り装置と、単位行程のカテゴリに割り当てられた所定数の複数の修正係数を記憶するために形成された中間記憶装置と、この際、該修正係数は単位増分の行程幅に比例していて、該行程幅に応じて前記カテゴリは異なっており、そして、先行の単位行程のために中間記憶装置に記憶された修正係数から平均修正係数を求めるため、かつ前記レジストに作用させる電子線の有効線量であってそれぞれの単位行程のために、複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依存して、前記平均修正係数に比例して設定すべき有効線量を求めるための、中間記憶装置と光源のトリガ回路とに接続された演算回路とを含んでいる、感光性レジストを被覆した基板上に湾曲線引（湾曲線ストローク）を構成する電子線リソグラフィー装置によって解決される。
【００２３】
本発明に係る装置によって、レジストに線引の推移に適合したエネルギ投入を行い、かくして、線幅均一の任意に湾曲した線引を構成するため上述の方法を適用できる。
【００２４】
【実施例】
以下に、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。尚、本願の特許請求の範囲に付記されている図面参照符号は、専ら本発明の理解の容易化のためのものであり、本発明を以下の実施例に限定するものではないことを付言する。
【００２５】
図１に、電子線リソグラフィー装置１の一実施例を示した。この装置は、Ｘ，Ｙ座標にそって移動できＸＹ平面に固定された平坦な基板４を保持するテーブル２を含む。基板４は、感光性材料からなるか、このような材料からなる少なくとも１つの被覆層を含む。
【００２６】
テーブル２は、送り装置３を備えている。送り装置３によって、テーブルをＸ座標およびＹ座標へ段階的（ステップ状）に走行させることができる。双方のＸ，Ｙ座標の方向の最小の各送り単位、即ち、送り装置３の単位増分は、Ｘ，Ｙ座標の各々について、概ね１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲にあり、この場合、送り速度は、約１ｍｍ／ｓである。例えば、双方の座標について、２.５ｎｍの単位増分を使用することができる。
【００２７】
電子線リソグラフィー装置は、更に、一定密度の集束電子線６をテーブル２または基板４の方向へ向ける電子線源５を含む。電子線６は、基板４に対してＸＹ平面に垂直なＺ座標の方向へ作用する。この場合、電子線源５として、電子線内の電子線密度の一定性を特徴とする熱的電界放射陰極を使用するのが好ましい。
【００２８】
電子線源５の後段（下流）には、基体４の表面の電子線６の衝突箇所を位置決めできる電磁式偏向装置７が設けてある。この場合、偏向装置７は、Ｘ座標の方向およびＹ座標の方向へ電子線６を偏向でき、この場合、方向づけは、ディジタルで、例えば、１６ビット分解能で実施できる。図１に、基板４またはテーブル２の表面に垂直な非偏向配向状態の電子線６を示した。
【００２９】
基板４の表面に一つの線引を描く場合、所定の経路曲線に対応して、第１近似で位置不変の電子線６の下方をテーブル２を通過させる。所定の位置に対するテーブル２の実位置の場合による偏差を、例えば、レーザ干渉計で測定し、電子線６の対応する偏向によって動的に補償する。この場合、電子線６の偏向量は、最大約２０μｍのオーダである。
【００３０】
更に、まず、基板４に構成すべき線引（曲線）を定め、次いで、送り装置３の送り命令および基板４への投入エネルギの設定に変換するための演算回路が設けてある。所望の線引は、多数の小さい単位行程（ステップ）によって定めることができ、あるいは、カルテシアン座標の曲線の基点から定めることもできる。線引のナノメータ範囲の高い分解能の場合、もちろん、多くの処理作業を必要とする極めて多量のデータ量が生ずる。この場合、基板４上に線引を描く際の速度は、湾曲した線引の場合は比較的低速である。
【００３１】
従って、本事例の場合、線引は、ベジエ（Ｂｅｚｉｅｒ）の曲線部分によって近似するのが好ましい。この場合、ベジエの曲線部分の少数の特性量から、送り装置３の行程毎の行程幅に対応して、テーブル２に設定される目標位置を計算できる。かくして、特に湾曲線引について、データ範囲を著しく減少でき、線引を描く際の速度を増大できる。ベジエの曲線部分から単位行程を計算するのに適切なアルゴリズムは、ドイツ特許公開第４２４４４６２号（必要に応じその記載を引用をもって本書に繰込む）に開示されており、従って、ここでは詳述しない。
【００３２】
ベジエの特性量で定義された線引における特に高い分解能および密な近似のために、送り装置３の単位行程の最小の単位行程を使用するのが好ましい。既述の如く、送り装置は、Ｘ座標およびＹ座標に沿って段階的に移動できる。かくして、最小の単位行程として、座標方向の単位増分が行われるテーブル摺動が得られる。かくして、２つのＸ，Ｙ座標には、４種の可能性が存在する。
【００３３】
更に、双方のＸ，Ｙ座標における単位増分の摺動を同時に行うことができ、かくして、更に４つの対角線方向単位行程が生ずる。図２に、この操作方式において合計の８つの可能な単位行程の方向を示した。Ｘ，Ｙ座標の単位増分が等大であるという前提条件の下で、対角線方向の単位行程は、軸線平行の単位行程の√２倍の経路長さを有する。
【００３４】
図２に示した単位行程の方向は、この場合に線引の近似のために使用される基本要素をなす。上記基本要素は、単位行程の経路長さに対応して２つのカテゴリに分類でき、この場合、１つのカテゴリＡには、より短い、即ち、軸線平行の単位行程が関連づけられ、カテゴリＢには、対角線方向の単位行程が関連づけられる。
【００３５】
しかしながら、基本的に、例えば、１つまたは双方の座標方向の複数の単位増分によってこのような行程を定義（規定）することによって、単位行程の他のタイプを定義することもできる。この場合、行程のカテゴリ化は、同じく、その理論的経路長さに対応して行う。更に、双方のＸ，Ｙ座標において、長さの異なる単位増分を使用することもできる。
【００３６】
基板４上に線引を描く場合、ベジエの特性量（値）から、テーブル２が実施すべき単位行程をオンラインで連続的に計算し、位置決め装置を介して伝送し、かくして、ほぼ連続的なテーブル運動が生ずる。このように計算した単位行程について、この単位行程がカテゴリＡまたはカテゴリＢに属するかを確認する。この帰属（関連性）に応じて、当該の単位行程に修正係数を関連づける。この場合、修正係数は、それぞれ、単位行程の最短経路長さに比例する。ここに記載の実施例の場合、標準化にもとづき、カテゴリＡの単位行程に修正係数１を関連づけ、他方、カテゴリＢの対角線方向の単位行程に修正係数√２を関連づける。
【００３７】
求めた修正値は、所定数の修正値を中間記憶できるシフトレジスタの形の中間記憶装置にファイルする。新しい修正値の記憶とともに、記憶された古い各数値を中間記憶装置から除く。かくして、例えば、常に新しい８つの修正係数が保持される。
【００３８】
上記の修正係数によって、線引の実際の経路の傾斜（勾配）を近似的に考慮できる。本出願では、このため、中間記憶装置にファイルした修正係数から、平均修正係数Ｋｎとして経路の傾斜に関するより正確な情報を与える平均値を形成する。平均修正係数Ｋｎを求めるため、新しい８つの単位行程のうちカテゴリＡに分配される数およびカテゴリＢに分配される数を求める。この場合に可能な９つの組合せに、それぞれ、平均修正係数Ｋｎが関連づけられ、従って、下記関係が生ずる：
ｎカテゴリＡの単位行程の数カテゴリＢの単位行程の数均修正係数Ｋｎ
１８０１.０００
２７１１.００８
３６２１.０３１
４５３１.０６８
５４４１.１１８
６３５１.１７９
７２６１.２５０
８１７１.３２９
９０８ √２
【００３９】
１つの単位行程に関して計算した平均修正係数Ｋｎは、当該の単位行程後に基板４への投入エネルギを定めるために、使用され、かくして、基板４へのエネルギ投入は、修正係数Ｋｎに比例して、即ち、線引の実際の経路の傾斜に対応して行われる。
【００４０】
電子線源５として熱的電界放射陰極を使用する場合、既述の理由から、陰極の電子線出力を変更するのは好都合ではない。しかしながら、投入エネルギ、即ち、電子線６の衝突点Ｐにおいて基板４に導入される線量は、衝突点Ｐにおける電子線６の作用時間を介して制御できる。この場合、１つの単位行程後のテーブル２の滞留時間は、修正係数Ｋｎに比例して簡単に調節される。
【００４１】
上記に並行して、既に、次の単位行程の計算を上述の態様で行うことができる。図３に、対応する流れ図を示した。
【００４２】
本発明の変更例の場合、１つの単位行程後に衝突点Ｐに作用する電子線出力の変更によって投入エネルギの調節を行う。基本的に、この場合、電子線源５から放射される電子線出力を電子線源において直接に調節することも考えられる。しかしながら、熱的電界放射陰極を使用した場合、この操作は好都合ではない。なぜならば、上記陰極は、その調節パラメータの変更に対して極めて低速で応答するに過ぎないからである。
【００４３】
この場合、電界放射陰極から放射された一定の電子線６は、後段の弱化（減衰）装置（例えば、空心コイル）によって減少される。電子線６の出力が、その弱化後に、当該の単位行程について求めた平均修正係数Ｋｎに比例するよう、平均修正係数Ｋｎに依存して上記弱化装置を調節する。
【００４４】
単位行程後に基板４に導入される電子線エネルギを定める際に双方の事例において上記単位行程の“前歴”を考慮することによって、冒頭に述べた過大照射効果は約０.５％の僅少な、実際に無視できる残存誤差まで減少される。
【００４５】
曲線を引く操作の開始時には、もちろん、先行の単位行程に関する古い情報は得られない。この場合、存在しない単位行程について中間記憶装置に修正値を任意にセットすることによって支援が得られる。しかしながら、かくして生ずる初期誤差は、実際的に影響を与えない。この場合、例えば８つの先行の単位行程を考慮する場合、９番目の単位行程以降では、線引のこれまでの推移を完全に考慮できる。未知の単位行程は、暫定的に、カテゴリＡに関連づけ、１の修正係数を得る。
【００４６】
さて、図４に、円曲線を描く際に線量と座標軸に対する角度との関連性を対比した。この場合、０°の角度は、軸線平行の経路部分に対応し、他方、経路部分について４５°の角度は、第１の（角度）二等分線に平行である。
【００４７】
円環を上述のカテゴリＡ，Ｂの単位行程によって近似し、各単位行程後に、等大のエネルギ投入を行えば、線引の軸線平行部分についてのみ、正しい線量によって描線が行われる。しかしながら、傾斜した他のすべての経路部分について、線量は、曲線Ｌ１から明らかな如く、過少である。
【００４８】
他方、カテゴリＢの対角線方向行程後、カテゴリＡの軸線平行の単位行程とは異なり、投入エネルギを√２倍すれば、線引の軸線平行部分についても４５°の角度の部分についても、正しい線量が得られる。しかしながら、経路の中間的傾斜について、投入エネルギが過大であり、従って、経路の傾斜に依存する線引の望ましくない幅変化が生ずる。これを、図４に、曲線Ｌ２で示した。
【００４９】
基板への投入エネルギを定める際に先行の単位行程を考慮することによって、８つの先行の単位行程を考慮して、線引の経路の傾斜角に対する線量の極めて僅かで実際的に無視できる依存性を示す曲線Ｌ３が得られる。
【００５０】
【発明の効果】
本願発明の基本構成（第１視点）により、僅かな演算作業で均一な線幅の湾曲線引きを構成描画できる電子線リソグラフィーが実現される。
本願発明の第２視点により、その具体的な原理が得られる。
本願発明の第３視点により、さらに修正係数をカテゴリー分けして演算を単純化する。
本願発明の第４視点により、所定の演算回路によって、電子線リソグラフィー装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】電子線リソグラフィー装置の実施例の略図である。
【図２】図１のテーブルによる基板の摺動のための可能な単位行程を示すグラフである。
【図３】図１の装置の制御・演算回路にファイルされた、基板への投入エネルギを定めるための流れ図である。
【図４】ＸＹ平面内に円環を描く際の相対線量とＸ座標またはＹ座標に対する角度との関連性を示すグラフである。
【符号の説明】
１装置
２テーブル
３送り装置
４基板
５電子線源
６電子線
７偏向装置
Ｘ，Ｙ，Ｚ座標
Ｋｎ平均修正係数

Claims

感光性レジストを被覆した基板（４）上に電子線（６）によって湾曲線引を構成する方法であって、
被覆された基板表面にカルテシアン座標系のＺ座標の方向へ電子線（６）を向け、
基板（４）をカルテシアン座標系のＸ座標および／またはＹ座標の方向へ段階的に摺動させ、この間、所定有効線量の電子線（６）をレジストに作用させ、
各単位行程後、複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依存して、設定すべき有効線量を、中間記憶装置と接続されている演算回路を用い、
（ａ）単位増分の行程幅に応じて異なる、単位行程のためのカテゴリを決定し、
（ｂ）該カテゴリに対応して単位行程に対し、単位増分の行程幅に比例する修正係数を割り当て、
（ｃ）中間記憶装置にファイルした、複数の先行の単位行程のための修正係数から、平均修正係数を形成することにより定めること
を特徴とする方法。
カテゴリ、即ち、
− カテゴリＡ：ＸまたはＹ座標の方向の単位増分の行程幅の軸線平行の単位行程
− カテゴリＢ：ＸおよびＹ座標の方向の単位増分の行程幅の対角線方向の単位行程
にもとづき上記の如く基板（４）の摺動に依存して単位行程を配列し、
カテゴリＡには１の修正係数を割り当て、カテゴリＢには√２の修正係数を割り当て、所定数の先行の単位行程内でカテゴリＡおよびカテゴリＢの単位行程の数に依存して各設定有効線量を定めること
を特徴とする請求項１の方法。
下記の如き、即ち、
ｎカテゴリＡの単位行程の数カテゴリＢの単位行程の数平均修正係数Ｋｎ
１８０１.０００
２７１１.００８
３６２１.０３１
４５３１.０６８
５４４１.１１８
６３５１.１７９
７２６１.２５０
８１７１.３２９
９０８ √２
（ここで、ｎは、指数である）
の８つの先行の単位行程から平均修正係数Ｋｎを参照して設定有効線量を決定すること
を特徴とする請求項２の方法。
前記有効線量を単位行程毎に平均修正係数Ｋｎに比例して変更するか新たに設定すること
を特徴とする請求項３の方法。
感光性レジストを被覆した基板（４）上に湾曲線引を構成する電子線リソグラフィー装置であって、
カルテシアン座標系のＺ座標に配向された電子線（６）のための光源（５）と、
カルテシアン座標系のＸＹ平面内で単位行程ごとに摺動でき基板（４）と電子線（６）との間に相対運動を形成する送り装置（３）と、
単位行程のカテゴリに割り当てられた所定数の複数の修正係数を記憶するために形成された中間記憶装置と、この際、該修正係数は単位増分の行程幅に比例していて、該行程幅に応じて前記カテゴリは異なっており、そして、
先行の単位行程のために中間記憶装置に記憶された修正係数から平均修正係数を求めるため、かつ前記レジストに作用させる電子線（６）の有効線量であってそれぞれの単位行程のために、複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依存して、前記平均修正係数に比例して設定すべき有効線量を求めるための、中間記憶装置と光源（５）のトリガ回路とに接続された演算回路とを含んでいること
を特徴とする装置。