JP2001290281A - 感光性レジスト上に湾曲線引を構成する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 僅かな演算作業で均一な線幅の湾曲線引を構
成できるよう、公知の電子線リソグラフィー法を改良す
る。 【解決手段】 冒頭に述べた種類の方法に関して、本発
明にもとづき、各単位行程後に、複数の先行の単位行程
から求めた線引推移に依存して設定エネルギを定める。
他方、感光性レジストを被覆した基板（４）上に線引を
構成する装置に関して、Ｚ座標に配列された電子線
（６）の光源（５）と、単位行程においてＸＹ平面内を
摺動でき基板（４）と電子線（６）との間に相対運動を
形成する送り装置（３）と、単位行程についてそれぞれ
設定すべきエネルギを複数の先行の単位行程から求めた
線引推移に依存して求める演算回路とを含み、演算回路
を光源（５）のトリガ回路に接続した形式の装置を使用
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線リソグラフ
ィーの分野に関し、この場合、特に、感光性レジストを
被覆した基板上に電子線によって線引（線ストローク）
を構成する（線を描写する）方法および装置であって、
被覆した基板表面にＺ座標の方向へ電子線を向け、基板
をカルテシアン座標系（ラスタ）のＸ座標および／また
はＹ座標の方向へ段階的に摺動させ、この間、所定エネ
ルギの電子線をレジストに作用させる形式のものに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】電子線リソグラフィー装置は、感光性レ
ジストを被覆した基板に向けられた集束電子線を放射す
る光源を含む。基板は、電子線に直角に向けられレジス
ト層を担持する基板表面で、カルテシアン座標系に沿っ
て摺動自在のテーブル上に載置、保持される。所定のテ
ーブル摺動または電子線の電磁的偏向または双方の同時
操作によって、この際、基板表面に対して定められた電
子線の衝突点を変更して、レジストに幾何学的構造また
はパタン、特に、線引を描く。

【０００３】少なくともほぼ不動の電子線に対して基板
テーブルを摺動することによって基板と電子線とを相対
運動させるというこの原理は、例えば、Ｍｉｃｒｏｅｌ
ｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ２７（１
９９５）Ｐ１３５−１３８から公知である。基板表面の
衝突点を適切に変更する他の方式の場合、例えば、電子
線偏向系によって電子線を偏向する。

【０００４】基板テーブルまたは電子線を位置決めする
この種の装置は、一般に、Ｘ，Ｙ座標を有するカルテシ
アン座標系を利用するので、基板に構成すべき幾何学的
構造のデータも、同じく、カルテシアン座標に記述する
のが好ましい。これは、顕微鏡において典型的に使用さ
れる如き、主として長方形または台形の形状を有する構
造の記述に好適である。この場合に概ね現れる直線の線
引は、段階的に制御される位置決め装置を使用して、エ
ッジの荒さを僅少に保持して基板に移行（転写）させる
ことができる。

【０００５】しかしながら、光学的用途のために考えら
れた基板の露光の場合は特に、例えば、楕円格子、円格
子また湾曲した送波体を製造できるよう、湾曲線引も高
精度で描くことに大きい関心が持たれる。この種の線引
は、カルテシアン・ラスタを使用した場合、何れにせ
よ、適切な位置決め装置のＸ，Ｙ座標の単位増分の精度
で近似させることができる。単位増分値を所望の線引の
幅に関して十分に小さく選択すれば、段階的近似に起因
するエッジの荒さまたは理論的に理想的な線引に対する
ほぼ近似の線引の形状偏差を無視できる。

【０００６】基板におけるある線引（線分）の構成は、
増分行程のテーブル変位にもとづき、多数の照射点を密
着並置することによって行われる。１つの点の照射の場
合、所望のエネルギ投入が達成されるまで、短い滞留時
間だけ電子線を当該点へ向ける。次いで、次の点へ移行
し、同様に操作する。この場合、必ずしも、次の隣接の
点の間で電子線を遮断する必要はない。レジスト上の電
子線の衝突点におけるエネルギ投入の大きさに応じて、
レジスト上には小さくまたは大きく露光された“点”が
生ずる。

【０００７】従って、極めて細いができる限り均一な線
幅の線引を構成する場合、線引に沿って感光性レジスト
に加えられる投入エネルギ、即ち、有効線量（面積当り
電荷）または有効ライン線量（長さ当り電荷）を十分一
定に保持することが極めて重要である。線引に場合によ
っては現れる幅変動は、エッジ荒さとは異なり、電子線
に対する基板の位置決め時に単位行程を短縮することに
よって排除できる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】Ｘ，Ｙ座標において段
階的（ステップ状)に操作される位置決め装置によっ
て、Ｘ，Ｙ座標の１つの座標における送りのみを単位増
分だけ行う軸線平行の単位行程およびＸ座標へもＹ座標
へも送りを行う単位行程が可能である。後者の場合、単
位行程の出発点と終点との間の間隔は、軸線平行の単位
行程の場合よりも大きいことは明らかであろう。双方の
座標、即ち、Ｘ座標およびＹ座標の単位行程が等大であ
る場合は、長さが√２倍だけ増大する。

【０００９】即ち、各単位行程後に、同一のエネルギ投
入を行う場合、軸線平行の単位行程について、Ｘ座標方
向またはＹ座標方向の線量は、対角線方向の線引につい
てＸ座標またはＹ座標に対して４５°の角度で傾斜した
直線の方向の線量よりも大きい。この異なるエネルギ投
入は、線幅の偏差を結果する。即ち、対角線方向の線引
は、軸線平行の線引よりも小さい幅を有する。

【００１０】他方、逆に、√２倍だけ大きい投入エネル
ギを設定した場合は、軸線平行に形成される直線に関し
て、過大の線量が生ずる。なぜならば、経路長さが、傾
斜した直線の場合よりも短いからである。定量的計算か
ら、この考察例では、偏差が、２２.５°の角度におい
て最大であり、約８％であることが知られる。直線に関
する投入エネルギを角度に依存して調節することによっ
て、理論的に、上記偏差を減少することが可能である。
もちろん、これは、演算作業の著しい増大に結びつくこ
とになろう。

【００１１】湾曲した線引の場合、特に、円の場合、経
路の傾斜は、定常的に変化する。各単位行程後の投入エ
ネルギの別個の計算は、演算作業の莫大な増大を招き、
従って、湾曲した線を描く際の作業速度をドラスチック
に低下することになろう。従って、各単位行程後に線引
の実際の傾斜に依存して正確な投入エネルギを決定する
この操作態様は、効率の良い製造に関して、殆ど満足で
きない。他方、円格子の場合はまさに、近似から生ずる
線量変動が特に顕著であり、従って、この場合、補助手
段の創成に関心が持たれる。

【００１２】従って、本発明の課題は、僅かな演算作業
で均一な線幅の湾曲線引を構成できるよう、公知の電子
線リソグラフィー法を改良することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】冒頭に述べた種類の方法
において、本発明の一視点にもとづき、各単位行程後
に、複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依存し
て設定エネルギを定める。

【００１４】かくして、レジストに対して線引推移に十
分に適合されたエネルギ投入を達成でき、従って、極め
て均一な線幅を有する任意に湾曲した線引を構成でき
る。複数の先行の単位行程（ステップ）を考慮すること
によって、最後に実施した位置決め単位行程後に投入エ
ネルギを定めるために線引推移に関して把握ずみまたは
計算ずみの情報を利用する。このために必要な演算作業
は、単位行程の実施と関連して線引の推移の記述から理
論的に正確な投入エネルギを別個に計算する場合よりも
遥かに少ない。ほぼ作業速度を低下することなく、各工
程の前歴を考慮できる。

【００１５】本発明の第２の視点によれば、線引方法の
基本原理は、以降の単位行程における投入エネルギを求
めるために特定の修正係数を配した単位行程の一群のカ
テゴリを定義することにある。この場合、各種の単位行
程のカテゴリに対して、出発点と最終点との間の最短後
経路長さにそれぞれ対応して重みづけし、重み同一の単
位行程をそれぞれ１つのカテゴリに関連づければ目的に
適う。

【００１６】

【発明の実施の形態】本方法の第３の視点において、そ
の好ましい実施形態が提供され、この場合、単位行程の
２つだけのカテゴリ、即ち、Ｘ座標の方向またはＹ座標
の方向の単位増分の形の軸線平行の単位行程の第１カテ
ゴリＡと、それぞれＸ座標およびＹ座標の単位増分の形
の対角線方向の単位行程の第２カテゴリＢとを使用す
る。

【００１７】カテゴリＡの単位行程には修正係数１を配
し、カテゴリＢの単位行程には√２を配する。次の単位
行程の投入エネルギの決定は、本実施形態にもとづき、
カテゴリＡ，Ｂの既に行われた単位行程に依存して行
う。単位増分をＸ座標およびＹ座標へ方向づけることに
よって且つまた異なるタイプの単位行程の数が少ないこ
とによって、本方法を使用した場合の制御作業および演
算作業は僅少にとどまる。しかも、有効線量の極めて均
一な推移および任意に湾曲した経路曲線に沿う線幅の極
めて均一な推移が、上記経路曲線の傾斜角に関係なく達
成される。

【００１８】例えば、８つの直前の単位行程を考慮し且
つカテゴリＡ，Ｂの単位行程の数に依存して請求項３
（第３の視点）に開示の関連性規定に対応して平均修正
係数Ｋｎを定める場合に、演算作業は特に僅少となる。

【００１９】しかしながら、必要に応じて、遡及的に考
察した単位行程（ステップ）の数を減少するか、精度を
更に向上するために増加することを容易に実現できる。
もちろん、考慮すべき単位行程の数の増加とともにハー
ドウエア作業および演算作業は増加する。更に、単位行
程をもどせば、平均修正係数の誤差を求めることができ
る。この問題を考慮するには、８つの先行の単位行程を
考察するのが特に有利であることが判明している。計算
した平均修正係数Ｋｎに比例してエネルギ投入を行うの
が好ましい。

【００２０】電子線出力を一定に保持すれば、各単位行
程について電子線の作用時間を介して修正係数Ｋｎに比
例して投入エネルギを調節できる。この操作方式には、
定常運転において極めて均一な電子線出力を特徴とする
電界放射陰極を電子線源として使用できるという利点が
ある。作用時間は、単位行程後のテーブル位置決め装置
の保持時間で設定される。従って、実施した単位行程後
にテーブルの位置を固定する時間インターバルは、平均
修正係数Ｋｎに比例する。

【００２１】上記形態に対して他の実施形態の場合、作
用時間または保持時間を一定に保持して、電子線出力の
変更によってエネルギ投入を行う。この場合、単位行程
について、電子線出力は、修正係数Ｋｎに比例して変更
するか、新たに設定する。この場合、一定の作業サイク
ルでテーブル摺動を実現できるという利点が得られる。
電子線源として電界放射陰極を使用する場合、もちろ
ん、運転中に電子線出力を変更しないことが目的に適
う。なぜならば、印加電圧の変更に対して電子線出力を
適合させる操作は、極めてゆっくり行わざるを得ないか
らである。投入エネルギを制御する場合、電子線源から
放射された電子線を、例えば、空心コイルを使用して、
順次に弱小化する。この限りにおいて、保持時間を変更
する最初の実施形態が好ましい。

【００２２】本発明の第４の視点において、本発明の課
題は、更に、Ｚ座標の方向へ電子線を基板に照射する光
源と、単位行程においてＸＹ平面内を摺動でき基板と電
子線との間に相対運動を形成する送り装置と、単位行程
について設定すべきエネルギを複数の先行の単位行程か
ら求めた線引推移に依存して求める演算回路とを含み、
演算回路を光源のトリガ回路に接続した形式の、感光性
レジストを被覆した基板上に電子線によって線引（線ス
トローク）を構成する装置によって解決される。

【００２３】本発明に係る装置によって、レジストに線
引の推移に適合したエネルギ投入を行い、かくして、線
幅均一の任意に湾曲した線引を構成するため上述の方法
を適用できる。

【００２４】

【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を詳
細に説明する。

【００２５】図１に、電子線リソグラフィー装置１の一
実施例を示した。この装置は、Ｘ，Ｙ座標にそって移動
できＸＹ平面に固定された平坦な基板４を保持するテー
ブル２を含む。基板４は、感光性材料からなるか、この
ような材料からなる少なくとも１つの被覆層を含む。

【００２６】テーブル２は、送り装置３を備えている。
送り装置３によって、テーブルをＸ座標およびＹ座標へ
段階的（ステップ状）に走行させることができる。双方
のＸ，Ｙ座標の方向の最小の各送り単位、即ち、送り装
置３の単位増分は、Ｘ，Ｙ座標の各々について、概ね１
ｎｍ〜１０ｎｍの範囲にあり、この場合、送り速度は、
約１ｍｍ／ｓである。例えば、双方の座標について、
２.５ｎｍの単位増分を使用することができる。

【００２７】電子線リソグラフィー装置は、更に、一定
密度の集束電子線６をテーブル２または基板４の方向へ
向ける電子線源５を含む。電子線６は、基板４に対して
ＸＹ平面に垂直なＺ座標の方向へ作用する。この場合、
電子線源５として、電子線内の電子線密度の一定性を特
徴とする熱的電界放射陰極を使用するのが好ましい。

【００２８】電子線源５の後段（下流）には、基体４の
表面の電子線６の衝突箇所を位置決めできる電磁式偏向
装置７が設けてある。この場合、偏向装置７は、Ｘ座標
の方向およびＹ座標の方向へ電子線６を偏向でき、この
場合、方向づけは、ディジタルで、例えば、１６ビット
分解能で実施できる。図１に、基板４またはテーブル２
の表面に垂直な非偏向配向状態の電子線６を示した。

【００２９】基板４の表面に一つの線引を描く場合、所
定の経路曲線に対応して、第１近似で位置不変の電子線
６の下方をテーブル２を通過させる。所定の位置に対す
るテーブル２の実位置の場合による偏差を、例えば、レ
ーザ干渉計で測定し、電子線６の対応する偏向によって
動的に補償する。この場合、電子線６の偏向量は、最大
約２０μｍのオーダである。

【００３０】更に、まず、基板４に構成すべき線引（曲
線）を定め、次いで、送り装置３の送り命令および基板
４への投入エネルギの設定に変換するための演算回路が
設けてある。所望の線引は、多数の小さい単位行程（ス
テップ）によって定めることができ、あるいは、カルテ
シアン座標の曲線の基点から定めることもできる。線引
のナノメータ範囲の高い分解能の場合、もちろん、多く
の処理作業を必要とする極めて多量のデータ量が生ず
る。この場合、基板４上に線引を描く際の速度は、湾曲
した線引の場合は比較的低速である。

【００３１】従って、本事例の場合、線引は、ベジエ
（Ｂｅｚｉｅｒ）の曲線部分によって近似するのが好ま
しい。この場合、ベジエの曲線部分の少数の特性量か
ら、送り装置３の行程毎の行程幅に対応して、テーブル
２に設定される目標位置を計算できる。かくして、特に
湾曲線引について、データ範囲を著しく減少でき、線引
を描く際の速度を増大できる。ベジエの曲線部分から単
位行程を計算するのに適切なアルゴリズムは、ドイツ特
許公開第４２４４４６２号（必要に応じその記載を引用
をもって本書に繰込む）に開示されており、従って、こ
こでは詳述しない。

【００３２】ベジエの特性量で定義された線引における
特に高い分解能および密な近似のために、送り装置３の
単位行程の最小の単位行程を使用するのが好ましい。既
述の如く、送り装置は、Ｘ座標およびＹ座標に沿って段
階的に移動できる。かくして、最小の単位行程として、
座標方向の単位増分が行われるテーブル摺動が得られ
る。かくして、２つのＸ，Ｙ座標には、４種の可能性が
存在する。

【００３３】更に、双方のＸ，Ｙ座標における単位増分
の摺動を同時に行うことができ、かくして、更に４つの
対角線方向単位行程が生ずる。図２に、この操作方式に
おいて合計の８つの可能な単位行程の方向を示した。
Ｘ，Ｙ座標の単位増分が等大であるという前提条件の下
で、対角線方向の単位行程は、軸線平行の単位行程の√
２倍の経路長さを有する。

【００３４】図２に示した単位行程の方向は、この場合
に線引の近似のために使用される基本要素をなす。上記
基本要素は、単位行程の経路長さに対応して２つのカテ
ゴリに分類でき、この場合、１つのカテゴリＡには、よ
り短い、即ち、軸線平行の単位行程が関連づけられ、カ
テゴリＢには、対角線方向の単位行程が関連づけられ
る。

【００３５】しかしながら、基本的に、例えば、１つま
たは双方の座標方向の複数の単位増分によってこのよう
な行程を定義（規定）することによって、単位行程の他
のタイプを定義することもできる。この場合、行程のカ
テゴリ化は、同じく、その理論的経路長さに対応して行
う。更に、双方のＸ，Ｙ座標において、長さの異なる単
位増分を使用することもできる。

【００３６】基板４上に線引を描く場合、ベジエの特性
量（値）から、テーブル２が実施すべき単位行程をオン
ラインで連続的に計算し、位置決め装置を介して伝送
し、かくして、ほぼ連続的なテーブル運動が生ずる。こ
のように計算した単位行程について、この単位行程がカ
テゴリＡまたはカテゴリＢに属するかを確認する。この
帰属（関連性）に応じて、当該の単位行程に修正係数を
関連づける。この場合、修正係数は、それぞれ、単位行
程の最短経路長さに比例する。ここに記載の実施例の場
合、標準化にもとづき、カテゴリＡの単位行程に修正係
数１を関連づけ、他方、カテゴリＢの対角線方向の単位
行程に修正係数√２を関連づける。

【００３７】求めた修正値は、所定数の修正値を中間記
憶できるシフトレジスタの形の中間記憶装置にファイル
する。新しい修正値の記憶とともに、記憶された古い各
数値を中間記憶装置から除く。かくして、例えば、常に
新しい８つの修正係数が保持される。

【００３８】上記の修正係数によって、線引の実際の経
路の傾斜（勾配）を近似的に考慮できる。本出願では、
このため、中間記憶装置にファイルした修正係数から、
平均修正係数Ｋｎとして経路の傾斜に関するより正確な
情報を与える平均値を形成する。平均修正係数Ｋｎを求
めるため、新しい８つの単位行程のうちカテゴリＡに分
配される数およびカテゴリＢに分配される数を求める。
この場合に可能な９つの組合せに、それぞれ、平均修正
係数Ｋｎが関連づけられ、従って、下記関係が生ずる： ｎ カテゴリＡの単位行程の数 カテゴリＢの単位行程の数 均修正係数Ｋｎ １ ８ ０ １.０００ ２ ７ １ １.００８ ３ ６ ２ １.０３１ ４ ５ ３ １.０６８ ５ ４ ４ １.１１８ ６ ３ ５ １.１７９ ７ ２ ６ １.２５０ ８ １ ７ １.３２９ ９ ０ ８ √２

【００３９】１つの単位行程に関して計算した平均修正
係数Ｋｎは、当該の単位行程後に基板４への投入エネル
ギを定めるために、使用され、かくして、基板４へのエ
ネルギ投入は、修正係数Ｋｎに比例して、即ち、線引の
実際の経路の傾斜に対応して行われる。

【００４０】電子線源５として熱的電界放射陰極を使用
する場合、既述の理由から、陰極の電子線出力を変更す
るのは好都合ではない。しかしながら、投入エネルギ、
即ち、電子線６の衝突点Ｐにおいて基板４に導入される
線量は、衝突点Ｐにおける電子線６の作用時間を介して
制御できる。この場合、１つの単位行程後のテーブル２
の滞留時間は、修正係数Ｋｎに比例して簡単に調節され
る。

【００４１】上記に並行して、既に、次の単位行程の計
算を上述の態様で行うことができる。図３に、対応する
流れ図を示した。

【００４２】本発明の変更例の場合、１つの単位行程後
に衝突点Ｐに作用する電子線出力の変更によって投入エ
ネルギの調節を行う。基本的に、この場合、電子線源５
から放射される電子線出力を電子線源において直接に調
節することも考えられる。しかしながら、熱的電界放射
陰極を使用した場合、この操作は好都合ではない。なぜ
ならば、上記陰極は、その調節パラメータの変更に対し
て極めて低速で応答するに過ぎないからである。

【００４３】この場合、電界放射陰極から放射された一
定の電子線６は、後段の弱化（減衰）装置（例えば、空
心コイル）によって減少される。電子線６の出力が、そ
の弱化後に、当該の単位行程について求めた平均修正係
数Ｋｎに比例するよう、平均修正係数Ｋｎに依存して上
記弱化装置を調節する。

【００４４】単位行程後に基板４に導入される電子線エ
ネルギを定める際に双方の事例において上記単位行程の
“前歴”を考慮することによって、冒頭に述べた過大照
射効果は約０.５％の僅少な、実際に無視できる残存誤
差まで減少される。

【００４５】曲線を引く操作の開始時には、もちろん、
先行の単位行程に関する古い情報は得られない。この場
合、存在しない単位行程について中間記憶装置に修正値
を任意にセットすることによって支援が得られる。しか
しながら、かくして生ずる初期誤差は、実際的に影響を
与えない。この場合、例えば８つの先行の単位行程を考
慮する場合、９番目の単位行程以降では、線引のこれま
での推移を完全に考慮できる。未知の単位行程は、暫定
的に、カテゴリＡに関連づけ、１の修正係数を得る。

【００４６】さて、図４に、円曲線を描く際に線量と座
標軸に対する角度との関連性を対比した。この場合、０
°の角度は、軸線平行の経路部分に対応し、他方、経路
部分について４５°の角度は、第１の（角度）二等分線
に平行である。

【００４７】円環を上述のカテゴリＡ，Ｂの単位行程に
よって近似し、各単位行程後に、等大のエネルギ投入を
行えば、線引の軸線平行部分についてのみ、正しい線量
によって描線が行われる。しかしながら、傾斜した他の
すべての経路部分について、線量は、曲線Ｌ１から明ら
かな如く、過少である。

【００４８】他方、カテゴリＢの対角線方向行程後、カ
テゴリＡの軸線平行の単位行程とは異なり、投入エネル
ギを√２倍すれば、線引の軸線平行部分についても４５
°の角度の部分についても、正しい線量が得られる。し
かしながら、経路の中間的傾斜について、投入エネルギ
が過大であり、従って、経路の傾斜に依存する線引の望
ましくない幅変化が生ずる。これを、図４に、曲線Ｌ２
で示した。

【００４９】基板への投入エネルギを定める際に先行の
単位行程を考慮することによって、８つの先行の単位行
程を考慮して、線引の経路の傾斜角に対する線量の極め
て僅かで実際的に無視できる依存性を示す曲線Ｌ３が得
られる。

【００５０】

【発明の効果】本願発明の基本構成（第１視点）によ
り、僅かな演算作業で均一な線幅の湾曲線引きを構成描
画できる電子線リソグラフィーが実現される。本願発明
の第２視点により、その具体的な原理が得られる。本願
発明の第３視点により、さらに修正係数をカテゴリー分
けして演算を単純化する。本願発明の第４視点により、
所定の演算回路によって、電子線リソグラフィー装置が
得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】電子線リソグラフィー装置の実施例の略図であ
る。

【図２】図１のテーブルによる基板の摺動のための可能
な単位行程を示すグラフである。

【図３】図１の装置の制御・演算回路にファイルされ
た、基板への投入エネルギを定めるための流れ図であ
る。

【図４】ＸＹ平面内に円環を描く際の相対線量とＸ座標
またはＹ座標に対する角度との関連性を示すグラフであ
る。

【符号の説明】

１ 装置 ２ テーブル ３ 送り装置 ４ 基板 ５ 電子線源 ６ 電子線 ７ 偏向装置 Ｘ，Ｙ，Ｚ 座標 Ｋｎ 平均修正係数

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレアス シューベルト ドイツ連邦共和国 99510 ニーダーロス ラ シラーシュトラーセ ５ (72)発明者 ミヒャエル ブルーメ ドイツ連邦共和国 7749 イェーナ カル ル−ローテ−シュトラーセ 23 (72)発明者 イネス シュトールベルク ドイツ連邦共和国 7743 イェーナ ヴェ ストエントシュトラーセ ４

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光性レジストを被覆した基板（４）上
   に電子線（６）によって線引を構成する方法であって、
   被覆された基板表面にＺ座標の方向へ電子線（６）を向
   け、基板（４）をカルテシアン座標系のＸ座標および／
   またはＹ座標の方向へ段階的に摺動させ、この間、所定
   エネルギの電子線（６）をレジストに作用させる形式の
   ものにおいて、各単位行程後、複数の先行の単位行程か
   ら求めた線引推移に依存して、設定すべきエネルギを定
   めることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 カテゴリ、即ち、 −カテゴリＡ：ＸまたはＹ座標の方向の単位増分の行程
   幅の軸線平行の単位行程 −カテゴリＢ：ＸまたはＹ座標の方向の単位増分の行程
   幅の対角線方向の単位行程にもとづき上記の如く基板
   （４）の摺動に依存して単位行程を配列し、 カテゴリＡには１の修正係数を関連させ、カテゴリＢに
   は√２の修正係数を関連させ、所定数の先行の単位行程
   内でカテゴリＡおよびカテゴリＢの単位行程の数に依存
   して各設定エネルギを定めることを特徴とする請求項１
   の方法。
3. 【請求項３】 下記の如き、即ち、 ｎ カテゴリＡの単位行程の数 カテゴリＢの単位行程の数平均修正係数Ｋｎ １ ８ ０ １.０００ ２ ７ １ １.００８ ３ ６ ２ １.０３１ ４ ５ ３ １.０６８ ５ ４ ４ １.１１８ ６ ３ ５ １.１７９ ７ ２ ６ １.２５０ ８ １ ７ １.３２９ ９ ０ ８ √２ （ここで、ｎは、指数である）の８つの先行の単位行程
   から平均修正係数Ｋｎを参照して設定エネルギを決定す
   ることを特徴とする請求項２の方法。
4. 【請求項４】 エネルギを単位行程毎に平均修正係数Ｋ
   ｎに比例して変更するか新たに設定することを特徴とす
   る請求項３の方法。
5. 【請求項５】 Ｚ座標に配列された電子線（６）の光源
   （５）と、単位行程においてＸＹ平面内を摺動でき基板
   （４）と電子線（６）との間に相対運動を形成する送り
   装置（３）と、単位行程についてそれぞれ設定すべきエ
   ネルギを複数の先行の単位行程から求めた線引推移に依
   存して求める演算回路とを含み、演算回路を光源（５）
   のトリガ回路に接続したことを特徴とする、感光性レジ
   ストを被覆した基板上に線引を形成する装置。