JP4914743B2 - 設定値プロファイルを介した構成要素を移動するシステムおよび方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
きる場合は、フィードフォワード制御システム12はフィードフォワード信号30を設定値プロファイルの処理をする間、ほぼ連続的に入力することが可能である。他の場合には、フィードフォワード信号30は間歇的に供給されることになる。
Claims (13)
- 構成要素の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルによって前記構成要素を移動するように構成され、前記複数の各ターゲット状態が該当する連続のターゲット時間の1つで実質的に達成されるシステムであって、
前記設定値プロファイルに従って前記構成要素を移動するように構成された変位デバイスと、
フィードフォワードデータのライブラリを含むデータ記憶デバイスと、
(a)フィードフォワードデータの前記ライブラリ内のエントリに一致する前記設定値プロファイルの複数の時間区分を識別し、(b)フィードフォワード信号を作成するために前記エントリにアクセスするように構成された信号発生器と、
前記信号発生器によって作成された前記フィードフォワード信号に基づいて前記変位デバイスを制御するように構成されたフィードフォワード制御システムと、
を備えるシステム。 - 前記複数のターゲット状態が、前記構成要素の少なくとも1つのターゲット位置と、前記構成要素のターゲット速度と、前記構成要素のターゲット加速度とを含む、
請求項1に記載のシステム。 - 前記信号発生器が、
前記フィードフォワードデータ内のライブラリのエントリに一致する前記設定値プロファイルの区分を検出するように構成されたトリガ検出システムと、
前記トリガ検出システムによって一致する区分が検出された場合、前記エントリを前記フィードフォワード信号内に挿入するように構成された入力デバイスと、
を備える請求項1に記載のシステム。 - 前記ライブラリ内の前記エントリが、設定値プロファイル区分の以下の種類の少なくとも1つに対するフィードフォワードデータ、すなわち一定速度プロファイル、一定加速度プロファイル、一定減速度プロファイル、ジャーク段階、およびデジャーク段階を含み、プロファイルが時間に関する位置の高次微分の有限値である、
ことを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記ライブラリ内の前記エントリの少なくとも1つのサブセットが、先立つキャリブレーション測定に基づく、
請求項1に記載のシステム。 - 前記キャリブレーション測定が反復学習されたデータを含む、
請求項5に記載のシステム。 - パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するように配置されたリソグラフィ投影装置であって、
(a)前記パターニングデバイスを保持するように構成された可動支持具と、
(b)前記可動支持具の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルに従って前記可動支持具を移動するように構成され、前記複数のターゲット状態のそれぞれが、該当する連続のターゲット時間の1つで実質的に達成されるシステムであって、
(i)前記設定値プロファイルに従って前記可動支持具を移動するように構成された変位デバイスと、
(ii)フィードフォワードデータのライブラリを含むデータ記憶デバイスと、
(iii)(1)フィードフォワードデータの前記ライブラリ内のエントリに一致する前記設定値プロファイルの複数の時間区分を識別し、(2)フィードフォワード信号を作成するために前記エントリにアクセスするように構成された信号発生器と、
(iv)前記信号発生器によって作成された前記フィードフォワード信号に基づいて前記変位デバイスを制御するように構成されたフィードフォワード制御システムと、を含むシステムと、
を備えるリソグラフィ投影装置。 - パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するように配置されたリソグラフィ投影装置であって、
(a)前記基板を保持するように構成された可動支持具と、
(b)前記可動支持具の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルに従って前記可動支持具を移動するように構成され、前記複数のターゲット状態のそれぞれが、該当する連続のターゲット時間の1つで実質的に達成されるシステムであって、
(i)前記設定値プロファイルに従って前記可動支持具を移動するように構成された変位デバイスと、
(ii)フィードフォワードデータのライブラリを含むデータ記憶デバイスと、
(iii)(1)フィードフォワードデータの前記ライブラリ内のエントリに一致する前記設定値プロファイルの複数の時間区分を識別し、(2)フィードフォワード信号を作成するために前記エントリにアクセスするように構成された信号発生器と、
(iv)前記信号発生器によって作成された前記フィードフォワード信号に基づいて前記変位デバイスを制御するように構成されたフィードフォワード制御システムと、
を含むシステムと、
を備えるリソグラフィ投影装置。 - 該当する連続のターゲット時間の1つでそれぞれ実質的に達成されるべき構成要素の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルに従って前記構成要素を移動する方法であって、
前記設定値プロファイルの複数の時間区分とフィードフォワードデータのライブラリ内のエントリを比較するステップと、
前記ライブラリ内にあるフィードフォワードデータに対する時間区分を識別するステップと、
前記識別された時間区分に対する前記フィードフォワードデータを抜き出すステップと、
前記抜き出されたフィードフォワードデータを用いてフィードフォワード信号の少なくとも一部を作成するステップと、
前記フィードフォワード信号に基づいて前記設定値プロファイルに従って前記構成要素の移動を制御するステップと、
を含む方法。 - 前記ライブラリ内の前記エントリの少なくとも1つのサブセットが、先立つキャリブレーション測定に基づく、
請求項9に記載の方法。 - 前記キャリブレーション測定が、
フィードフォワード信号を用いて設定値プロファイル時間区分に従って前記構成要素を移動するステップと、
前記移動の間に前記構成要素の状態を測定し、かつ前記測定された状態と前記設定値プロファイルによって定義された前記構成要素の該当するターゲット状態との間の相異を決定するステップと、
前記相異に従って前記フィードフォワード信号を改良するステップと、
前記相異がターゲットしきい値より小さくなるまで前記移動、測定および改良を反復するステップと、
前記関連した設定値プロファイル時間区分に対応してフィードフォワードデータの前記ライブラリ内に前記改良したフィードフォワード信号を蓄積するステップと、
によって得られる請求項10に記載の方法。 - (a)パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するステップと、
(b)該当する連続のターゲット時間の1つでそれぞれ実質的に達成されるべき可動支持具の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルに従って前記パターニングデバイスを保持するように構成された前記可能支持具を移動するステップであって、
(i)前記設定値プロファイルの複数の時間区分とフィードフォワードデータのライブラリ内のエントリを比較するステップと、
(ii)前記ライブラリ内にあるフィードフォワードデータに対する時間区分を識別するステップと、
(iii)前記識別された時間区分に対する前記フィードフォワードデータを抜き出すステップと、
(iv)前記抜き出されたフィードフォワードデータを用いてフィードフォワード信号の少なくとも一部を作成するステップと、
(v)前記フィードフォワード信号に基づいて前記設定値プロファイルに従って前記可動支持具の移動を制御するステップと、
を含む移動ステップと、
を備えるデバイス製造方法。 - (a)パターンをパターニングデバイスから基板上に投影するステップと、
(b)該当する連続のターゲット時間の1つでそれぞれ実質的に達成されるべき可動支持具の複数のターゲット状態を含む設定値プロファイルに従って前記基板を保持するように構成された前記可動支持具を移動するステップであって、
(i)前記設定値プロファイルの複数の時間区分とフィードフォワードデータのライブラリ内のエントリを比較するステップと、
(ii)前記ライブラリ内にあるフィードフォワードデータに対する時間区分を識別するステップと、
(iii)前記識別された時間区分に対する前記フィードフォワードデータを抜き出すステップと、
(iv)前記抜き出されたフィードフォワードデータを用いてフィードフォワード信号の少なくとも一部を作成するステップと、
(v)前記フィードフォワード信号に基づいて前記設定値プロファイルに従って前記可動支持具の移動を制御するステップと、
を含む移動ステップと、
を備えるデバイス製造方法。
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US7818073B2 (en) * | 2006-04-20 | 2010-10-19 | Asml Netherlands B.V. | Method for obtaining improved feedforward data, a lithographic apparatus for carrying out the method and a device manufacturing method |
NL1036292A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Controller for a positioning device, method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device. |
JP5216347B2 (ja) | 2008-02-04 | 2013-06-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び描画データの変換方法 |
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JP5563243B2 (ja) * | 2009-06-01 | 2014-07-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
CA2770487C (en) | 2009-08-31 | 2018-01-09 | Jiansheng Zhou | Pneumatic pressure output control by drive valve duty cycle calibration |
US8666556B2 (en) * | 2009-12-10 | 2014-03-04 | Alcon Research, Ltd. | Systems and methods for dynamic feedforward |
CA2781157C (en) * | 2009-12-10 | 2018-01-02 | Alcon Research Ltd. | Systems and methods for dynamic pneumatic valve driver |
US8821524B2 (en) | 2010-05-27 | 2014-09-02 | Alcon Research, Ltd. | Feedback control of on/off pneumatic actuators |
US9060841B2 (en) | 2011-08-31 | 2015-06-23 | Alcon Research, Ltd. | Enhanced flow vitrectomy probe |
TWI516327B (zh) * | 2012-11-30 | 2016-01-11 | Lts有限公司 | 用於控制雷射圖案成形裝置之階段的方法 |
JP2016012649A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | キヤノン株式会社 | 指令データの作成方法、位置決め装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法 |
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JP7148268B2 (ja) * | 2018-05-01 | 2022-10-05 | キヤノン株式会社 | 制御装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
JP7238461B2 (ja) * | 2019-02-25 | 2023-03-14 | 株式会社島津製作所 | バルブ制御装置および真空バルブ |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5812420A (en) * | 1995-09-05 | 1998-09-22 | Nikon Corporation | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus |
KR0165436B1 (ko) * | 1995-09-13 | 1999-03-20 | 김광호 | 위치.속도 제어방법 및 장치 |
JP2000047735A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Canon Inc | アクティブ除振装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2002073111A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-12 | Nikon Corp | ステージ装置、ステージ制御装置の設計方法、及び露光装置 |
US6788385B2 (en) * | 2001-06-21 | 2004-09-07 | Nikon Corporation | Stage device, exposure apparatus and method |
JP2003232398A (ja) * | 2002-02-06 | 2003-08-22 | Canon Inc | 除振装置の調整方法および除振装置 |
US7209219B2 (en) * | 2003-03-06 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | System for controlling a position of a mass |
JP2004311904A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び露光装置 |
TWI243291B (en) * | 2003-05-13 | 2005-11-11 | Asml Netherlands Bv | Control system, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7181296B2 (en) * | 2003-08-06 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Method of adaptive interactive learning control and a lithographic manufacturing process and apparatus employing such a method |
JP2005322720A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Nikon Corp | ステージ制御装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 |
US7289858B2 (en) * | 2004-05-25 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic motion control system and method |
US7327437B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7728956B2 (en) * | 2005-04-05 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data |
US7468782B2 (en) * | 2005-04-25 | 2008-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, position quantity controller and control method with feedforward signal |
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2006
- 2006-03-14 US US11/374,416 patent/US7774287B2/en active Active
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