JP4729219B2 - マイクロリソグラフィ描画におけるビーム位置決め - Google Patents
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Description
【０００１】
（発明の分野）
本発明は、感光性基板上でのマイクロリソグラフィ描画および検査のためのシステムおよび方法に関し、特に、半導体デバイス・パターン、表示パネル、集積光デバイス、および電子相互接続構造用のフォトマスクなどの、非常に高い精度を有するパターンの印刷および検査のためのシステムおよび方法に関する。描画および印刷という用語は、広い意味で理解すべきであり、フォトレジストおよび写真乳剤の露光を意味するが、また、光または熱で活性化される除去または化学プロセスによる、ドライプロセス・ペーパーなど他の感光性媒体上での光の作用も意味する。光は可視光を意味することに限らず、赤外から極紫外までの広い範囲の波長である。
【０００２】
（発明の背景）
基板のマイクロリソグラフィ描画のためのシステムおよび方法は、例えば同じ出願人によるＥＰ ０ ４６７ ０７６から以前より知られている。一般に、マイクロリソグラフィ描画のためのそのようなシステムは、レーザなどの光源と、入力パターン・データに従って制御され、描画すべき所望のパターンを生成する変調器と、掃引周波数信号によって駆動されて、ビームの連続する位置を示す一組のデータに従って基板の上でビームを走査する音響光学偏向器と、ビームが基板に届く前にビームを収束させるレンズとを備える。さらに、基板は対物テーブル上で配列され、テーブル（ステージ）は、サーボ・システムによって制御されて、ビームの走査方向に対して直角に交わる方向に移動する。
【０００３】
しかし、そのような知られている描画システムの問題は、テーブルが必ずしも線形運動を行わないことであり、また、テーブル移動が走査方向に対して直角でなく、他の傾斜した角度で行われることもありうる。
【０００４】
この問題に対する解決策は、米国特許第４５４１７１２号にＷｈｉｔｎｅｙによって提案された。ここでは、基板テーブルについて測定されたオフセットに従って、変調器を制御するためのデータを遅らせる。したがって、この場合には、問題はタイミング制御によって処理される。しかし、この方法は、全てのシステムで使用可能なわけではない。さらに、この知られている方法の問題には、遅延機能のために、各掃引の始めと終りに余分な時間を追加しなければならないことがあり、それによって、プロセスの時間効率が低下する。その結果、また、走査当りで分解されるパターン・フィーチャの数も少なくなるであろう。
【０００５】
さらに、従来技術に関連する問題には、入力ビーム位置データから、基板に向かってビームを適正に向けるために音響光学変調器で使用される出力掃引周波数信号に、確実で正確に効率よく変換を行うことが困難であることがある。以前は、この変換は、通常、ディジタル・アナログ変換器（ＤＡＣ）および電圧制御発振器（ＶＣＯ）を含んだ一連の構成要素によって行われていた。これらの構成要素は、特にＶＣＯは、非線形性であり、また、温度の変化、他の電子構成要素からの外乱などに敏感である。さらに、ＶＣＯは、高速な変化を妨げる固有のアナログの「慣性」を有する。入力ビーム位置データから出力掃引周波数信号への変換に関するこれらおよび他の問題のために、偏向器の制御もまた悪化する。
【０００６】
ラスタ走査検査システムは同じような構造をしているので、同様な問題を経験する。
【０００７】
（発明の概要）
したがって、本発明の目的は、従来技術の上述の問題点を解決し、または少なくとも改善するシステムおよび方法を提供することである。
【０００８】
この目的は、添付の特許請求の範囲によるシステムおよび方法で達成される。
【０００９】
本発明の第１の態様によれば、感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画または検査のためのレーザ走査システムが提供される。本システムは、少なくとも１つのレーザ光ビームを生成するレーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズと、基板を支持する基板支持テーブルとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされる。さらに、本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。レーザ源と変調器は、１つのユニットに集積化することができる。さらに、データを修正するための手段は、異なるデータの組を生成するための手段を備えるのが好ましい。したがって、オフセット補償は、変調器ではなくて偏向器を制御することで行われる。
【００１０】
このようにして、測定されたオフセットの補償は、タイミング制御で行われないで、入力データに遅延を加えることで、または、異なる特性を有するいくつかの可能な入力位置データの組のうちの１つを選ぶことで行われるのが好ましい。これによって、各掃引の始めと終りに余計な補償時間が必要でなくなり、時間がより効率的に使用され、走査当りの分解されるパターンの特徴の可能な数が増加する。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態によれば、本レーザ走査システムは、異なる組のデータを格納するためのいくつかのデータ記憶手段を備え、さらに、制御ユニットは、セレクタを備え、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して、偏向器のために読み出すそのデータ記憶手段のデータの１つを選ぶ。もしくは、制御ユニットは、測定されたオフセットに従って位置データを、好ましくはリアル・タイムで、修正するための加算器を備え、前記のオフセットを補償するために、前記偏向器のために読み出す修正されたデータを生成する。
【００１２】
本発明の他の態様によれば、感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画または検査のためのレーザ走査システムが提供される。本システムは、少なくとも１つのレーザ光ビームを生成するレーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズと、基板を支持する基板支持テーブルとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされる。さらに、本システムは、偏向方向における基板オフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、チャープの開始を生成するための直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットを備え、このＤＤＳユニットは今度は掃引の開始を示す入力データで制御される。
【００１３】
ＤＤＳは、入力データから直接に出力周波数信号への変換を行い、通常使用されるいくつかの他の構成要素に取って代わるかもしれないので、この用途に非常に適した性能を有する。さらに、ＤＤＳは非常に安定で、他の構成要素のように環境の外乱の影響を受けない。さらにまた、ＤＤＳでの変換は基本的に線形であり、変化するデータに対する応答時間が非常に短い。
【００１４】
しかし、本発明の前記の２つの態様は、組合せとして使用するのが最も好ましい。
【００１５】
さらに、本システムは、第１の高周波信号を生成する第１の高周波生成器と、駆動信号をＤＤＳで高周波信号に混合するための、すなわち加算または引算を行うための混合器とを備えるのが好ましい。これによって、描画および検査のプロセスで音響光学デバイスを駆動するのに適した範囲、一般には１００〜２５０ＭＨｚに出力周波数が依然として維持されるのと同時に、遥かに安価で、またより信頼性が高く精度のよい低周波ＤＤＳを使用できるかもしれない。
【００１６】
さらに、高周波生成器およびＤＤＳユニットは、同期をとられたクロック信号、最も好ましくは同じクロックから生じるクロック信号を供給されるのが好ましい。これによって、変換プロセスでの同期化が維持されるかもしれない。
【００１７】
さらに、本システムは、第２の高周波信号を生成する第２の高周波生成器と、第１の高周波信号に加えた後で、ＤＤＳからの駆動信号を第２の高周波信号から混合するための混合器とを備える。これによって、出力周波数の相対的な範囲は広くなるかもしれない。
【００１８】
本システムは、また、少なくとも１つの周波数逓倍のためのユニット、例えば入力信号をこの入力信号自体と混合するための混合器を備えるのが好ましく、この混合器は、第１の高周波信号と混合するための混合器と第２の高周波信号と混合するための混合器との間に配置されるのが好ましい。これによっても、出力周波数の絶対的な範囲が増加する。
【００１９】
本発明の好ましい実施形態によれば、コンピュータ制御光変調器およびＤＤＳユニットは、さらに、同期をとられたクロック信号を、最も好ましくは同じクロックから生じるクロック信号を供給される。このために、変調器および偏向器は、描画または検査のプロセス全体を通して同期した状態で維持されるかもしれない。これによって、データと走査の間のタイミング不確定による不確定は起こらなくなる。
【００２０】
また、本発明により、制御された位相差を有する２以上のＲＦ信号を得ることができるようにもなる。そのような位相制御された信号を使用して、いわゆる整相列駆動によって音響光学偏向器の有用な帯域幅を拡大することができるかもしれない。これは、システム内の異なる入力データで制御される少なくとも２つのＤＤＳユニットを使用して行われるかもしれない。これによって、チャネルへの入力データは、小さな計算された差を有し、この差によって、位相差が生成される。２つのＤＤＳユニットは、規則正しい間隔で位相同期しているのが好ましく、同じＲＦ信号が、２つのユニットでアップ・コンバートとダウン・コンバートに使用される。このようにして、非常に正確な位相可干渉性を有するがなお任意の正確に制御された位相差を有する２つの信号を生成することが可能になる。しかし、これは、また、ＲＦ技術でよく知られているように、単一ＤＤＳ、信号分配器、および１つまたは複数の位相変調器によって得られるかもしれない。
【００２１】
本発明のさらに他の態様によれば、レーザ走査システムによる感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画の方法が提供される。そのシステムは、レーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされ、さらに、偏向方向における基板オフセットの程度が測定される。さらに、本方法は、横方向に移動する走査に対応する位置データの組を生成するステップと、前記のオフセットを補償するために、検出器で測定されたオフセットに依存して、偏向器のために読み出す位置データの前記の組の１つを選ぶステップとを含む。
【００２２】
本発明のさらに他の態様によれば、レーザ走査システムによる感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画の方法が提供される。そのシステムは、レーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされ、また、偏向方向における基板オフセットの程度が測定される。さらに、掃引周波数駆動信号が直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットで生成され、この直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットは、今度は、掃引の開始を示す入力データによって制御される。
【００２３】
上の２つの方法は、組合せで使用されるのが最も好ましい。
【００２４】
例証の目的のために、本発明は、添付の図面に図示される本発明の実施形態を参照して、下記でより詳細に説明する。
【００２５】
（好ましい実施形態の説明）
図１を参照して、本発明によるシステムは、好ましくは連続レーザである光源１と、コンピュータ制御光変調器３と、光源からの光ビームを、それが感光性基板６に達する前に収束させる縮小レンズ５とを備える。さらに、本システムは、変調器の前に第２の収束レンズ２を備える。レーザは、例えば４１３ｎｍ、１００ｍＷのクリプトン・イオン・レーザのようなイオン・レーザである。変調器は、受渡し電子回路１０によって変調器に送り出された入力パターン・データに従ってビームを制御する。
【００２６】
本発明によるシステムは、好ましくはいわゆる「進行中に描画する」システムであり、基板は基板テーブルに配置され、描画プロセス中に基板テーブルは少なくとも一方向に連続移動を行い、同時にレーザ・ビームが別な方向に走査される。このマイクロリソグラフィ法は当技術分野ではよく知られており、一般にラスタ走査として知られている。さらに、本発明は検査システムに関し、そのようなラスタ走査検査が基本的に同じように行われる。そのようなシステムでは、反射または透過走査ビームを検出するようにセンサが配列されるか、またはレーザを検出器と置き換えて、検出器が基板を走査する。この場合、データを読む代わりに、データが出力される。
【００２７】
本システムは、さらに、ビームの連続する位置を示すデータの組に従って基板６にビームを向け、基板の走査線上にビームを走査するように、チャープ周波数信号によって駆動される音響光学偏向器４を備える。テーブル（ステージ）は、サーボ・システム等で制御されて、ビームの走査方向に対して垂直な方向に移動するのが好ましい。
【００２８】
もしくは、いくつかのビームを生成するようにビーム・スプリッタ（図示されない）が配列されるかもしれないし、または、いくつかのレーザ源でいくつかのビームが生成されるかもしれない。また、変調器は、レーザに一体化することができる。そのときには、音響光学偏向器で、同時に、基板表面全体にわたってビームが偏向されるかもしれない。
【００２９】
音響光学偏向器は当技術分野ではよく知られており、レーザ・ビームのエネルギーのかなりの部分をある範囲の角度に偏向させる。その偏向の角度は、音響光学偏向器を駆動するために使用される信号の周波数に依存している。
【００３０】
好ましくは使用されている光の波長の何分の１以下までテーブルの位置を測定するレーザ干渉計または他の手段のような少なくともオン・センサ７によって、走査方向における基板のオフセットの程度が測定される。それに応じて、センサが位置誤差信号を生成する。
【００３１】
偏向器は、カウンタ、位置データ、および位置誤差信号によって通常生成される走査ピクセル番号に従って制御され、さらに、偏向ストロークの各開始が制御されて、生成されるパターンの各部分が基板表面の一定の基準線から始まるようになる。位置誤差信号を使用して、補償手段８で位置データ信号を修正して、偏向器に伝えるべき補正された位置データ信号を生成するのが好ましい。この修正は、入力データを修正して行うのが好ましいが、データを供給するタイミングを修正することもまた可能である。この信号は、通常、ディジタル信号であり、変換手段９が上記のディジタル信号を、音響光学偏向器で使用すべきアナログＲＦ周波数信号に変換する。
【００３２】
図２を参照して、本発明による補償手段を示す。この実施形態で、補償手段は、いくつかの記憶領域８０１’を有するデータ記憶装置８０１を備える。しかし、いくつかの別個のデータ記憶装置もまた使用されるかもしれない。記憶装置／記憶領域は、横方向に移動する走査に対応してデータを供給される。その後で、入力走査ピクセル番号で制御された順番で、データが読み出されて偏向器に伝えられる。しかし、記憶装置／記憶領域のどれを読み出すかは、入力位置誤差信号に従って、セレクタで制御される。したがって、補償手段からの出力は補正された位置データであり、ここでは、測定された誤ったオフセットを補償するためにデータが修正される。そのような随意選択可能なメモリアレイは大きな記憶容量を必要とするが、これはむしろ安価である。さらに、これによって、システムの非線形性に対処し、これを補償することができる。
【００３３】
このようにして、この補償は、従来技術から知られるように変調器へのデータを送らせることによって行われれない。これを模式的に図３に示す。その代わりに、代替えの組の位置データが供給されて、測定された誤りを補償するために選択が行われる。これを同じ様に模式的に図４に示す。
【００３４】
図５に、本発明による補償変換手段の第１の実施形態を示す。この補償変換手段はカウンタ８０３を備える。このカウンタ８０３は、クロック信号を与えられ、補償手段で使用すべき走査ピクセル番号を生成する。さらに、補償変換手段は、ランダム・アクセス・メモリ（ＲＡＭ）のようなメモリを備え、入力位置データ（図示しない）を供給される。セレクタ８０２は、位置誤差信号を受け取り、それに応じて読み出すための記憶領域を選ぶ。読み出されたディジタル信号は、ディジタル・アナログ変換器８０４によってアナログ信号に変換され、この信号は、引き続き、電圧制御発振器９０１（ＶＣＯ）によってＲＦ信号に変換され、その後で、音響光学偏向器４（ＡＯＤ）に送られる。
【００３５】
図６に、本発明による補償変換手段の第２の実施形態を示す。この実施形態は、直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニット９０２を使用してディジタル位置信号をＡＯＤ４で使用できるＲＦ信号に変換するという点で、上記の第１の実施形態と異なる。ＤＤＳは、入力データから出力周波数信号への変換を行うかもしれないので、この用途に非常に適した性能を有し、ＶＣＯとＤＡＣに取って替わる。さらに、ＤＤＳは、非常に安定しており、他の構成要素のように環境の外乱の影響を受けない。具体的には、ＶＣＯは、温度変化、電子雑音などに非常に敏感である。さらにその上、ＤＤＳでの変換は、基本的に線形であり、また非常に高速であるので、高い周波数分解能が得られる。
【００３６】
ＤＤＳは、通常、位相累積器、サイン・テーブル、およびディジタル・アナログ変換器を備え、例えば、Ｑｕａｌｃｏｍ ｃｏｒｐおよびＳｔａｎｆｏｒｄ Ｔｅｌｅｃｏｍ ｃｏｒｐから市販されている。ＤＤＳでは、位相累積器は、連続して接続された加算器とラッチを備え、位相累積器はクロック・パルスごとに前の値にある値を加える。このように、位相累積器の値は、クロック信号速度で増加して、位相累積器の出力に増加するランプが形成される。累積器はオーバフローしてもよい。位相累積器の出力は、正弦波信号の周期が格納されているサイン・テーブルに、読み出しアドレスとして接続されている。サイン・テーブルから受け取られたディジタル正弦波信号は、ディジタル・アナログ変換器に伝えられ、そこでアナログ形に変換され、その出力にサイン波が受け取られる。好ましくは、周波数に依存して、ＲＦ信号が受け取られる。
【００３７】
図７に、本発明による補償変換手段の第３の実施形態を示す。この実施形態は、位置誤差信号に従って補償するためにいくつかの予め格納された位置データの組を使用しない点で、上記の第２の実施形態と異なる。その代わりに、加算器８０５を使用して、位置誤差信号に従ってリアル・タイムで位置データを修正する。この解決策は、観念的には比較的容易であるが、非線形性のある場合を取り扱うことができない。さらに、データまたはデータの供給を他の方法で修正することが可能である。
【００３８】
ディジタル信号からＲＦ信号への変換にＤＤＳユニットを使用することの問題は、上述の用途で使用するのに十分に高速なＤＤＳユニットは、高いクロック周波数が必要なために、通常、比較的高価なことである。さらに、出力信号に誤りがあることが多く、また、クロック周波数が高いために、同期に関する問題がある。低周波ＤＤＳは、信号の誤り率は非常に少くなく、データのローディングは全体的に同期を取られる。さらに、低周波ＤＤＳユニットは余り高価ではない。しかし、このユニットは、帯域幅が狭いために上述の用途で使用できないかもしれない。
【００３９】
しかし、低周波ＤＤＳユニットに関するこの問題は、信号条件付けを使用して帯域幅を増加させることで克服できるかもしれない。これは、周波数逓倍と周波数偏移の組合せで行われるかもしれない。
【００４０】
図８に示す好ましい実施形態は、基本的に上述の第２および第３の実施形態に対応し、そこでは低周波ＤＤＳ（ＬＦ ＤＤＳ）ユニット９０１が使用される。このユニットは、主クロック８０６からクロック信号を供給される。例えば、１０ＭＨｚの主クロックが使用され、１０ＭＨｚの信号Ｓ１を生成するかもしれない。次に、当技術分野でよく知られている位相ロック・ループ（ＰＬＬ）・ユニット９０３を使用して、この周波数を高くし、例えば、２００ＭＨｚの信号Ｓ２を生成するのが好ましい。次に、この同じ信号を使用して、変調器３にパターンを供給するための受渡し電子回路１０を制御するのが好ましい。これによって、変調器３と偏向器４の間の同期化が容易に得られるかもしれない。変調器に好適であるように、クロック信号はユニット９０４で周波数分割され、例えば４で分割されるかもしれない。
【００４１】
ＬＦ ＤＤＳ９０２からの信号Ｓ４は、例えば、１４〜６４ＭＨｚの範囲にあるかもしれない。次に、この信号を周波数偏移するのが好ましい。これは、この信号を混合器９０７で高周波信号Ｓ５と混合することで得られるかもしれない。その高周波信号は、第２のＰＬＬ９０５で同じクロック信号Ｓ１を使用して生成するのが好ましい。例えば、３１５ＭＨｚの高周波信号Ｓ５が使用される場合は、Ｓ４との混合後の信号Ｓ６の範囲は２５１〜３０１ＭＨｚであるだろう。
【００４２】
その後、この信号を周波数逓倍するのが好ましい。例えば、２の逓倍は、混合器９０８で信号をその信号自体と混合することで得られるかもしれないし、４の逓倍は、他の混合器９０９でこの信号をそれ自体ともう一度混合することで得られるかもしれない。使用した実施例では、第１の逓倍後の信号Ｓ７は５０２〜６０２ＭＨｚの範囲を持つかもしれないし、第２の逓倍後の信号Ｓ８は１００４〜１２０４ＭＨｚの範囲を持つかもしれない。他の逓倍値もまた得られるかもしれない。このことは、ＲＦ技術の当業者は理解するであろう。
【００４３】
必要な場合は、帯域幅（ＢＰ）フィルタ９１０をその後で使用して、信号中の雑音およびスプリアス周波数を抑制するかもしれない。
【００４４】
好ましい実施形態によれば、その後、信号は再び周波数を下げられる。これは、さらに他の混合器９１１で信号を第２の高周波信号Ｓ９と混合して行われるかもしれない。この第２の高周波信号は、ＰＬＬ９０６を使用して同じクロック信号から生成するのが好ましい。例えば、信号Ｓ９は周波数が９０４ＭＨｚであるかもしれない。それで、結果として生じる信号Ｓ１０は１００〜３００ＭＨｚの範囲を持つかもしれない。ＬＦ ＤＤＳからの元の信号Ｓ４に比べて、今や、帯域幅は５０ＭＨｚから２００ＭＨｚに相当に増加し、適当な周波数範囲にある。
【００４５】
それから、必要であれば、別のＢＰフィルタ９１２で、信号をもう一度帯域幅フィルタ処理して、増幅器９１４で増幅してから偏向器４に伝えるかもしれない。周波数に応じて電力を制御するために、振幅変調器９１３がさらに設けられる。
【００４６】
偏向器の帯域幅を大きくするために、異なる入力データで制御されるいくつかのＤＤＳユニットを使用して、ビーム方向の位相制御を得るかもしれない。しかし、そのような位相制御は、単一のＤＤＳ、信号分配器、および１つまたは複数の位相変調器を使用しても得られるかもしれない。それによって、分配信号は、ビーム方向の位相制御を得るように制御される。
【００４７】
本発明を実施例により説明した。しかし、時間遅延のような他の種類の基板オフセット補償を有するＤＤＳユニットを使用するような、いくつかの他の代替物が可能である。さらに、混合は、引算の外に加算としても理解すべきであり、これらは等価であり、交換可能である。さらに、直接ディジタル合成は、ＤＤＳ法と電圧制御発振器の組合せを使用するハイブリッドも含むものとして解すべきである。そのような代替物は、添付の特許請求の範囲で定義されているような本発明の範囲内であると考えるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態によるシステムの模式図である。
【図２】 基板に対する位置誤差を補償するための、本発明による補償手段の模式図である。
【図３】 従来技術で使用される位置誤差の補償を示す模式図である。
【図４】 本発明で使用される位置誤差の補償を示す模式図である。
【図５】 本発明の第１の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図６】 本発明の第２の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図７】 本発明の第３の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図８】 図６および７に示す第２および３の実施形態のより詳細な図である。
（発明の分野）
本発明は、感光性基板上でのマイクロリソグラフィ描画および検査のためのシステムおよび方法に関し、特に、半導体デバイス・パターン、表示パネル、集積光デバイス、および電子相互接続構造用のフォトマスクなどの、非常に高い精度を有するパターンの印刷および検査のためのシステムおよび方法に関する。描画および印刷という用語は、広い意味で理解すべきであり、フォトレジストおよび写真乳剤の露光を意味するが、また、光または熱で活性化される除去または化学プロセスによる、ドライプロセス・ペーパーなど他の感光性媒体上での光の作用も意味する。光は可視光を意味することに限らず、赤外から極紫外までの広い範囲の波長である。
【０００２】
（発明の背景）
基板のマイクロリソグラフィ描画のためのシステムおよび方法は、例えば同じ出願人によるＥＰ ０ ４６７ ０７６から以前より知られている。一般に、マイクロリソグラフィ描画のためのそのようなシステムは、レーザなどの光源と、入力パターン・データに従って制御され、描画すべき所望のパターンを生成する変調器と、掃引周波数信号によって駆動されて、ビームの連続する位置を示す一組のデータに従って基板の上でビームを走査する音響光学偏向器と、ビームが基板に届く前にビームを収束させるレンズとを備える。さらに、基板は対物テーブル上で配列され、テーブル（ステージ）は、サーボ・システムによって制御されて、ビームの走査方向に対して直角に交わる方向に移動する。
【０００３】
しかし、そのような知られている描画システムの問題は、テーブルが必ずしも線形運動を行わないことであり、また、テーブル移動が走査方向に対して直角でなく、他の傾斜した角度で行われることもありうる。
【０００４】
この問題に対する解決策は、米国特許第４５４１７１２号にＷｈｉｔｎｅｙによって提案された。ここでは、基板テーブルについて測定されたオフセットに従って、変調器を制御するためのデータを遅らせる。したがって、この場合には、問題はタイミング制御によって処理される。しかし、この方法は、全てのシステムで使用可能なわけではない。さらに、この知られている方法の問題には、遅延機能のために、各掃引の始めと終りに余分な時間を追加しなければならないことがあり、それによって、プロセスの時間効率が低下する。その結果、また、走査当りで分解されるパターン・フィーチャの数も少なくなるであろう。
【０００５】
さらに、従来技術に関連する問題には、入力ビーム位置データから、基板に向かってビームを適正に向けるために音響光学変調器で使用される出力掃引周波数信号に、確実で正確に効率よく変換を行うことが困難であることがある。以前は、この変換は、通常、ディジタル・アナログ変換器（ＤＡＣ）および電圧制御発振器（ＶＣＯ）を含んだ一連の構成要素によって行われていた。これらの構成要素は、特にＶＣＯは、非線形性であり、また、温度の変化、他の電子構成要素からの外乱などに敏感である。さらに、ＶＣＯは、高速な変化を妨げる固有のアナログの「慣性」を有する。入力ビーム位置データから出力掃引周波数信号への変換に関するこれらおよび他の問題のために、偏向器の制御もまた悪化する。
【０００６】
ラスタ走査検査システムは同じような構造をしているので、同様な問題を経験する。
【０００７】
（発明の概要）
したがって、本発明の目的は、従来技術の上述の問題点を解決し、または少なくとも改善するシステムおよび方法を提供することである。
【０００８】
この目的は、添付の特許請求の範囲によるシステムおよび方法で達成される。
【０００９】
本発明の第１の態様によれば、感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画または検査のためのレーザ走査システムが提供される。本システムは、少なくとも１つのレーザ光ビームを生成するレーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズと、基板を支持する基板支持テーブルとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされる。さらに、本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。レーザ源と変調器は、１つのユニットに集積化することができる。さらに、データを修正するための手段は、異なるデータの組を生成するための手段を備えるのが好ましい。したがって、オフセット補償は、変調器ではなくて偏向器を制御することで行われる。
【００１０】
このようにして、測定されたオフセットの補償は、タイミング制御で行われないで、入力データに遅延を加えることで、または、異なる特性を有するいくつかの可能な入力位置データの組のうちの１つを選ぶことで行われるのが好ましい。これによって、各掃引の始めと終りに余計な補償時間が必要でなくなり、時間がより効率的に使用され、走査当りの分解されるパターンの特徴の可能な数が増加する。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態によれば、本レーザ走査システムは、異なる組のデータを格納するためのいくつかのデータ記憶手段を備え、さらに、制御ユニットは、セレクタを備え、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して、偏向器のために読み出すそのデータ記憶手段のデータの１つを選ぶ。もしくは、制御ユニットは、測定されたオフセットに従って位置データを、好ましくはリアル・タイムで、修正するための加算器を備え、前記のオフセットを補償するために、前記偏向器のために読み出す修正されたデータを生成する。
【００１２】
本発明の他の態様によれば、感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画または検査のためのレーザ走査システムが提供される。本システムは、少なくとも１つのレーザ光ビームを生成するレーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズと、基板を支持する基板支持テーブルとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされる。さらに、本システムは、偏向方向における基板オフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、チャープの開始を生成するための直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットを備え、このＤＤＳユニットは今度は掃引の開始を示す入力データで制御される。
【００１３】
ＤＤＳは、入力データから直接に出力周波数信号への変換を行い、通常使用されるいくつかの他の構成要素に取って代わるかもしれないので、この用途に非常に適した性能を有する。さらに、ＤＤＳは非常に安定で、他の構成要素のように環境の外乱の影響を受けない。さらにまた、ＤＤＳでの変換は基本的に線形であり、変化するデータに対する応答時間が非常に短い。
【００１４】
しかし、本発明の前記の２つの態様は、組合せとして使用するのが最も好ましい。
【００１５】
さらに、本システムは、第１の高周波信号を生成する第１の高周波生成器と、駆動信号をＤＤＳで高周波信号に混合するための、すなわち加算または引算を行うための混合器とを備えるのが好ましい。これによって、描画および検査のプロセスで音響光学デバイスを駆動するのに適した範囲、一般には１００〜２５０ＭＨｚに出力周波数が依然として維持されるのと同時に、遥かに安価で、またより信頼性が高く精度のよい低周波ＤＤＳを使用できるかもしれない。
【００１６】
さらに、高周波生成器およびＤＤＳユニットは、同期をとられたクロック信号、最も好ましくは同じクロックから生じるクロック信号を供給されるのが好ましい。これによって、変換プロセスでの同期化が維持されるかもしれない。
【００１７】
さらに、本システムは、第２の高周波信号を生成する第２の高周波生成器と、第１の高周波信号に加えた後で、ＤＤＳからの駆動信号を第２の高周波信号から混合するための混合器とを備える。これによって、出力周波数の相対的な範囲は広くなるかもしれない。
【００１８】
本システムは、また、少なくとも１つの周波数逓倍のためのユニット、例えば入力信号をこの入力信号自体と混合するための混合器を備えるのが好ましく、この混合器は、第１の高周波信号と混合するための混合器と第２の高周波信号と混合するための混合器との間に配置されるのが好ましい。これによっても、出力周波数の絶対的な範囲が増加する。
【００１９】
本発明の好ましい実施形態によれば、コンピュータ制御光変調器およびＤＤＳユニットは、さらに、同期をとられたクロック信号を、最も好ましくは同じクロックから生じるクロック信号を供給される。このために、変調器および偏向器は、描画または検査のプロセス全体を通して同期した状態で維持されるかもしれない。これによって、データと走査の間のタイミング不確定による不確定は起こらなくなる。
【００２０】
また、本発明により、制御された位相差を有する２以上のＲＦ信号を得ることができるようにもなる。そのような位相制御された信号を使用して、いわゆる整相列駆動によって音響光学偏向器の有用な帯域幅を拡大することができるかもしれない。これは、システム内の異なる入力データで制御される少なくとも２つのＤＤＳユニットを使用して行われるかもしれない。これによって、チャネルへの入力データは、小さな計算された差を有し、この差によって、位相差が生成される。２つのＤＤＳユニットは、規則正しい間隔で位相同期しているのが好ましく、同じＲＦ信号が、２つのユニットでアップ・コンバートとダウン・コンバートに使用される。このようにして、非常に正確な位相可干渉性を有するがなお任意の正確に制御された位相差を有する２つの信号を生成することが可能になる。しかし、これは、また、ＲＦ技術でよく知られているように、単一ＤＤＳ、信号分配器、および１つまたは複数の位相変調器によって得られるかもしれない。
【００２１】
本発明のさらに他の態様によれば、レーザ走査システムによる感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画の方法が提供される。そのシステムは、レーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされ、さらに、偏向方向における基板オフセットの程度が測定される。さらに、本方法は、横方向に移動する走査に対応する位置データの組を生成するステップと、前記のオフセットを補償するために、検出器で測定されたオフセットに依存して、偏向器のために読み出す位置データの前記の組の１つを選ぶステップとを含む。
【００２２】
本発明のさらに他の態様によれば、レーザ走査システムによる感光性基板に対するパターンのマイクロリソグラフィ描画の方法が提供される。そのシステムは、レーザ光源と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器と、光源からの光ビームを、それが基板に達する前に収束させるレンズとを備える。描画動作中に、その少なくとも１つのビームは、基板上のビームの連続する位置を示すデータの組に従って掃引周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、基板表面の領域にわたって偏向され、基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動してビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされ、また、偏向方向における基板オフセットの程度が測定される。さらに、掃引周波数駆動信号が直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットで生成され、この直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニットは、今度は、掃引の開始を示す入力データによって制御される。
【００２３】
上の２つの方法は、組合せで使用されるのが最も好ましい。
【００２４】
例証の目的のために、本発明は、添付の図面に図示される本発明の実施形態を参照して、下記でより詳細に説明する。
【００２５】
（好ましい実施形態の説明）
図１を参照して、本発明によるシステムは、好ましくは連続レーザである光源１と、コンピュータ制御光変調器３と、光源からの光ビームを、それが感光性基板６に達する前に収束させる縮小レンズ５とを備える。さらに、本システムは、変調器の前に第２の収束レンズ２を備える。レーザは、例えば４１３ｎｍ、１００ｍＷのクリプトン・イオン・レーザのようなイオン・レーザである。変調器は、受渡し電子回路１０によって変調器に送り出された入力パターン・データに従ってビームを制御する。
【００２６】
本発明によるシステムは、好ましくはいわゆる「進行中に描画する」システムであり、基板は基板テーブルに配置され、描画プロセス中に基板テーブルは少なくとも一方向に連続移動を行い、同時にレーザ・ビームが別な方向に走査される。このマイクロリソグラフィ法は当技術分野ではよく知られており、一般にラスタ走査として知られている。さらに、本発明は検査システムに関し、そのようなラスタ走査検査が基本的に同じように行われる。そのようなシステムでは、反射または透過走査ビームを検出するようにセンサが配列されるか、またはレーザを検出器と置き換えて、検出器が基板を走査する。この場合、データを読む代わりに、データが出力される。
【００２７】
本システムは、さらに、ビームの連続する位置を示すデータの組に従って基板６にビームを向け、基板の走査線上にビームを走査するように、チャープ周波数信号によって駆動される音響光学偏向器４を備える。テーブル（ステージ）は、サーボ・システム等で制御されて、ビームの走査方向に対して垂直な方向に移動するのが好ましい。
【００２８】
もしくは、いくつかのビームを生成するようにビーム・スプリッタ（図示されない）が配列されるかもしれないし、または、いくつかのレーザ源でいくつかのビームが生成されるかもしれない。また、変調器は、レーザに一体化することができる。そのときには、音響光学偏向器で、同時に、基板表面全体にわたってビームが偏向されるかもしれない。
【００２９】
音響光学偏向器は当技術分野ではよく知られており、レーザ・ビームのエネルギーのかなりの部分をある範囲の角度に偏向させる。その偏向の角度は、音響光学偏向器を駆動するために使用される信号の周波数に依存している。
【００３０】
好ましくは使用されている光の波長の何分の１以下までテーブルの位置を測定するレーザ干渉計または他の手段のような少なくともオン・センサ７によって、走査方向における基板のオフセットの程度が測定される。それに応じて、センサが位置誤差信号を生成する。
【００３１】
偏向器は、カウンタ、位置データ、および位置誤差信号によって通常生成される走査ピクセル番号に従って制御され、さらに、偏向ストロークの各開始が制御されて、生成されるパターンの各部分が基板表面の一定の基準線から始まるようになる。位置誤差信号を使用して、補償手段８で位置データ信号を修正して、偏向器に伝えるべき補正された位置データ信号を生成するのが好ましい。この修正は、入力データを修正して行うのが好ましいが、データを供給するタイミングを修正することもまた可能である。この信号は、通常、ディジタル信号であり、変換手段９が上記のディジタル信号を、音響光学偏向器で使用すべきアナログＲＦ周波数信号に変換する。
【００３２】
図２を参照して、本発明による補償手段を示す。この実施形態で、補償手段は、いくつかの記憶領域８０１’を有するデータ記憶装置８０１を備える。しかし、いくつかの別個のデータ記憶装置もまた使用されるかもしれない。記憶装置／記憶領域は、横方向に移動する走査に対応してデータを供給される。その後で、入力走査ピクセル番号で制御された順番で、データが読み出されて偏向器に伝えられる。しかし、記憶装置／記憶領域のどれを読み出すかは、入力位置誤差信号に従って、セレクタで制御される。したがって、補償手段からの出力は補正された位置データであり、ここでは、測定された誤ったオフセットを補償するためにデータが修正される。そのような随意選択可能なメモリアレイは大きな記憶容量を必要とするが、これはむしろ安価である。さらに、これによって、システムの非線形性に対処し、これを補償することができる。
【００３３】
このようにして、この補償は、従来技術から知られるように変調器へのデータを送らせることによって行われれない。これを模式的に図３に示す。その代わりに、代替えの組の位置データが供給されて、測定された誤りを補償するために選択が行われる。これを同じ様に模式的に図４に示す。
【００３４】
図５に、本発明による補償変換手段の第１の実施形態を示す。この補償変換手段はカウンタ８０３を備える。このカウンタ８０３は、クロック信号を与えられ、補償手段で使用すべき走査ピクセル番号を生成する。さらに、補償変換手段は、ランダム・アクセス・メモリ（ＲＡＭ）のようなメモリを備え、入力位置データ（図示しない）を供給される。セレクタ８０２は、位置誤差信号を受け取り、それに応じて読み出すための記憶領域を選ぶ。読み出されたディジタル信号は、ディジタル・アナログ変換器８０４によってアナログ信号に変換され、この信号は、引き続き、電圧制御発振器９０１（ＶＣＯ）によってＲＦ信号に変換され、その後で、音響光学偏向器４（ＡＯＤ）に送られる。
【００３５】
図６に、本発明による補償変換手段の第２の実施形態を示す。この実施形態は、直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニット９０２を使用してディジタル位置信号をＡＯＤ４で使用できるＲＦ信号に変換するという点で、上記の第１の実施形態と異なる。ＤＤＳは、入力データから出力周波数信号への変換を行うかもしれないので、この用途に非常に適した性能を有し、ＶＣＯとＤＡＣに取って替わる。さらに、ＤＤＳは、非常に安定しており、他の構成要素のように環境の外乱の影響を受けない。具体的には、ＶＣＯは、温度変化、電子雑音などに非常に敏感である。さらにその上、ＤＤＳでの変換は、基本的に線形であり、また非常に高速であるので、高い周波数分解能が得られる。
【００３６】
ＤＤＳは、通常、位相累積器、サイン・テーブル、およびディジタル・アナログ変換器を備え、例えば、Ｑｕａｌｃｏｍ ｃｏｒｐおよびＳｔａｎｆｏｒｄ Ｔｅｌｅｃｏｍ ｃｏｒｐから市販されている。ＤＤＳでは、位相累積器は、連続して接続された加算器とラッチを備え、位相累積器はクロック・パルスごとに前の値にある値を加える。このように、位相累積器の値は、クロック信号速度で増加して、位相累積器の出力に増加するランプが形成される。累積器はオーバフローしてもよい。位相累積器の出力は、正弦波信号の周期が格納されているサイン・テーブルに、読み出しアドレスとして接続されている。サイン・テーブルから受け取られたディジタル正弦波信号は、ディジタル・アナログ変換器に伝えられ、そこでアナログ形に変換され、その出力にサイン波が受け取られる。好ましくは、周波数に依存して、ＲＦ信号が受け取られる。
【００３７】
図７に、本発明による補償変換手段の第３の実施形態を示す。この実施形態は、位置誤差信号に従って補償するためにいくつかの予め格納された位置データの組を使用しない点で、上記の第２の実施形態と異なる。その代わりに、加算器８０５を使用して、位置誤差信号に従ってリアル・タイムで位置データを修正する。この解決策は、観念的には比較的容易であるが、非線形性のある場合を取り扱うことができない。さらに、データまたはデータの供給を他の方法で修正することが可能である。
【００３８】
ディジタル信号からＲＦ信号への変換にＤＤＳユニットを使用することの問題は、上述の用途で使用するのに十分に高速なＤＤＳユニットは、高いクロック周波数が必要なために、通常、比較的高価なことである。さらに、出力信号に誤りがあることが多く、また、クロック周波数が高いために、同期に関する問題がある。低周波ＤＤＳは、信号の誤り率は非常に少くなく、データのローディングは全体的に同期を取られる。さらに、低周波ＤＤＳユニットは余り高価ではない。しかし、このユニットは、帯域幅が狭いために上述の用途で使用できないかもしれない。
【００３９】
しかし、低周波ＤＤＳユニットに関するこの問題は、信号条件付けを使用して帯域幅を増加させることで克服できるかもしれない。これは、周波数逓倍と周波数偏移の組合せで行われるかもしれない。
【００４０】
図８に示す好ましい実施形態は、基本的に上述の第２および第３の実施形態に対応し、そこでは低周波ＤＤＳ（ＬＦ ＤＤＳ）ユニット９０１が使用される。このユニットは、主クロック８０６からクロック信号を供給される。例えば、１０ＭＨｚの主クロックが使用され、１０ＭＨｚの信号Ｓ１を生成するかもしれない。次に、当技術分野でよく知られている位相ロック・ループ（ＰＬＬ）・ユニット９０３を使用して、この周波数を高くし、例えば、２００ＭＨｚの信号Ｓ２を生成するのが好ましい。次に、この同じ信号を使用して、変調器３にパターンを供給するための受渡し電子回路１０を制御するのが好ましい。これによって、変調器３と偏向器４の間の同期化が容易に得られるかもしれない。変調器に好適であるように、クロック信号はユニット９０４で周波数分割され、例えば４で分割されるかもしれない。
【００４１】
ＬＦ ＤＤＳ９０２からの信号Ｓ４は、例えば、１４〜６４ＭＨｚの範囲にあるかもしれない。次に、この信号を周波数偏移するのが好ましい。これは、この信号を混合器９０７で高周波信号Ｓ５と混合することで得られるかもしれない。その高周波信号は、第２のＰＬＬ９０５で同じクロック信号Ｓ１を使用して生成するのが好ましい。例えば、３１５ＭＨｚの高周波信号Ｓ５が使用される場合は、Ｓ４との混合後の信号Ｓ６の範囲は２５１〜３０１ＭＨｚであるだろう。
【００４２】
その後、この信号を周波数逓倍するのが好ましい。例えば、２の逓倍は、混合器９０８で信号をその信号自体と混合することで得られるかもしれないし、４の逓倍は、他の混合器９０９でこの信号をそれ自体ともう一度混合することで得られるかもしれない。使用した実施例では、第１の逓倍後の信号Ｓ７は５０２〜６０２ＭＨｚの範囲を持つかもしれないし、第２の逓倍後の信号Ｓ８は１００４〜１２０４ＭＨｚの範囲を持つかもしれない。他の逓倍値もまた得られるかもしれない。このことは、ＲＦ技術の当業者は理解するであろう。
【００４３】
必要な場合は、帯域幅（ＢＰ）フィルタ９１０をその後で使用して、信号中の雑音およびスプリアス周波数を抑制するかもしれない。
【００４４】
好ましい実施形態によれば、その後、信号は再び周波数を下げられる。これは、さらに他の混合器９１１で信号を第２の高周波信号Ｓ９と混合して行われるかもしれない。この第２の高周波信号は、ＰＬＬ９０６を使用して同じクロック信号から生成するのが好ましい。例えば、信号Ｓ９は周波数が９０４ＭＨｚであるかもしれない。それで、結果として生じる信号Ｓ１０は１００〜３００ＭＨｚの範囲を持つかもしれない。ＬＦ ＤＤＳからの元の信号Ｓ４に比べて、今や、帯域幅は５０ＭＨｚから２００ＭＨｚに相当に増加し、適当な周波数範囲にある。
【００４５】
それから、必要であれば、別のＢＰフィルタ９１２で、信号をもう一度帯域幅フィルタ処理して、増幅器９１４で増幅してから偏向器４に伝えるかもしれない。周波数に応じて電力を制御するために、振幅変調器９１３がさらに設けられる。
【００４６】
偏向器の帯域幅を大きくするために、異なる入力データで制御されるいくつかのＤＤＳユニットを使用して、ビーム方向の位相制御を得るかもしれない。しかし、そのような位相制御は、単一のＤＤＳ、信号分配器、および１つまたは複数の位相変調器を使用しても得られるかもしれない。それによって、分配信号は、ビーム方向の位相制御を得るように制御される。
【００４７】
本発明を実施例により説明した。しかし、時間遅延のような他の種類の基板オフセット補償を有するＤＤＳユニットを使用するような、いくつかの他の代替物が可能である。さらに、混合は、引算の外に加算としても理解すべきであり、これらは等価であり、交換可能である。さらに、直接ディジタル合成は、ＤＤＳ法と電圧制御発振器の組合せを使用するハイブリッドも含むものとして解すべきである。そのような代替物は、添付の特許請求の範囲で定義されているような本発明の範囲内であると考えるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態によるシステムの模式図である。
【図２】 基板に対する位置誤差を補償するための、本発明による補償手段の模式図である。
【図３】 従来技術で使用される位置誤差の補償を示す模式図である。
【図４】 本発明で使用される位置誤差の補償を示す模式図である。
【図５】 本発明の第１の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図６】 本発明の第２の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図７】 本発明の第３の実施形態による補償変換手段の模式図である。
【図８】 図６および７に示す第２および３の実施形態のより詳細な図である。
Claims (11)
- 感光性基板（６）上でのパターンのマイクロリソグラフィ描画または検査のためのレーザ走査システムであって、前記システムは、少なくとも１つのレーザ光ビームを生成するレーザ光源（１）と、入力パターン・データに従って制御されるコンピュータ制御光変調器（３）と、前記光源からの光ビームを、前記基板に達する前に収束させるレンズと、前記基板を支持する基板支持テーブルとを備え、前記描画動作中に、前記少なくとも１つのビームは、前記基板上の前記ビームの連続する位置を示すデータの組に従ってチャープ周波数信号で駆動される音響光学偏向器によって、前記基板表面の領域にわたって偏向され、前記基板は、偏向の方向に対して傾斜した角度で、好ましくは垂直な角度で移動して前記ビームの次のストローク時の露光のために再位置付けされるようにしたレーザ走査システムにおいて、さらに、単一の直接ディジタル合成（ＤＤＳ）ユニット、信号分配器ならびに一つあるいは複数の位相変調器とが設けられ、分配信号が前記レーザ光ビームの方向の位相制御を得るように制御され、かつ前記信号分配器および前記一つあるいは複数の位相変調器を用いて前記音響光学偏向器の帯域幅を増大させることを特徴とする、レーザ走査システム。
- さらに、偏向方向における基板オフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサを備えて、前記ＤＤＳユニットが前記少なくとも１つの光ビームの偏向の開始を示す入力データで制御される、請求項１に記載のレーザ走査システム。
- さらに、第１の高周波信号を生成する第１の高周波生成器と、前記ＤＤＳユニットからの前記駆動信号を前記高周波信号と混合するための混合器とを備える、請求項２に記載のレーザ走査システム。
- 前記第１の高周波生成器が位相ロック・ループを備える、請求項３に記載のレーザ走査システム。
- 前記高周波生成器および前記ＤＤＳユニットが、同期をとられたクロック信号、好ましくは同じクロックから生じるクロック信号を供給される、請求項３または請求項４に記載のレーザ走査システム。
- 第２の高周波信号を生成する第２の高周波生成器と、前記第１の高周波信号との前記混合の後で、前記ＤＤＳユニットからの前記駆動信号と前記第２の高周波信号から混合するための混合器とを備える、請求項３から請求項５までのいずれか一項に記載のレーザ走査システム。
- 前記第１の高周波生成器が位相ロック・ループを備える、請求項６に記載のレーザ走査システム。
- さらに、前記入力信号を前記入力信号自体と混合するための混合器など、周波数逓倍のための少なくとも１つのユニットを備え、このユニットが、好ましくは、前記第１の高周波信号と混合するための混合器と前記第２の高周波信号と混合するための混合器との間に配置される、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のレーザ走査システム。
- 前記ＤＤＳユニットからの前記駆動信号を前記駆動信号自体に加えるための混合器が、前記ＤＤＳユニットからの前記駆動信号を前記高周波信号と混合するための混合器の後に配列される、請求項８に記載のレーザ走査システム。
- 前記コンピュータ制御光変調器および前記ＤＤＳユニットが、同期をとられたクロック信号を供給される、請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載のレーザ走査システム。
- 前記同期をとられたクロック信号が同じクロックから生じる、請求項１０に記載のレーザ走査システム。
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| JP2005277128A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Canon Inc | 露光装置、および、デバイス製造方法 |
| EP1789851A2 (en) * | 2004-08-23 | 2007-05-30 | Micronic Laser Systems Ab | Pupil improvement of incoherent imaging systems for enhanced cd linearity |
| JP4587170B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
| US7382394B2 (en) * | 2005-03-24 | 2008-06-03 | Ecrm Incorporated | System and method for correcting scan position errors in an imaging system |
| CN101135856B (zh) * | 2006-08-31 | 2010-09-08 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 激光直写装置及激光直写方法 |
| US8502296B1 (en) * | 2008-07-07 | 2013-08-06 | National Semiconductor Corporation | Non-volatile memory cell with asymmetrical split gate and related system and method |
| TWI523720B (zh) | 2009-05-28 | 2016-03-01 | 伊雷克托科學工業股份有限公司 | 應用於雷射處理工件中的特徵的聲光偏轉器及相關雷射處理方法 |
| KR100933171B1 (ko) * | 2009-07-20 | 2009-12-21 | (주)엘엠솔루션 | 그래픽 디스플레이 기능을 구현한 비메모리 반도체 |
| US8264516B2 (en) * | 2009-12-23 | 2012-09-11 | Xerox Corporation | Method and apparatus for process magnification adjustment |
| US8891157B2 (en) | 2010-08-30 | 2014-11-18 | Micronic Ab | Acousto-optic deflectors over one octave |
| US8525857B2 (en) | 2011-04-13 | 2013-09-03 | Xerox Corporation | System and method to improve side 1 to side 2 image on paper magnification difference and IQ performance |
| JP5866912B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2016-02-24 | 凸版印刷株式会社 | パターンの描画条件導出方法及びパターン描画装置 |
| KR101465370B1 (ko) | 2013-12-09 | 2014-11-26 | 한국항공우주연구원 | 위상누적다항식을 이용하여 양방향 첩신호를 생성하는 장치 및 방법 |
| JP6921057B2 (ja) | 2015-09-09 | 2021-08-18 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | レーザ処理装置、ワークピースをレーザ処理する方法及び関連する構成 |
| JP6651768B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2020-02-19 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
| US10401704B2 (en) * | 2016-11-11 | 2019-09-03 | Asml Netherlands B.V. | Compensating for a physical effect in an optical system |
| CN114654082A (zh) | 2016-12-30 | 2022-06-24 | 伊雷克托科学工业股份有限公司 | 用于延长镭射处理设备中的光学器件生命期的方法和系统 |
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| CN110944439B (zh) * | 2019-10-29 | 2021-05-28 | 清华大学 | 基于电子储存环的高平均功率极紫外光源装置 |
Citations (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55111917A (en) * | 1979-02-22 | 1980-08-29 | Toshiba Corp | Reciprocating photo scanner |
| JPS568110A (en) * | 1979-07-03 | 1981-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light beam scanner |
| JPS57150817A (en) * | 1980-12-11 | 1982-09-17 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Correction of positional errors of light beam deflected on surface |
| JPS58122543A (ja) * | 1981-12-21 | 1983-07-21 | アメリカン・セミコンダクタ・イクイプメント・テクノロジ−ズ | レ−ザパタ−ン発生のための装置及び方法 |
| JPS62201414A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザ描画装置 |
| JPH01302231A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-12-06 | Tokyo Electron Ltd | レーザ走査システム |
| JPH02267515A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 走査光学系 |
| JPH034208A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
| JPH04229835A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-19 | Sony Corp | 光ビーム偏向装置 |
| JPH05266510A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光学式記録装置 |
| JPH07130634A (ja) * | 1993-11-08 | 1995-05-19 | Sharp Corp | 露光装置 |
| JPH0923320A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
| JPH1070637A (ja) * | 1996-08-28 | 1998-03-10 | Asahi Optical Co Ltd | 主走査方向及び副走査方向の直交度補正機能を持つレーザ描画装置 |
| JPH11133620A (ja) * | 1997-10-31 | 1999-05-21 | Kaneda Kikai Seisakusho:Kk | 傾斜歪打消信号を利用した印刷用刷版露光装置 |
| JPH11174693A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-07-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 描画装置および描画位置の補正方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2940055B2 (ja) | 1990-02-28 | 1999-08-25 | ソニー株式会社 | レーザ描画装置 |
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| JP2916050B2 (ja) * | 1992-10-05 | 1999-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 光ビーム走査装置 |
| WO1994010633A1 (en) * | 1992-11-02 | 1994-05-11 | Etec Systems, Inc. | Rasterizer for a pattern generation apparatus |
| JPH06235944A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光ビーム走査方法 |
| JPH09250904A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-09-22 | Nikon Corp | 位置検出装置 |
| US6023338A (en) * | 1996-07-12 | 2000-02-08 | Bareket; Noah | Overlay alignment measurement of wafers |
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Patent Citations (15)
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|---|---|---|---|---|
| JPS55111917A (en) * | 1979-02-22 | 1980-08-29 | Toshiba Corp | Reciprocating photo scanner |
| JPS568110A (en) * | 1979-07-03 | 1981-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light beam scanner |
| JPS57150817A (en) * | 1980-12-11 | 1982-09-17 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Correction of positional errors of light beam deflected on surface |
| JPS58122543A (ja) * | 1981-12-21 | 1983-07-21 | アメリカン・セミコンダクタ・イクイプメント・テクノロジ−ズ | レ−ザパタ−ン発生のための装置及び方法 |
| JPS62201414A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Toshiba Mach Co Ltd | レ−ザ描画装置 |
| JPH01302231A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-12-06 | Tokyo Electron Ltd | レーザ走査システム |
| JPH02267515A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 走査光学系 |
| JPH034208A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
| JPH04229835A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-08-19 | Sony Corp | 光ビーム偏向装置 |
| JPH05266510A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Olympus Optical Co Ltd | 光学式記録装置 |
| JPH07130634A (ja) * | 1993-11-08 | 1995-05-19 | Sharp Corp | 露光装置 |
| JPH0923320A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録装置 |
| JPH1070637A (ja) * | 1996-08-28 | 1998-03-10 | Asahi Optical Co Ltd | 主走査方向及び副走査方向の直交度補正機能を持つレーザ描画装置 |
| JPH11133620A (ja) * | 1997-10-31 | 1999-05-21 | Kaneda Kikai Seisakusho:Kk | 傾斜歪打消信号を利用した印刷用刷版露光装置 |
| JPH11174693A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-07-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 描画装置および描画位置の補正方法 |
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