JP4717916B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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前記各位置決め光学系(20a,20b)は、前記ワーク(30)の面に沿う第1の軸方向(X軸方向)及び前記第1の軸方向と直交し、前記ワーク(30)の面に沿う第2の軸方向(Y軸方向)にレーザを走査するスキャナ部(7a,7b)と、前記スキャナ部(7a,7b)を通過したレーザを集光して前記ワーク(30)に照射するfθレンズ(8a,8b)と、を有し、
前記一方の位置決め光学系(20a)の前記fθレンズ(8a)から照射されるレーザの第1の加工領域(12a)と前記他方の位置決め光学系(20b)の前記fθレンズ(8b)から照射されるレーザの第2の加工領域(12b)とが前記fθレンズ(8a,8b)の主軸方向に重ならないように、前記各fθレンズ同士(8a,8b)が前記主軸方向と直交する方向にずらして配置され、
前記ワーク(30)の表面と裏面に対向させる一対の遮蔽板(13a,13b)を備え、
前記一対の遮蔽板のうち一方の遮蔽板(13a)には、前記第1の加工領域(12a)よりも大きい第1の貫通孔(14a)が形成され、
前記一対の遮蔽板のうち他方の遮蔽板(13b)には、前記第2の加工領域(12b)よりも大きい第2の貫通孔(14b)が形成され、
前記一方の遮蔽板(13a)は、前記第1の貫通孔(14a)が前記第1の加工領域(12a)を包含するように前記一対の加工ヘッドのうち一方の加工ヘッド(20a)に固定され、かつ前記他方の位置決め光学系(20b)より照射されて前記ワーク(30)を貫通したレーザを遮蔽するように前記第2の加工領域(12b)を覆う長さに設定され、
前記他方の遮蔽板(13b)は、前記第2の貫通孔(14b)が前記第2の加工領域(12b)を包含するように前記一対の加工ヘッドのうち他方の加工ヘッド(20b)に固定され、かつ前記一方の位置決め光学系(20a)より照射されて前記ワーク(30)を貫通したレーザを遮蔽するように前記第1の加工領域(12a)を覆う長さに設定されている、
ことを特徴とするレーザ加工装置(100)にある。
7a,7b スキャナ部
8a,8b fθレンズ
12a,12b 位置決め領域(加工領域)
13a,13b 遮蔽板
20a,20b 位置決め光学系
30 ワーク
100 レーザ加工装置
Claims (1)
- レーザ発振器から出力されたレーザを板状のワーク上の所定の位置に位置決めする位置決め光学系を有する一対の加工ヘッドを備え、前記一対の加工ヘッドを対向させて配置し、前記一対の加工ヘッドの位置決め光学系のうち一方の位置決め光学系により前記ワークの表面側を、前記一対の加工ヘッドの位置決め光学系のうち他方の位置決め光学系により前記ワークの裏面側を、それぞれ加工するようにしたレーザ加工装置において、
前記各位置決め光学系は、前記ワークの面に沿う第1の軸方向及び前記第1の軸方向と直交し、前記ワークの面に沿う第2の軸方向にレーザを走査するスキャナ部と、前記スキャナ部を通過したレーザを集光して前記ワークに照射するfθレンズと、を有し、
前記一方の位置決め光学系の前記fθレンズから照射されるレーザの第1の加工領域と前記他方の位置決め光学系の前記fθレンズから照射されるレーザの第2の加工領域とが前記fθレンズの主軸方向に重ならないように、前記各fθレンズ同士が前記主軸方向と直交する方向にずらして配置され、
前記ワークの表面と裏面に対向させる一対の遮蔽板を備え、
前記一対の遮蔽板のうち一方の遮蔽板には、前記第1の加工領域よりも大きい第1の貫通孔が形成され、
前記一対の遮蔽板のうち他方の遮蔽板には、前記第2の加工領域よりも大きい第2の貫通孔が形成され、
前記一方の遮蔽板は、前記第1の貫通孔が前記第1の加工領域を包含するように前記一対の加工ヘッドのうち一方の加工ヘッドに固定され、かつ前記他方の位置決め光学系より照射されて前記ワークを貫通したレーザを遮蔽するように前記第2の加工領域を覆う長さに設定され、
前記他方の遮蔽板は、前記第2の貫通孔が前記第2の加工領域を包含するように前記一対の加工ヘッドのうち他方の加工ヘッドに固定され、かつ前記一方の位置決め光学系より照射されて前記ワークを貫通したレーザを遮蔽するように前記第1の加工領域を覆う長さに設定されている、
ことを特徴とするレーザ加工装置。
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