JP4716031B2 - ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 - Google Patents

ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 Download PDF

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Description

本発明はハンダ付け用フラックス組成物であって特に耐熱に優れ、ハンダ付け後のフラックス残渣が水および温水で容易に洗浄除去できる水溶性フラックス組成物に関する。
フラックスは、ハンダ付け、銀ロウ付け、電気溶接などの分野において、金属基材表面の酸化物除去、加熱中の再酸化防止、或いはハンダの表面張力を低下させてぬれ性を向上させてハンダ付けを良好にする目的で用いられる。
フラックスは樹脂、活性剤、及びその他添加剤を含有する組成物である。
従来よりハンダ付け後のフラックス残渣を洗浄しない分野ではロジンを主成分とするフラックスが電気・電子分野で使用されている。しかしながら精密電子部品、自動車の電装機器のような重要保安部品のハンダ付けに用いた場合、フラックス残渣は洗浄除去されなければならない。そのためロジン系フラックスを用いる場合、ハンダ付け後の洗浄にはロジンをよく溶解させるフッ素系有機溶剤や塩素系有機溶剤が使われていた。しかしこれら有機溶剤は安全衛生面や地球環境面から有害な影響を与えるため厳しく規制されるようになり、出来るだけ使用しない事が望まれている。そのためハンダ付け後のフラックスの洗浄除去には水や温水に溶解するフラックス組成物が注目を浴びている。
一方でハンダ自体に使われる金属に対しても規制の対象になりつつある。従来のハンダ材料に使われる金属はスズ−鉛系が主流であったが環境負荷軽減のため鉛フリーへの方向である。また、欧州では「鉛を含む有害物質規制(RoHS指令)」が2006年7月から実施される予定であり、世界的に見ても鉛を使わない方向で進んでいる。鉛フリ−ハンダとしてはスズ−銀−銅系、スズ−銀系などが知られているが従来のスズ−鉛系に比べ、融点が20〜30℃高くなる。そのためハンダ付けに使われるフラックス組成物にも耐熱性が要求され、前述した水溶性の性能も併せ持ったフラックス組成物が望まれている。
ハンダ付け用フラックス組成物として、ポリオールとポリカルボン酸とのエステル化反応により合成されるポリエステルポリカルボン酸を挙げており、ハンダ付け不良を減少させるフラックスを開示している。ポリオールとしてはエチレングリコール、各種エポキシ樹脂があげられ、ポリカルボン酸としては(無水)コハク酸、(無水)フタル酸等が例示されている。(特許文献1)。
ビニル基含有化合物、カルボキシル基含有化合物、およびエポキシ基含有化合物のうちの少なくとも1種と、活性水素を有するアミン化合物の反応により得られる変性アミン化合物をフラックスベース樹脂として用いるハンダ用フラックス組成物が開示されている。カルボキシル基含有化合物は酢酸、マレイン酸、クエン酸等が例示され、活性水素を有するアミン化合物としてはnプロピルアミン、エチレンジアミン等が例示されている。この変性アミン化合物は、活性水素含有アミン化合物とカルボキシル基含有化合物との縮合反応により得られるものである。これらの変性アミン化合物を含有するフラックス組成物は、安息香酸、コハク酸、マレイン酸等の有機酸類を含有できるものである。(特許文献2)
炭素数が8以下のモノカルボン酸、ポリカルボン酸及びヒドロキシカルボン酸からなる群から選ばれた1種又は2種以上のカルボキシル基含有化合物とトリス−(2,3−エポキシプロピル)−イソシアヌレートとの反応生成物である樹脂状物質および活性剤を含有する水溶性ハンダ用フラックス組成物が開示されている。カルボン酸としては、酢酸、シュウ酸、コハク酸、クエン酸等が例示され、また、活性剤として乳酸、オレイン酸、塩酸アニリン、エチレンジアミン等が例示されている(特許文献3)。
特開平4−200992号公報(特許請求の範囲) 特開平5−008085号公報(特許請求の範囲) 特開平3−018498号公報(特許請求の範囲)
ハンダの鉛フリー化に伴い、ハンダ溶融温度が上昇し、ハンダ付け時使用されるフラックスにも、より高い耐熱性が要求されるようになった。従来、特にハンダ付け後にフラックス残渣を洗浄除去しなければならない分野の水溶性フラックスでは耐熱性が不足しているためハンダ付け後に着色したり、不溶化により、水或いは温水洗浄性が低下する問題があった。本発明はこれらの問題を解決する耐熱性を有し且つ水溶性であるフラックス組成物を提供するものである。
本願発明は第1観点として、式(1):
Figure 0004716031
(ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示し、且つA1、A2及びA3はそれぞれ水酸基又は式(2):
Figure 0004716031
で示される有機基を示し、R7は炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、そしてA1、A2、及びA3のうち少なくとも一つは式(2)の有機基である。)で示される化合物を含有するハンダ用フラックス組成物、
第2観点として、式(1)が式(3):
Figure 0004716031
(ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示す。)で示される3価のアルコールとジカルボン酸又は酸無水物とを、(ジカルボン酸又は酸無水物)/(水酸基)のモル比で0.33〜1.0の割合で反応させて得られたものである第1観点に記載のハンダ用フラックス組成物、
第3観点として、式(4):
Figure 0004716031
(ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示し、R8、R9、及びR10はそれぞれ水素原子、又は炭化水素基、芳香環基、複素環基、若しくはそれらの誘導体であり、そしてA4、A5及びA6はそれぞれ水酸基又は式(5):
Figure 0004716031
で示される有機基を示し、R11は炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、そしてA4、A5、及びA6のうち少なくとも一つは式(5)の有機基であり、aは式(4)中に存在する式(5)の数である。)で示される化合物を含有するハンダ用フラックス組成物、
第4観点として、式(4)が、式(1)の化合物とアミンを、(アミン)/(カルボン酸基)のモル比で0.01〜1.00の割合で反応させて得られるものである第3観点に記載のハンダ用フラックス組成物、
第5観点として、式(4)が、式(1)の化合物とアミンを、(アミン)/(カルボン酸基)のモル比で0.2〜0.5の割合で反応させて得られるものである第3観点に記載のハンダ用フラックス組成物、
第6観点として、R7、及びR11が、炭素数2〜6の直鎖又は分岐を有する炭化水素基である第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のハンダ用フラックス組成物、
第7観点として、R1からR6が水素原子であり、且つR7及びR11が炭素数2の炭化水素基である第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載のハンダ用フラックス組成物である。
本発明化合物はハンダ用フラックス組成物として鉛フリ−ハンダに伴う高温ハンダ付け時にも耐熱性を損なうことなく、水溶性であるため特に鉛フリーハンダ用耐熱水溶性ハンダフラックス組成物として非常に有用である。
本願発明は式(1)で示される化合物を含有するハンダ用フラックス組成物である。
式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示す。炭化水素は脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素があげられる。脂肪族炭化水素としては、直鎖及び分岐を有する炭素数1〜炭素数8の炭化水素があげられ、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、オクチル基等があげられる。また、芳香族炭化水素としては、置換及び未置換の炭素数6〜炭素数15の芳香族炭化水素であり、例えばフェニル基、ベンジル基、トリル基、ナフチル基等があげられる。
1、A2及びA3はそれぞれ水酸基又は式(2)で示される有機基であるが、A1、A2及びA3のうち少なくとも一つは式(2)で示される有機基である。
式(1)の化合物ではA1、A2及びA3の部分が式(2)の有機基を有することができ、式(2)の有機基が式(1)の分子中に1個、2個、又は3個有する化合物として使用することができる。式(1)の分子中に1個、2個、又は3個の式(2)の有機基を有する化合物はそれぞれ単独で用いる事も、これらの混合物として用いることも可能である。
式(2)の有機基でR7は炭素数1〜炭素数12の2価の脂肪族炭化水素基及び2価の芳香族炭化水素基を例示することができる。2価の脂肪族炭化水素基として例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等があげられ、2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、メチルフェニレン基、ナフチレン基等があげられる。
式(1)の化合物は、式(3)で示される3価のアルコールと、ジカルボン酸又は酸無水物とを反応させ製造することができる。
式(3)の化合物において、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子であり、炭化水素基は上記式(1)に例示されたものと同じである。
式(3)の化合物はトリス−(2−ヒドロキシアルキル)−イソシアヌレートを例にあげて説明すれば、シアヌール酸へのアルキレンオキシドの付加反応によって得られる。例えば、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌレートを製造する場合は、オートクレーブ中にシアヌール酸、エチレンオキシド、2−メトキシエタノール、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイドを添加後に窒素置換を行い、攪拌しながら直ちに127℃に加熱したオイルバスに浸してオートクレーブ内温が120℃に達してから14時間反応を自主蒸気圧下で行う方法で得られる。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュウームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には130℃/666.61Pa以下で30分間溶媒を留去して粉末状のトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートを得ることができる。
式(1)の化合物を製造する際に使用するジカルボン酸及び酸無水物としては、コハク酸、無水コハク酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、トリメリット酸、無水トリメリット酸、メチルナジック酸、無水メチルナジック酸、ドデシル無水コハク酸、イタコン酸、無水イタコン酸等があげられ、これらを単独で又は2種以上の混合物として使用することができる。
式(3)で示される3価のアルコールと、ジカルボン酸又は酸無水物とを反応させる式(1)の化合物であるポリエステルポリカルボン酸の製造方法では、溶媒としては反応に対し不活性であればよく、代表的な溶媒を例示するとアセトン、メチルエチルケトン等ケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、クロロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、又はこれらの混合物を用い、これら溶媒に式(3)の3価のアルコールと、ジカルボン酸又は酸無水物とを溶解させ、必要に応じて触媒としてトリエチルアミン、トリプロピルアミン等の3級アミン類や、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイド等に代表されるハロゲン化トリフェニルモノアルキルホスフォニウム等の第4級ホスフォニウム塩、テトラエチルアンモニウムブロマイド等に代表されるハロゲン化テトラアルキルアンモニウム等の第4級アンモニウム塩等を用い、溶媒の還流温度で、0.1M水酸化ナトリウム水溶液で滴定されるカルボン酸含量が理論値になるまで行われる。
式(1)の化合物であるポリエステルポリカルボン酸を合成するにあたり、原料である式(3)に示される3価のアルコールと、ジカルボン酸又は酸無水物のモル比は、3価アルコールを過剰にし、合成されるポリエステルポリカルボン酸中に水酸基を残留させることにより、ハンダ用フラックス組成物とした場合に水溶性の面で有利である。しかし、この水酸基が分子中に多く存在すると耐熱性の低下や、その水酸基に起因してオリゴマーやポリマーが生成し不溶化する要因にもなる。3価アルコールとジカルボン酸又は酸無水物のモル比は、(ジカルボン酸又は酸無水物)/(水酸基)=0.1〜1.0の範囲で使用できるが、好ましくは0.33〜1.0、更に好ましくは0.33〜0.8の範囲である。この割合が小さすぎるとポリエステルポリカルボン酸が結晶性の場合、保存中に結晶析出が発生し易く、多すぎると水溶性が低下する。(ジカルボン酸又は酸無水物)/(水酸基)=0.33〜0.8の割合で反応させることにより、式(1)においてA1、A2及びA3のうち、1個の式(2)の有機基を有する化合物、2個の式(2)の有機基を有する化合物、3個の式(2)の有機基を有する化合物が、それぞれ単独で製造される場合と、それらの混合物で製造される場合があるが、単独でも混合物でも本願発明に用いられる式(1)の化合物として利用できる。
本願発明では耐熱性と水溶性を更に向上させるために式(4)の化合物をハンダ用フラックス組成物として用いることができる。
式(4)の化合物ではR1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示し、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は上記式(1)に記載の例示を用いることができる。そして、R8、R9、及びR10はそれぞれ水素原子、又は炭化水素基、芳香環基、複素環基、若しくはそれらの誘導体であり、
炭素数1から炭素数18の炭化水素基、炭素数1から炭素数18の芳香環基、及び炭素数1から炭素数18の複素環基が挙げられ、このR8、R9、及びR10は、式(1)の化合物とアミンを反応させて式(4)の化合物を合成する際の、アミンの水素原子又は上記有機基に対応するものである。
8、R9、及びR10において、炭化水素基、芳香環基、及び複素環基は置換体及び未置換体を含む。また誘導体とはこれらの基を構造として取り込んだ有機基を示し、炭化水素基(例えばエチル基)に対応するエトキシ基やエチロール基、芳香環基(例えばフェニル基)に対応するベンジル基や臭素化ベンジル基、窒素をヘテロ原子とする複素環基(例えばトリアジン環)に対応するメラミンやベンゾグアナミンに由来する有機基等を示す。
また、A4、A5及びA6はそれぞれ水酸基又は式(5)で示される有機基であり、そしてA4、A5、及びA6のうち少なくとも一つは式(5)の有機基である。aは式(4)中に存在する式(5)の数と同一である。
式(5)においてR11は上記のR7と同一の有機基である。
即ち、炭素数1〜炭素数12の2価の脂肪族炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基を例示することができる。2価の脂肪族炭化水素基として例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等があげられ、2価の脂肪族炭化水素基としては、フェニレン基、メチルフェニレン基、ナフチレン基等があげられる。
式(4)の化合物はアンモニウム塩である。式(4)の化合物は、式(1)の化合物とアミンを反応して得られるアンモニウム塩である。
上記で用いるアミンは、第1級アミン、第2級アミン、及び第3級アミンを用いることができ、例えば2−メチルベンジルアミン、3−メチルベンジルアミン、4−メチルベンジルアミン、n−ブチルアミン、n−デシルアミン、2,2−ジフェニルエチルアミン、メトキシエチルアミン、アニリン、メラミン、アセトグアナミン(2,4−ジアミノ−6−メチル−1,3,5−トリアジン)、ベンゾグアナミン(2,4−ジアミノ−6−フェニル−1,3,5−トリアジン)等の第1級アミン、N−ブチルベンジルアミン、ジシクロへキシルアミン、ジ−2−エチルへキシルアミン、ジ−n−へキシルアミン、ジペンチルアミン、ジベンジルアミン、ビス(2−メトキシエチル)アミン、N−メチルアニリン、モルホリン、ピペリジン、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール等の第2級アミン、トリエタノールアミン、N−メチルジブチルアミン、N−メチルジフェニルアミン、トリイソプロパノールアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリベンジルアミン、トリエチレンテトラミン、トリイソペンチルアミン、トリ−n−ペンチルアミン、N,N−ジメチル−n−ドデシルアミン、N,N−ジメチルオクチルアミン、トリ−n−オクチルアミン、ピリジン、ピリミジン、N−メチルイミダゾール等の第3級アミンが例示される。
式(4)の化合物を製造する際、式(1)の化合物とアミンは、(アミン)/(カルボン酸基)のモル比で0.01〜1.00、好ましくは0.2〜0.5の範囲である。反応させるアミンの量は、少なすぎるとアミン塩としての効果が小さく、高すぎるとアミン成分が相分離する場合があるので好ましくない。
以下にR7、及びR11が、炭素数2〜6の直鎖又は分岐を有する炭化水素基である場合、特に、R1〜R6が水素原子であり、且つR7及びR11が炭素数2の炭化水素基である場合を例に挙げて合成方法を説明する。
温度計、冷却器のついた丸底4つ口反応フラスコ中でトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートと無水コハク酸をアセトニトリルに溶解し、触媒としてトリエチルアミンを添加し、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。リフラックス温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた液状生成物は酢酸エチルで再結晶させることで式(1)に相当する結晶が得られた。
ポリエステルポリカルボン酸のアミン塩に相当する式(4)の化合物は、メタノールなどのアルコール中で式(1)の化合物とアミンを反応することで容易に生成できる。例えば上記例のトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(酸含量5.33eq/Kg)のトリエタノールアミンの塩の製造は、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とメタノールを温度計、冷却器のついた4つ口丸底フラスコに仕込み、70℃オイルバスに浸漬し攪拌して溶解させる。次にトリエタノールアミンを滴下し、滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し液状の生成物を得る。
本願発明のフラックス組成物には活性剤及び粘度調整として溶媒を添加することが出来る。
活性剤としては例えばセバシン酸、クエン酸、酒石酸、アジピン酸、ソルビン酸などのカルボン酸やトリエタノールアミンなどのアミン類等が使用できる。
本願発明のフラックス組成物は単独でも使用できるが適宜、溶媒で希釈して粘度調整して使用できる。希釈溶媒としては水であったり、水溶性の溶媒、例えば1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコール、エチレングリコールなどが使用できる。添加量は所望の粘度まで希釈すればよいが通常、20〜50重量%である。
(合成例1)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの合成(反応物A)。
オートクレーブ中にシアヌール酸38.7g(0.3モル)、エチレンオキシド39.6g(0.9モル)、2−メトキシエタノール150g、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイド0.53gを添加後に窒素置換を行い、攪拌しながら直ちに127℃に加熱したオイルバスに浸してオートクレーブ内温が120℃に達してから14時間反応を自主蒸気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュウームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には130℃/666.61Pa以下で30分間溶媒を留去して粉末状のトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート77.5gを得た。
(合成例2)
トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートの合成(反応物B)。
オートクレーブ中にシアヌール酸129g(1.0モル)、プロピレンオキシド177g(3.05モル)、2−メトキシエタノール129g、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイド1.29g、35%塩酸1.29gを添加後に窒素置換を行い、攪拌しながら直ちに127℃に加熱したオイルバスに浸してオートクレーブ内温が120℃に達してから20時間反応を自主蒸気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュウームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には110℃/666.61Pa以下で60分間溶媒を留去して粉末状のトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレート302gを得た。
(合成例3)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)の合成。
合成例1で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート100g(0.383モル)と無水コハク酸113.7g(1.137モル)、トリエチルアミン2g、アセトニトリル400gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。(無水コハク酸)/(水酸基)のモル比は0.989であった。還流温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた液状生成物は酢酸エチルで再結晶させることで融点108℃の結晶203gが得られた。得られた結晶の酸含量は5.33eq/kgであり、理論上の酸含量5.35eq/kgとほぼ一致し、HPLC分析によっても単一な3付加体のピークとして得られた。
(合成例4)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物D)の合成。
合成例1で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート100g(0.383モル)と無水コハク酸76.5g(0.765モル)、トリエチルアミン2g、アセトニトリル400gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。(無水コハク酸)/(水酸基)のモル比は0.666であった。還流温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた生成物175gの酸含量は4.24eq/kgであり、理論上の酸含量4.32eq/kgとほぼ一致し、HPLC分析によって3付加体:2付加体:1付加体:0付加体の比率が34:45:17:4として得られた。
(合成例5)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水マレイン酸付加物(反応物E)の合成。
合成例1で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート100g(0.383モル)と無水マレイン酸112.7g(1.150モル)、トリエチルアミン2g、アセトニトリル400gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。(無水マレイン酸)/(水酸基)のモル比は1.00であった。還流温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた液状生成物は酢酸エチルで再結晶させワックス状生成物が得られた。得られた生成物111gの酸含量は5.35eq/kgであり、理論上の酸含量5.41eq/kgとほぼ一致し、HPLC分析によっても単一な3付加体のピークとして得られた。
(合成例6)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とトリエタノールアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物F)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にトリエタノールアミン4g(0.027eq)を滴下した。(トリエタノールアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。
滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物19gを得た。
(合成例7)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とトリエタノールアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物G)の合成。
合成例4で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物D)15g(カルボン酸当量は0.064eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にトリエタノールアミン3.2g(0.021eq)を滴下した。(トリエタノールアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.328であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物18.2gを得た。
(合成例8)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物H)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にN,N−ジメチル−n−ドデシルアミン5.77g(0.027eq)を滴下した。(N,N−ジメチル−n−ドデシルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物20.7gを得た。
(合成例9)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とn−ブチルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物I)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にn−ブチルアミン2g(0.027eq)を滴下した。(n−ブチルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。
滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物17gを得た。
(合成例10)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とジシクロヘキシルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物J)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にジシクロヘキシルアミン4.9g(0.027eq)を滴下した。(ジシクロヘキシルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。
滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物17gを得た。
(合成例11)
トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物K)の合成。
合成例2で合成されたトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレート100g(0.383モル)と無水コハク酸113.7g(1.137モル)、トリエチルアミン2g、アセトニトリル400gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。(無水コハク酸)/(水酸基)のモル比は0.989であった。還流温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた液状生成物は酢酸エチルで再結晶させることで融点108℃の結晶203gが得られた。得られた結晶の酸含量は5.33eq/kgであり、理論上の酸含量5.35eq/kgとほぼ一致し、HPLC分析によっても単一な3付加体のピークとして得られた。
(合成例12)
トリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とトリエタノールアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物L)の合成。
合成例11で合成されたトリス(2−ヒドロキシプロピル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物K)15g(カルボン酸当量は0.084eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にトリエタノールアミン4.2g(0.028eq)を滴下した。(トリエタノールアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.333であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物19.1gを得た。
(合成例13)
ペンタエリスリトールの無水コハク酸付加物(反応物M)の合成。
ペンタエリスリトール(試薬)60g(水酸基当量は1.76eq)と無水コハク酸176.0g(カルボン酸当量は1.76eq)、トリエチルアミン1.2g、アセトニトリル500gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、85℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。(無水コハク酸)/(水酸基)のモル比は1.00であった。還流温度に達してから2時間反応させ、その後、バキュウームエバポレーターにてアセトニトリルを留去させた。得られた液状生成物は酢酸エチルで再結晶させ、融点138℃の結晶235gが得られた。得られた結晶の酸含量は7.37eq/kgであり、理論上の酸含量7.45eq/kgとほぼ一致し、HPLC分析によっても単一なピークとして得られた。
(合成例14)
ペンタエリスリトールの無水コハク酸付加物(反応物M)とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物N)の合成。
合成例13で合成されたペンタエリスリトールの無水コハク酸付加物(反応物M)15g(カルボン酸当量は0.11eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にN,N−ジメチル−n−ドデシルアミン5.77g(0.028eq)を滴下した。
(N,N−ジメチル−n−ドデシルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.254であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物20.5gを得た。
(合成例15)
トリグリシジルイソシヌレートのコハク酸付加物(反応物O)の合成。
トリグリシジルイソシアヌレート100g(グリシジル基の当量は1.00eq)とコハク酸118g(カルボン酸当量は2.00eq)、トリフェニルホスフィン0.5g、トルエン100gを温度計、冷却器のついた1L丸底4つ口反応フラスコに仕込み、120℃オイルバスに浸漬させ攪拌した。溶解後、還流温度に達してから2時間反応させたが生成物はゲル状であった。
(合成例16)
マレイン酸とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物P)の合成。
マレイン酸(試薬)15g(カルボン酸当量は0.258eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にN,N−ジメチル−n−ドデシルアミン27.6g(0.129eq)を滴下した。(N,N−ジメチル−n−ドデシルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.500であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、融点70℃を有する結晶42.5gを得た。
(合成例17)
アジピン酸とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩(反応物Q)の合成。
アジピン酸(試薬)15g(カルボン酸当量は0.206eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にN,N−ジメチル−n−ドデシルアミン21.9g(0.103eq)を滴下した。(N,N−ジメチル−n−ドデシルアミン)/(カルボン酸基)のモル比は0.500であった。滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状生成物36.7gを得た。
(合成例18)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物とピリジンとの反応によるピリジニウム塩(反応物R)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次にピリジン2.1g(0.027eq)を滴下した。(ピリジン)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。
滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物17gを得た。
(合成例19)
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物と2−メチルイミダゾールとの反応によるイミダゾリニウム塩(反応物S)の合成。
合成例3で合成されたトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートの無水コハク酸付加物(反応物C)15g(カルボン酸当量は0.08eq)とメタノール70ccを温度計、冷却器のついた200cc4つ口丸底フラスコに仕込み70℃オイルバスに浸漬攪拌し、溶解させた。次に2−メチルイミダゾール2.2g(0.027eq)を滴下した。(2−メチルイミダゾール)/(カルボン酸基)のモル比は0.3375であった。
滴下終了後、直ちにバキュウームエバポレーターにてメタノールを留去し、液状の生成物17.2gを得た。
生成物(主剤)C、D、E、F、G、H、I、J、K、L、R及びSを溶媒(1,2−ブタンジオール)と混合し本願発明の実施例のフラックス組成物として試験を行った。
また、生成物(主剤)M、N、O、P、Q、を溶媒と混合しフラックス組成物として本願発明の比較例として試験を行った。
実施例1
70重量%の反応生成物Cと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で8000mPa・sであった。
実施例2
70重量%の反応生成物Dと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で6500mPa・sであった。
実施例3
70重量%の反応生成物Eと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で7500mPa・sであった。
実施例4
80重量%の反応生成物Fと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で3000mPa・sであった。
実施例5
80重量%の反応生成物Gと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で2500mPa・sであった。
実施例6
80重量%の反応生成物Hと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で2500mPa・sであった。
実施例7
80重量%の反応生成物Iと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で30000mPa・sであった。
実施例8
80重量%の反応生成物Jと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で30000mPa・sであった。
実施例9
70重量%の反応生成物Kと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で3000mPa・sであった。
実施例10
80重量%の反応生成物Lと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で9000mPa・sであった。
実施例11
70重量%の反応生成物Rと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は30℃で2100mPa・sであった。
実施例12
70重量%の反応生成物Sと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は30℃で2700mPa・sであった。
比較例1
70重量%の反応生成物Mと30重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で8500mPa・sであった。
比較例2
80重量%の反応生成物Nと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で4000mPa・sであった。
比較例3
80重量%の反応生成物Oと20重量%の1,2−ブタンジオールとを混合しフラックス組成物を得ようとしたが、生成物Oがゲル状であり溶解しなかった。
比較例4
80重量%の反応生成物Pと20重量%の1,2−ブタンジオールとを70℃で溶解させてフラックス組成物を得たが室温放置1時間で結晶析出した。E型粘度計での粘度は25℃で70mPa・sであり、フラックスベース樹脂としては低粘度であった。
比較例5
80重量%の反応生成物Qと20重量%の1,2−ブタンジオールとを溶解させてフラックス組成物を得た。E型粘度計での粘度は25℃で200mPa・sであり、フラックスベース樹脂としては低粘度であった。
(試験方法)
フラックス組成物を密封容器に入れ室温で1ヶ月保存し、1ヶ月後の粘度をE型粘度計で測定した(保存安定性試験)。
更に、銅箔上にハンダ(HAKKO製HEXSOL No.67)0.3g、フラックス組成物0.1gを置き、260℃に加熱してある熱板上に置く。ハンダが溶融してから1分後に取り出し、加熱前との色の違いを目視する(黄変性試験)。
次に50℃温水中に銅箔ごと浸漬静置させ、3分後取り出し、銅箔上にフラックス残渣がないか目視した(水洗浄性試験)。
(評価)
1)保存安定性試験
フラックス組成物を密封容器に入れ室温で1ヶ月保存し、1ヶ月後の粘度をE型粘度計で測定した。
◎:保存前と変化なし。○:僅かに増粘した。△:増粘した。×:主剤が結晶析出した。
2)黄変性試験
銅箔上にハンダ(HAKKO製HEXSOL No.67)0.3g、フラックス組成物0.1gを置き、260℃に加熱してある熱板上に置く。ハンダが溶融してから1分後に取り出し、加熱前との色の違いを目視した。
◎:全く変化なし(無色透明)。○:薄黄色透明。△:黄変。×:茶色。
3)水洗浄性試験
260℃で1分間加熱後、50℃温水中に銅箔ごと浸漬静置させ、3分後取り出し、銅箔上にフラックス残渣がないか目視した。
◎:残渣が全くない。○:僅かにべとつきが残る。△:べとつきが残る。×:水不溶物が残る。
Figure 0004716031
実施例1〜実施例12のフラックス組成物は保存安定性に優れ、それらのフラックス組成物を用いた黄変性試験結果も水洗浄性試験結果も良好であった。
比較例1においてペンタエリスリトールの無水コハク酸付加物を含有するフラックス組成物は保存安定性が十分でなく、そのフラックス組成物による黄変性試験結果も水洗浄性試験結果も十分なものではなかった。
比較例2において、ペンタエリスリトールの無水コハク酸付加物とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩は保存安定性は良好であるが、そのフラックス組成物による黄変性試験結果も水洗浄性試験結果も十分なものではなかった。
比較例3において、トリグリシジルイソシアヌレートにコハク酸を反応させるものは、生成物がゲル状となったので、フラックス組成物を得ることができなかった。
比較例4において、マレイン酸とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩によるフラックス組成物は、室温で結晶析出した。また、この組成物を260℃に加熱すると分解、気化し、炭化物が残り、50℃温水に不溶だった。
比較例5において、アジピン酸とN,N−ジメチル−n−ドデシルアミンとの反応によるアンモニウム塩によるフラックス組成物は、保存安定性は十分であるが、この組成物を260℃に加熱すると分解、気化し、炭化物が残り、50℃温水に不溶だった。
本発明のポリエステルポリカルボン酸化合物を用いるフラックス組成物は260℃の高温でも変化が無く耐熱性に優れ、しかも温水に容易に溶解する。また、この化合物をアミンと反応させ、アンモニウム塩とすることでさらに効果が高くなることがわかった。
本発明に用いる化合物はハンダ用フラックス組成物として鉛フリ−ハンダに伴う高温ハンダ付け時にも耐熱性を損なうことなく、水溶性であるため特に鉛フリーハンダ用耐熱水溶性ハンダフラックス組成物として利用できる。

Claims (7)

  1. 式(1):
    Figure 0004716031
    (ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示し、且つA1、A2及びA3はそれぞれ水酸基又は式(2):
    Figure 0004716031
    で示される有機基を示し、R7は炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、そしてA1、A2、及びA3のうち少なくとも一つは式(2)の有機基である。)で示される化合物を含有するハンダ用フラックス組成物。
  2. 式(1)が式(3):
    Figure 0004716031
    (ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示す。)で示される3価のアルコールとジカルボン酸又は酸無水物とを、(ジカルボン酸又は酸無水物)/(水酸基)のモル比で0.33〜1.0の割合で反応させて得られたものである請求項1に記載のハンダ用フラックス組成物。
  3. 式(4):
    Figure 0004716031
    (ただし、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ炭化水素基又は水素原子を示し、R8、R9、及びR10はそれぞれ水素原子、又は炭化水素基、芳香環基、複素環基、若しくはそれらの誘導体であり、そしてA4、A5及びA6はそれぞれ水酸基又は式(5):
    Figure 0004716031
    で示される有機基を示し、R11は炭素数1〜12の2価の炭化水素基であり、そしてA4、A5、及びA6のうち少なくとも一つは式(5)の有機基であり、aは式(4)中に存在する式(5)の数である。)で示される化合物を含有するハンダ用フラックス組成物。
  4. 式(4)が、式(1)の化合物とアミンを、(アミン)/(カルボン酸基)のモル比で0.01〜1.00の割合で反応させて得られるものである請求項3に記載のハンダ用フラックス組成物。
  5. 式(4)が、式(1)の化合物とアミンを、(アミン)/(カルボン酸基)のモル比で0.2〜0.5の割合で反応させて得られるものである請求項3に記載のハンダ用フラックス組成物。
  6. 7、及びR11が、炭素数2〜6の直鎖又は分岐を有する炭化水素基である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のハンダ用フラックス組成物。
  7. 1からR6が水素原子であり、且つR7及びR11が炭素数2の炭化水素基である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のハンダ用フラックス組成物。
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