JPH10158252A - トリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法 - Google Patents
トリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法Info
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- JPH10158252A JPH10158252A JP8315895A JP31589596A JPH10158252A JP H10158252 A JPH10158252 A JP H10158252A JP 8315895 A JP8315895 A JP 8315895A JP 31589596 A JP31589596 A JP 31589596A JP H10158252 A JPH10158252 A JP H10158252A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電線ワニス、塩化ビニル樹脂の安定剤、
塗料用原料、難燃剤などの分野に有用で、高い耐熱性と
難燃性を持つトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシ
アヌレートを、高純度・高収率で製造する方法を提供す
るものである。 【解決手段】 本願発明は、シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子又はアルキル基を示
す。）で表されるアルキレンオキシドとを、トリアリー
ルホスフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホス
フォニウム塩を触媒として溶媒中で反応させるトリス
（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方
法である。
塗料用原料、難燃剤などの分野に有用で、高い耐熱性と
難燃性を持つトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシ
アヌレートを、高純度・高収率で製造する方法を提供す
るものである。 【解決手段】 本願発明は、シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子又はアルキル基を示
す。）で表されるアルキレンオキシドとを、トリアリー
ルホスフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホス
フォニウム塩を触媒として溶媒中で反応させるトリス
（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方
法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、電線ワニス、塩
化ビニル樹脂の安定剤、塗料用原料、難燃剤などの分野
に有用で、高い耐熱性と難燃性を持つトリス（２−ヒド
ロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法に関す
る。
化ビニル樹脂の安定剤、塗料用原料、難燃剤などの分野
に有用で、高い耐熱性と難燃性を持つトリス（２−ヒド
ロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、シアヌル酸とアルキレンオキシド
からトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
トを製造する方法としては、特開昭５６−８１５７１号
公報では、グリコールや芳香族置換低級アルコール系、
メチルエチルケトンやｎ−プロピルケトン等のケトン
類、テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類の
如き反応媒体にシアヌル酸と厳密に秤量されたエチレン
オキシドを、水酸化アルカリ、アミン又は４級アンモニ
ウム塩を触媒として付加反応させる製造方法が開示され
ている。
からトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
トを製造する方法としては、特開昭５６−８１５７１号
公報では、グリコールや芳香族置換低級アルコール系、
メチルエチルケトンやｎ−プロピルケトン等のケトン
類、テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類の
如き反応媒体にシアヌル酸と厳密に秤量されたエチレン
オキシドを、水酸化アルカリ、アミン又は４級アンモニ
ウム塩を触媒として付加反応させる製造方法が開示され
ている。
【０００３】また、ジャーナル・オブ・ザ・オーガニッ
クケミストリー（２８巻、８５〜８９頁、１９６３年）
には、ジアルキルホルムアミド又はジアルキルアセトア
ミド中で加圧下又は常圧下にシアヌル酸とアルキレンオ
キシドを反応させる方法が開示されている。
クケミストリー（２８巻、８５〜８９頁、１９６３年）
には、ジアルキルホルムアミド又はジアルキルアセトア
ミド中で加圧下又は常圧下にシアヌル酸とアルキレンオ
キシドを反応させる方法が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記特開昭５６−８１
５７１号公報では、反応中に溶媒の一部が塩基性物質に
変化し易く生成物の一部が分解して不純物を副生し、精
製に困難を生ずるという問題がある。また、シアヌル酸
に対するアルキレンオキシド（特に、エチレンオキシ
ド）を当量以上に添加すると急激に収率が低下するとい
う問題がある。
５７１号公報では、反応中に溶媒の一部が塩基性物質に
変化し易く生成物の一部が分解して不純物を副生し、精
製に困難を生ずるという問題がある。また、シアヌル酸
に対するアルキレンオキシド（特に、エチレンオキシ
ド）を当量以上に添加すると急激に収率が低下するとい
う問題がある。
【０００５】また、上記ジャーナル・オブ・ザ・オーガ
ニックケミストリーに記載の方法では、溶媒自身が低活
性の触媒作用を呈する為に通常は他の触媒（例えば塩基
性触媒）の存在は必要としないが、Ｎ，Ｎ’−ジアルキ
ルホルムアミド類を溶媒にする場合、又はジメチルホル
ムアミドやジメチルアセトアミドにベンゼンやトルエン
等を混合して使用する場合には、シアヌル酸とアルキレ
ンオキシドとの反応速度が著しく低下する。
ニックケミストリーに記載の方法では、溶媒自身が低活
性の触媒作用を呈する為に通常は他の触媒（例えば塩基
性触媒）の存在は必要としないが、Ｎ，Ｎ’−ジアルキ
ルホルムアミド類を溶媒にする場合、又はジメチルホル
ムアミドやジメチルアセトアミドにベンゼンやトルエン
等を混合して使用する場合には、シアヌル酸とアルキレ
ンオキシドとの反応速度が著しく低下する。
【０００６】この様に従来の塩基性触媒ではシアヌル酸
に対するアルキレンオキシドの添加量が当量比を越える
と分解反応が急激に進む事と、溶媒乾固（溶媒の除去）
の加熱状態により若干の分解が起こり、溶媒乾固して得
られた製品の純度は不充分である。そのために、それら
の物は再結晶法等により精製して製品化する。しかし、
再結晶は結晶性の低い物質には適用し難い事や、再結晶
法自体が収率の低下、溶媒の回収、溶解・冷却・濾過・
乾燥という非常に長い工程となる欠点が有る。
に対するアルキレンオキシドの添加量が当量比を越える
と分解反応が急激に進む事と、溶媒乾固（溶媒の除去）
の加熱状態により若干の分解が起こり、溶媒乾固して得
られた製品の純度は不充分である。そのために、それら
の物は再結晶法等により精製して製品化する。しかし、
再結晶は結晶性の低い物質には適用し難い事や、再結晶
法自体が収率の低下、溶媒の回収、溶解・冷却・濾過・
乾燥という非常に長い工程となる欠点が有る。
【０００７】本願発明はシアヌル酸とアルキレンオキシ
ドとを反応してトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレートを製造する方法に関して、トリアリールホ
スフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホスフォ
ニウム塩を触媒として溶媒中で反応させるものである。
そして、製造過程に起こるトリス（２−ヒドロキシアル
キル）イソシアヌレートの分解を抑制し、高純度、高収
率で製造する方法を提供するものである。この触媒を使
用する本願発明の方法では、驚くべき事にシアヌル酸に
対するアルキレンオキシドの添加量を当量以上に加えて
も収率の低下が見られないばかりか、副反応が少ないた
め反応液中の溶媒を乾固するだけで非常に高純度の目的
物が得られる。特に、トリス（２−ヒドロキシエチル）
イソシアヌレートの様な結晶性の高い化合物の場合は、
再結晶による精製を行わなくても高純度の粉砕可能な白
色結晶を生じるものである。
ドとを反応してトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレートを製造する方法に関して、トリアリールホ
スフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホスフォ
ニウム塩を触媒として溶媒中で反応させるものである。
そして、製造過程に起こるトリス（２−ヒドロキシアル
キル）イソシアヌレートの分解を抑制し、高純度、高収
率で製造する方法を提供するものである。この触媒を使
用する本願発明の方法では、驚くべき事にシアヌル酸に
対するアルキレンオキシドの添加量を当量以上に加えて
も収率の低下が見られないばかりか、副反応が少ないた
め反応液中の溶媒を乾固するだけで非常に高純度の目的
物が得られる。特に、トリス（２−ヒドロキシエチル）
イソシアヌレートの様な結晶性の高い化合物の場合は、
再結晶による精製を行わなくても高純度の粉砕可能な白
色結晶を生じるものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願発明は、シアヌル酸
と式（１）：
と式（１）：
【０００９】
【化２】
【００１０】（ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子又はア
ルキル基を示す。）で表されるアルキレンオキシドと
を、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスフィン
又は第４級ホスフォニウム塩を触媒として溶媒中で反応
させるトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレ
ートの製造方法である。本願発明で得られるトリス（２
−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートは、式
（２）：
ルキル基を示す。）で表されるアルキレンオキシドと
を、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスフィン
又は第４級ホスフォニウム塩を触媒として溶媒中で反応
させるトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレ
ートの製造方法である。本願発明で得られるトリス（２
−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートは、式
（２）：
【００１１】
【化３】
【００１２】で表される化合物である。
【００１３】
【発明の実施の形態】本願発明に使用するシアヌル酸
（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール、
Ｃ3Ｈ3Ｎ3Ｏ3）は、互変異性体であるイソシアヌル酸と
平衡関係にあり、本願発明ではシアヌル酸、イソシアヌ
ル酸又は両者の混合物を使用することが出来る。
（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール、
Ｃ3Ｈ3Ｎ3Ｏ3）は、互変異性体であるイソシアヌル酸と
平衡関係にあり、本願発明ではシアヌル酸、イソシアヌ
ル酸又は両者の混合物を使用することが出来る。
【００１４】本願発明に使用する式（１）で表されるア
ルキレンオキシドは、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はアルキ
ル基である。アルキル基としては例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８のアルキ
ル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素数１〜３のアルキル基である。更に上記
Ｒ1及びＲ2は、水素原子、メチル基及びエチル基で有る
ことが好ましい。上記の式（１）で表されるアルキレン
オキシドの好ましい例示化合物としては、エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド（即ち、メチルオキシラ
ン）、α−ブチレンオキシド（即ち、１，２−エポキシ
ブタン）、β−ブチレンオキシド（即ち、２，３−ジメ
チルオキシラン）が挙げられ、これらはそれぞれ単独で
シアヌル酸との反応に使用するものである。
ルキレンオキシドは、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はアルキ
ル基である。アルキル基としては例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８のアルキ
ル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、プロ
ピル基等の炭素数１〜３のアルキル基である。更に上記
Ｒ1及びＲ2は、水素原子、メチル基及びエチル基で有る
ことが好ましい。上記の式（１）で表されるアルキレン
オキシドの好ましい例示化合物としては、エチレンオキ
シド、プロピレンオキシド（即ち、メチルオキシラ
ン）、α−ブチレンオキシド（即ち、１，２−エポキシ
ブタン）、β−ブチレンオキシド（即ち、２，３−ジメ
チルオキシラン）が挙げられ、これらはそれぞれ単独で
シアヌル酸との反応に使用するものである。
【００１５】上記アルキレンオキシドはシアヌル酸の
１．００モルに対して、２．９５〜４．００モル、好ま
しくは３．１０〜３．３０モルの比率で用いる。シアヌ
ル酸１．００モルに対して、当量比でアルキレンオキシ
ドを反応させる場合は３．００モルのアルキレンオキシ
ドを必要とする。しかし、シアヌル酸１．００モルに対
して２．９５モル以上３．００モル未満のアルキレンオ
キシドを反応させる場合はごく少量の未反応物が生成す
るが、所定の温度と圧力で反応が進行していき、反応の
終点を越えた段階でも温度と圧力が反応系に残る場合に
は、この少量の未反応物は生成物の分解反応を抑制する
効果がある。従って、生成物の純度を低下させない範囲
で、１．００モルのシアヌル酸に対して２．９５モル以
上３．００モル未満のアルキレンオキシドを反応させる
事は可能である。
１．００モルに対して、２．９５〜４．００モル、好ま
しくは３．１０〜３．３０モルの比率で用いる。シアヌ
ル酸１．００モルに対して、当量比でアルキレンオキシ
ドを反応させる場合は３．００モルのアルキレンオキシ
ドを必要とする。しかし、シアヌル酸１．００モルに対
して２．９５モル以上３．００モル未満のアルキレンオ
キシドを反応させる場合はごく少量の未反応物が生成す
るが、所定の温度と圧力で反応が進行していき、反応の
終点を越えた段階でも温度と圧力が反応系に残る場合に
は、この少量の未反応物は生成物の分解反応を抑制する
効果がある。従って、生成物の純度を低下させない範囲
で、１．００モルのシアヌル酸に対して２．９５モル以
上３．００モル未満のアルキレンオキシドを反応させる
事は可能である。
【００１６】本願発明に使用する触媒は、式（３）：Ｒ
3Ｒ4Ｒ5Ｐで表されるトリアリールホスフィン、式
（４）：Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｐで表されるトリアルキルホスフィ
ン、又は式（５）：Ｒ9Ｒ10Ｒ11Ｒ12Ｐ+Ｙ-で表される
第４級ホスフォニウム塩を用いることが出来る。式
（３）：Ｒ3Ｒ4Ｒ5Ｐで表されるトリアリールホスフィ
ンにおいて、Ｒ3、Ｒ 4及びＲ5は炭素数６〜１０のアリ
ール基であり、例えばフェニル基、トリル基が挙げられ
る。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の３個のアリール基は、同一の有
機基とする事も異なる有機基とする事も出来る。これら
トリアリールホスフィンとしては、トリフェニルホスフ
ィン、トリトリルホスフィンが挙げられる。
3Ｒ4Ｒ5Ｐで表されるトリアリールホスフィン、式
（４）：Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｐで表されるトリアルキルホスフィ
ン、又は式（５）：Ｒ9Ｒ10Ｒ11Ｒ12Ｐ+Ｙ-で表される
第４級ホスフォニウム塩を用いることが出来る。式
（３）：Ｒ3Ｒ4Ｒ5Ｐで表されるトリアリールホスフィ
ンにおいて、Ｒ3、Ｒ 4及びＲ5は炭素数６〜１０のアリ
ール基であり、例えばフェニル基、トリル基が挙げられ
る。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の３個のアリール基は、同一の有
機基とする事も異なる有機基とする事も出来る。これら
トリアリールホスフィンとしては、トリフェニルホスフ
ィン、トリトリルホスフィンが挙げられる。
【００１７】式（４）：Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｐで表されるトリア
ルキルホスフィンにおいて、Ｒ6、Ｒ 7及びＲ8は炭素数
２〜１０のアルキル基であり、例えばブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基が挙げられる。Ｒ6、Ｒ7及びＲ8の３
個のアルキル基は、同一の有機基とする事も異なる有機
基とする事もできる。これらトリアルキルホスフィンと
しては、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィ
ン、トリオクチルホスフィンが挙げられる。
ルキルホスフィンにおいて、Ｒ6、Ｒ 7及びＲ8は炭素数
２〜１０のアルキル基であり、例えばブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基が挙げられる。Ｒ6、Ｒ7及びＲ8の３
個のアルキル基は、同一の有機基とする事も異なる有機
基とする事もできる。これらトリアルキルホスフィンと
しては、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィ
ン、トリオクチルホスフィンが挙げられる。
【００１８】式（５）：Ｒ9Ｒ10Ｒ11Ｒ12Ｐ+Ｙ-で表さ
れる第４級ホスフォニウム塩において、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ
11及びＲ12は炭素数１〜１８のアルキル基、アリール基
又はアラルキル基であるが、好ましくはＲ9、Ｒ10、Ｒ
11及びＲ12の４つの有機基の内で３つの有機基がフェニ
ル基又は置換されたフェニル基であり、例えばフェニル
基やトリル基を例示することが出来る。また他の１つの
有機基は炭素数１〜１８のアルキル基又はアラルキル基
である。また、陰イオン（Ｙ-）は、塩素イオン（Ｃ
ｌ-）、臭素イオン（Ｂｒ-）、ヨウ素イオン（Ｉ-）等
のハロゲンイオンや、カルボキシラート（−ＣＯ
Ｏ-）、スルホナート（−ＳＯ3 -）、アルコラート（−
Ｏ-）等の酸基を挙げることができる。式（４）の第４
級ホスフォニウム塩は、例えばハロゲン化テトラｎ−ブ
チルホスフォニウム、ハロゲン化テトラｎ−プロピルホ
スフォニウム等のハロゲン化テトラアルキルホスフォニ
ウム、ハロゲン化トリエチルベンジルホスフォニウム等
のハロゲン化トリアルキルベンジルホスフォニウム、ハ
ロゲン化トリフェニルメチルホスフォニウム、ハロゲン
化トリフェニルエチルホスフォニウム等のハロゲン化ト
リフェニルモノアルキルホスフォニウム、ハロゲン化ト
リフェニルベンジルホスフォニウム、ハロゲン化テトラ
フェニルホスフォニウム、ハロゲン化トリトリルモノア
リールホスフォニウム、或いはハロゲン化トリトリルモ
ノアルキルホスフォニウム（ハロゲン原子は塩素原子又
は臭素原子）が挙げられる。
れる第４級ホスフォニウム塩において、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ
11及びＲ12は炭素数１〜１８のアルキル基、アリール基
又はアラルキル基であるが、好ましくはＲ9、Ｒ10、Ｒ
11及びＲ12の４つの有機基の内で３つの有機基がフェニ
ル基又は置換されたフェニル基であり、例えばフェニル
基やトリル基を例示することが出来る。また他の１つの
有機基は炭素数１〜１８のアルキル基又はアラルキル基
である。また、陰イオン（Ｙ-）は、塩素イオン（Ｃ
ｌ-）、臭素イオン（Ｂｒ-）、ヨウ素イオン（Ｉ-）等
のハロゲンイオンや、カルボキシラート（−ＣＯ
Ｏ-）、スルホナート（−ＳＯ3 -）、アルコラート（−
Ｏ-）等の酸基を挙げることができる。式（４）の第４
級ホスフォニウム塩は、例えばハロゲン化テトラｎ−ブ
チルホスフォニウム、ハロゲン化テトラｎ−プロピルホ
スフォニウム等のハロゲン化テトラアルキルホスフォニ
ウム、ハロゲン化トリエチルベンジルホスフォニウム等
のハロゲン化トリアルキルベンジルホスフォニウム、ハ
ロゲン化トリフェニルメチルホスフォニウム、ハロゲン
化トリフェニルエチルホスフォニウム等のハロゲン化ト
リフェニルモノアルキルホスフォニウム、ハロゲン化ト
リフェニルベンジルホスフォニウム、ハロゲン化テトラ
フェニルホスフォニウム、ハロゲン化トリトリルモノア
リールホスフォニウム、或いはハロゲン化トリトリルモ
ノアルキルホスフォニウム（ハロゲン原子は塩素原子又
は臭素原子）が挙げられる。
【００１９】本願発明に用いる触媒としては、式（５）
の第４級ホスフォニウム塩が好ましい。特に、好ましい
触媒としては、ハロゲン化トリフェニルメチルホスフォ
ニウム、ハロゲン化トリフェニルエチルホスフォニウム
等のハロゲン化トリフェニルモノアルキルホスフォニウ
ム、ハロゲン化トリフェニルベンジルホスフォニウム等
のハロゲン化トリフェニルモノアラルキルホスフォニウ
ム、ハロゲン化トリトリルモノメチルホスフォニウム等
のハロゲン化トリトリルモノアルキルホスフォニウム
（ハロゲン原子は塩素原子又は臭素原子）を例示する事
が出来る。
の第４級ホスフォニウム塩が好ましい。特に、好ましい
触媒としては、ハロゲン化トリフェニルメチルホスフォ
ニウム、ハロゲン化トリフェニルエチルホスフォニウム
等のハロゲン化トリフェニルモノアルキルホスフォニウ
ム、ハロゲン化トリフェニルベンジルホスフォニウム等
のハロゲン化トリフェニルモノアラルキルホスフォニウ
ム、ハロゲン化トリトリルモノメチルホスフォニウム等
のハロゲン化トリトリルモノアルキルホスフォニウム
（ハロゲン原子は塩素原子又は臭素原子）を例示する事
が出来る。
【００２０】上記のトリアリールホスフィン、トリアル
キルホスフィン又は第４級ホスフォニウム塩は、シアヌ
ル酸とアルキレンオキシドの反応における触媒として作
用する。トリアリールホスフィン、トリアルキルホスフ
ィン又は第４級ホスフォニウム塩は、シアヌル酸とアル
キレンオキシドの合計量に対して０．０３〜５重量％の
割合で存在させることが好ましい。０．０３重量％未満
では反応速度の促進が期待できず、また５重量％を越え
て添加してもそれ以上の効果は期待できない。
キルホスフィン又は第４級ホスフォニウム塩は、シアヌ
ル酸とアルキレンオキシドの反応における触媒として作
用する。トリアリールホスフィン、トリアルキルホスフ
ィン又は第４級ホスフォニウム塩は、シアヌル酸とアル
キレンオキシドの合計量に対して０．０３〜５重量％の
割合で存在させることが好ましい。０．０３重量％未満
では反応速度の促進が期待できず、また５重量％を越え
て添加してもそれ以上の効果は期待できない。
【００２１】シアヌル酸は殆どの有機溶媒に不溶乃至僅
かに溶解する為に、円滑に反応を進行させるため種々の
反応媒体が提案されている。例えばジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、脂肪族ニトリル、モルホリン、ジメチルスルホキシ
ド、水、アルコール、グリコール、グリコールエーテ
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、アルキレンハライ
ド、ジアルキルカーボネート等がある。
かに溶解する為に、円滑に反応を進行させるため種々の
反応媒体が提案されている。例えばジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、脂肪族ニトリル、モルホリン、ジメチルスルホキシ
ド、水、アルコール、グリコール、グリコールエーテ
ル、エーテル、テトラヒドロフラン、アルキレンハライ
ド、ジアルキルカーボネート等がある。
【００２２】シアヌル酸とアルキレンオキシドを反応さ
せてトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
トを製造する時に、反応終点付近、特に反応終点を越え
た段階で分解反応が起こることが知られている。特に溶
媒としてジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシド
を用いた場合は、分解物が多量に生成し収率も低下す
る。
せてトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
トを製造する時に、反応終点付近、特に反応終点を越え
た段階で分解反応が起こることが知られている。特に溶
媒としてジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシド
を用いた場合は、分解物が多量に生成し収率も低下す
る。
【００２３】溶媒としてアルコール、グリコール、グリ
コールエーテル、ケトン、エーテル或いは水等が提案さ
れている。これらは溶媒自身がオニウム塩を形成しシア
ヌル酸のアルキレンオキシド付加体を接触的に分解する
ような心配はないが、やはり化学量論量のアルキレンオ
キシドを反応させようとしたり、熱履歴が長い場合は多
量の循環使用の出来ない分解物が生成し、安定な操業が
困難でしかも純度と収率が向上しない。
コールエーテル、ケトン、エーテル或いは水等が提案さ
れている。これらは溶媒自身がオニウム塩を形成しシア
ヌル酸のアルキレンオキシド付加体を接触的に分解する
ような心配はないが、やはり化学量論量のアルキレンオ
キシドを反応させようとしたり、熱履歴が長い場合は多
量の循環使用の出来ない分解物が生成し、安定な操業が
困難でしかも純度と収率が向上しない。
【００２４】本願発明ではグリコールエーテル、即ちセ
ロソルブを溶媒に用いることが純度と収率を向上させる
点で好ましい。セロソルブとしては、２−メトキシエタ
ノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノ
ール、２−フェノキシエタノールが挙げられる。上記の
シアヌル酸とアルキレンオキシドとの反応は、ステンレ
ス製オートクレーブ等の反応容器を用い、１気圧〜１０
気圧の圧力下で、６０〜１５０℃の温度で、５〜５０時
間で行うことが出来る。
ロソルブを溶媒に用いることが純度と収率を向上させる
点で好ましい。セロソルブとしては、２−メトキシエタ
ノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノ
ール、２−フェノキシエタノールが挙げられる。上記の
シアヌル酸とアルキレンオキシドとの反応は、ステンレ
ス製オートクレーブ等の反応容器を用い、１気圧〜１０
気圧の圧力下で、６０〜１５０℃の温度で、５〜５０時
間で行うことが出来る。
【００２５】本願発明において、シアヌル酸とエチレン
オキシドを、上記触媒の存在下に反応させることによ
り、式（６）：
オキシドを、上記触媒の存在下に反応させることによ
り、式（６）：
【００２６】
【化４】
【００２７】で表されるトリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とプロピレンオキシドを、上記触媒の存在下に
反応させることにより、式（７）：
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とプロピレンオキシドを、上記触媒の存在下に
反応させることにより、式（７）：
【００２８】
【化５】
【００２９】で表されるトリス（２−ヒドロキシプロピ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とα−ブチレンオキシドを、上記触媒の存在下
に反応させることにより、式（８）：
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とα−ブチレンオキシドを、上記触媒の存在下
に反応させることにより、式（８）：
【００３０】
【化６】
【００３１】で表されるトリス（２−ヒドロキシブチ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とβ−ブチレンオキシドを、上記触媒の存在下
に反応させることにより、式（９）：
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。シ
アヌル酸とβ−ブチレンオキシドを、上記触媒の存在下
に反応させることにより、式（９）：
【００３２】
【化７】
【００３３】で表されるトリス（α−メチル−β−ヒド
ロキシプロピル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
ロキシプロピル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
【００３４】
【実施例】シアヌール酸〔日産化学工業（株）製〕、エ
チレンオキシド〔市販の試薬〕、プロピレンオキシド
〔市販の試薬：メチルオキシラン〕、α−ブチレンオキ
シド〔大日本インキ化学工業（株）：１，２−エポキシ
ブタン〕、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイ
ド〔市販の試薬〕、トリフェニルホスフィン〔市販の試
薬〕、トリエチルアミン〔市販の試薬〕、水酸化ナトリ
ウム〔市販の試薬〕、２−メトキシエタノール〔市販の
試薬〕、及びジメチルホルムアミド〔市販の試薬〕を準
備した。
チレンオキシド〔市販の試薬〕、プロピレンオキシド
〔市販の試薬：メチルオキシラン〕、α−ブチレンオキ
シド〔大日本インキ化学工業（株）：１，２−エポキシ
ブタン〕、トリフェニルエチルホスフォニウムブロマイ
ド〔市販の試薬〕、トリフェニルホスフィン〔市販の試
薬〕、トリエチルアミン〔市販の試薬〕、水酸化ナトリ
ウム〔市販の試薬〕、２−メトキシエタノール〔市販の
試薬〕、及びジメチルホルムアミド〔市販の試薬〕を準
備した。
【００３５】実施例１ オートクレーブにシアヌール酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
エチルホスフォニウムブロマイド１．１６ｇを添加後に
窒素置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した
油浴に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達して
から１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結
後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキ
ュームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には
１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、
超高粘稠液体の生成物９０ｇを得た。
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
エチルホスフォニウムブロマイド１．１６ｇを添加後に
窒素置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した
油浴に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達して
から１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結
後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキ
ュームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には
１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、
超高粘稠液体の生成物９０ｇを得た。
【００３６】得られた生成物を１００℃／１ｔｏｒｒの
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例１で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第１表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレー
トとして同定された。収率は９９．０％であった。
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例１で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第１表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレー
トとして同定された。収率は９９．０％であった。
【００３７】
【表１】 表１ 水酸基含量 炭素含量 水素含量 窒素含量 酸価 （％） （％） （％） （％） （モル／ｋｇ） 分析値 16.4 47.40 6.8 13.70 0.005 理論値 16.83 47.50 6.9 13.80 0 実施例１で得られたトリス（２−ヒドロキシプロピル）
イソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・
希釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、
その純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫
外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６
５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔Ｒ
Ｓｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシア
ヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収
スペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量
は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝
６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンション
タイム６．８分の所に単一の吸収ピークが得られた。
イソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・
希釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、
その純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫
外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６
５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔Ｒ
Ｓｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシア
ヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収
スペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量
は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝
６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンション
タイム６．８分の所に単一の吸収ピークが得られた。
【００３８】実施例２ オートクレーブにシアヌール酸３２．３ｇ（０．２５モ
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
エチルホスフォニウムブロマイド０．７５ｇを添加後に
窒素置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した
油浴に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達して
から１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結
後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキ
ュームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には
１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、
超高粘稠液体８５．５ｇを得た。
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
エチルホスフォニウムブロマイド０．７５ｇを添加後に
窒素置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した
油浴に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達して
から１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結
後、温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキ
ュームエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には
１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、
超高粘稠液体８５．５ｇを得た。
【００３９】得られた生成物を１００℃／１ｔｏｒｒの
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例２で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第２表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
として同定された。収率は９９．０％であった。
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例２で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第２表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
として同定された。収率は９９．０％であった。
【００４０】
【表２】 表２ 水酸基含量 炭素含量 水素含量 窒素含量 酸価 （％） （％） （％） （％） （モル／ｋｇ） 分析値 14.5 52.40 7.8 12.10 0.004 理論値 14.78 52.20 7.8 12.20 0 実施例２で得られたトリス（２−ヒドロキシブチル）イ
ソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・希
釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、そ
の純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫外
・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６５
５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔ＲＳ
ｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシアヌ
ール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収ス
ペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量は
１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝２
／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンションタ
イム３．５分の所に単一の吸収ピークが得られた。
ソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・希
釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、そ
の純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫外
・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６５
５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔ＲＳ
ｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシアヌ
ール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収ス
ペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量は
１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝２
／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンションタ
イム３．５分の所に単一の吸収ピークが得られた。
【００４１】実施例３ オートクレーブにシアヌール酸３２．３ｇ（０．２５モ
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
ホスフィン０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌し
ながら直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートク
レーブ内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を
自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナ
スフラスコに反応物を移し、バキュームエバポレーター
にて溶媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ
下で３０分間、溶媒を留去して、超高粘稠液体８５．０
ｇを得た。
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニル
ホスフィン０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌し
ながら直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートク
レーブ内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を
自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナ
スフラスコに反応物を移し、バキュームエバポレーター
にて溶媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ
下で３０分間、溶媒を留去して、超高粘稠液体８５．０
ｇを得た。
【００４２】得られた生成物を１００℃／１ｔｏｒｒの
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例３で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第３表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
として同定された。収率は９８．４％であった。
減圧条件に２時間保持した。この処理の前後で重量変化
が無く、実施例３で得られた生成物中の揮発分は０％で
あった。得られた生成物の水酸基含量と炭素含量、水素
含量、窒素含量と酸価の分析結果は第３表の如くであ
り、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
として同定された。収率は９８．４％であった。
【００４３】
【表３】 表３ 水酸基含量 炭素含量 水素含量 窒素含量 酸価 （％） （％） （％） （％） （モル／ｋｇ） 分析値 14.5 52.20 7.9 12.10 0.004 理論値 14.78 52.20 7.8 12.20 0 実施例３で得られたトリス（２−ヒドロキシブチル）イ
ソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・希
釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、そ
の純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫外
・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６５
５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔ＲＳ
ｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシアヌ
ール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収ス
ペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量は
１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝２
／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンションタ
イム３．５分の所に単一の吸収ピークが得られた。
ソシアヌレートをアセトニトリルで１．０％に溶解・希
釈し逆相液体クロマトグラフィー（ＲＰＬＣ）にて、そ
の純度を測定した。逆相液体クロマトグラフィーは紫外
・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ（株）製の６５
５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−４１３Ｌ〔ＲＳ
ｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用し、イソシアヌ
ール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波長で紫外吸収ス
ペクトルの検出を行った。カラム温度は４０℃、流量は
１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセトニトリル＝２
／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、リテンションタ
イム３．５分の所に単一の吸収ピークが得られた。
【００４４】実施例４ オートクレーブにシアヌル酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、エチレンオキシド３９．６ｇ（０．９モル）、２
−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニルエチルホ
スフォニウムブロマイド０．５３ｇを添加後に窒素置換
を行い撹拌しながら直ちに１２７℃に加熱した湯浴に浸
してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから１４
時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温度
計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュームエ
バポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１３０℃
／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して粉末状の生
成物７７．５ｇを得た。得られた生成物を１３０℃／１
ｔｏｒｒの減圧条件に２時間保持した。この処理の前後
で重量変化がなく、実施例４で得られた生成物中の揮発
分は０％であった。また、実施例４で得られた生成物の
融点は１３２〜１３４℃であった。そして、実施例４で
得られた生成物の酸価の分析結果は、０．０１モル／ｋ
ｇであった。なお、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの理論酸価は０モル／ｋｇである。
ル）、エチレンオキシド３９．６ｇ（０．９モル）、２
−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニルエチルホ
スフォニウムブロマイド０．５３ｇを添加後に窒素置換
を行い撹拌しながら直ちに１２７℃に加熱した湯浴に浸
してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから１４
時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温度
計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュームエ
バポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１３０℃
／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して粉末状の生
成物７７．５ｇを得た。得られた生成物を１３０℃／１
ｔｏｒｒの減圧条件に２時間保持した。この処理の前後
で重量変化がなく、実施例４で得られた生成物中の揮発
分は０％であった。また、実施例４で得られた生成物の
融点は１３２〜１３４℃であった。そして、実施例４で
得られた生成物の酸価の分析結果は、０．０１モル／ｋ
ｇであった。なお、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの理論酸価は０モル／ｋｇである。
【００４５】実施例４で得られた生成物をアセトニトリ
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られた。
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られた。
【００４６】一方、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
同一条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンションタイム
５．２分に吸収ピークが得られた。実施例４で得られた
リテンションタイム５．２分のピーク面積と、標準試料
のリテンションタイム５．２分のピーク面積とを比較し
て、実施例４の純度を求めると９８％であった。
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
同一条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンションタイム
５．２分に吸収ピークが得られた。実施例４で得られた
リテンションタイム５．２分のピーク面積と、標準試料
のリテンションタイム５．２分のピーク面積とを比較し
て、実施例４の純度を求めると９８％であった。
【００４７】なお、市販試薬のトリス（２−ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートも上記と同じ測定条件でＲＰ
ＬＣ測定を行うとリテンションタイム５．２分に吸収ピ
ークが得られた。実施例４で得られた生成物は、溶媒の
留去時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、高
純度のため室温に冷却するだけで容易に生成物の固化が
可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易に微粉末に
粉砕する事ができた。
エチル）イソシアヌレートも上記と同じ測定条件でＲＰ
ＬＣ測定を行うとリテンションタイム５．２分に吸収ピ
ークが得られた。実施例４で得られた生成物は、溶媒の
留去時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、高
純度のため室温に冷却するだけで容易に生成物の固化が
可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易に微粉末に
粉砕する事ができた。
【００４８】実施例５ オートクレーブにシアヌル酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、エチレンオキシド４３．６ｇ（０．９９モル）、
２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニルエチル
ホスフォニウムブロマイド０．５３ｇを添加後に窒素置
換を行い撹拌しながら直ちに１２７℃に加熱した湯浴に
浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから１
４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温
度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキューム
エバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１３０
℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して粉末状の
生成物７７．５ｇを得た。得られた生成物を１３０℃／
１ｔｏｒｒの減圧条件に２時間保持した。この処理の前
後で重量変化がなく、実施例５で得られた生成物中の揮
発分は０％であった。また、実施例５で得られた生成物
の融点は１３２〜１３５℃であった。そして、実施例５
で得られた生成物の酸価の分析結果は、０．００５モル
／ｋｇであった。なお、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートの理論酸価は０モル／ｋｇであ
る。
ル）、エチレンオキシド４３．６ｇ（０．９９モル）、
２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリフェニルエチル
ホスフォニウムブロマイド０．５３ｇを添加後に窒素置
換を行い撹拌しながら直ちに１２７℃に加熱した湯浴に
浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから１
４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、温
度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキューム
エバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１３０
℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して粉末状の
生成物７７．５ｇを得た。得られた生成物を１３０℃／
１ｔｏｒｒの減圧条件に２時間保持した。この処理の前
後で重量変化がなく、実施例５で得られた生成物中の揮
発分は０％であった。また、実施例５で得られた生成物
の融点は１３２〜１３５℃であった。そして、実施例５
で得られた生成物の酸価の分析結果は、０．００５モル
／ｋｇであった。なお、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートの理論酸価は０モル／ｋｇであ
る。
【００４９】実施例５で得られた生成物をアセトニトリ
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られた。
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られた。
【００５０】一方、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
同一条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンションタイム
５．２分に吸収ピークが得られた。実施例５で得られた
リテンションタイム５．２分のピーク面積と、標準試料
のリテンションタイム５．２分のピーク面積とを比較し
て、実施例５の純度を求めると９９％であった。
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
同一条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンションタイム
５．２分に吸収ピークが得られた。実施例５で得られた
リテンションタイム５．２分のピーク面積と、標準試料
のリテンションタイム５．２分のピーク面積とを比較し
て、実施例５の純度を求めると９９％であった。
【００５１】なお、市販試薬のトリス（２−ヒドロキシ
エチル）イソシアヌレートも上記と同じ測定条件でＲＰ
ＬＣ測定を行うとリテンションタイム５．２分に吸収ピ
ークが得られた。実施例５で得られた生成物は、溶媒の
留去時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、高
純度のため室温に冷却するだけで容易に生成物の固化が
可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易に微粉末に
粉砕する事ができた。
エチル）イソシアヌレートも上記と同じ測定条件でＲＰ
ＬＣ測定を行うとリテンションタイム５．２分に吸収ピ
ークが得られた。実施例５で得られた生成物は、溶媒の
留去時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、高
純度のため室温に冷却するだけで容易に生成物の固化が
可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易に微粉末に
粉砕する事ができた。
【００５２】比較例１ オートクレーブにシアヌール酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルア
ミン１．１６ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら
直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ
内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸
気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラ
スコに反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶
媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３
０分間、溶媒を留去して、粘稠液体９０．０ｇを得た。
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルア
ミン１．１６ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら
直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ
内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸
気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラ
スコに反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶
媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３
０分間、溶媒を留去して、粘稠液体９０．０ｇを得た。
【００５３】比較例１で得られた粘稠液体をアセトニト
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム６．８分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレートの生成は確認されなかった。
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム６．８分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレートの生成は確認されなかった。
【００５４】比較例２ オートクレーブにシアヌール酸３２．３ｇ（０．２５モ
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルア
ミン０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら
直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ
内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸
気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラ
スコに反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶
媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３
０分間、溶媒を留去して、粘稠液体の反応生成物８５ｇ
を得た。
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルア
ミン０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら
直ちに１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ
内液温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸
気圧下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラ
スコに反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶
媒を留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３
０分間、溶媒を留去して、粘稠液体の反応生成物８５ｇ
を得た。
【００５５】比較例２で得られた粘稠液体をアセトニト
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝２／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム３．５分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシ
アヌレートの生成は確認されなかった。
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝２／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム３．５分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシ
アヌレートの生成は確認されなかった。
【００５６】比較例３ オートクレーブにシアヌール酸３２．３ｇ（０．２５モ
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇを添加後に窒素
置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した油浴
に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから
１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、
温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュー
ムエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１１
５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、粘稠
液体の反応生成物８５ｇを得た。
ル）、α−ブチレンオキシド５９．４ｇ（０．８２５モ
ル）、２−メトキシエタノール１５０ｇを添加後に窒素
置換を行い攪拌しながら直ちに１２７℃に加熱した油浴
に浸してオートクレーブ内液温が１２０℃に達してから
１４時間の反応を自生蒸気圧下で行った。反応完結後、
温度計を付けたナスフラスコに反応物を移し、バキュー
ムエバポレーターにて溶媒を留去した。最終的には１１
５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、溶媒を留去して、粘稠
液体の反応生成物８５ｇを得た。
【００５７】比較例３で得られた粘稠液体をアセトニト
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝２／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム３．５分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシ
アヌレートの生成は確認されなかった。
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝２／３〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム３．５分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシ
アヌレートの生成は確認されなかった。
【００５８】比較例４ オートクレーブにシアヌール酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、ジメチルホルムアミド１５０ｇ、水酸化ナトリウ
ム０．６ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら直ち
に１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ内液
温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧
下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコ
に反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を
留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分
間、溶媒を留去して、粘稠液体の反応生成物９０ｇを得
た。
ル）、プロピレンオキシド５７．４ｇ（０．９９モ
ル）、ジメチルホルムアミド１５０ｇ、水酸化ナトリウ
ム０．６ｇを添加後に窒素置換を行い攪拌しながら直ち
に１２７℃に加熱した油浴に浸してオートクレーブ内液
温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧
下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコ
に反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を
留去した。最終的には１１５℃／５ｔｏｒｒ下で３０分
間、溶媒を留去して、粘稠液体の反応生成物９０ｇを得
た。
【００５９】比較例４で得られた粘稠液体をアセトニト
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム６．８分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレートの生成は確認されなかった。
リルで１．０％に溶解・希釈し逆相液体クロマトグラフ
ィー（ＲＰＬＣ）測定を行った。逆相液体クロマトグラ
フィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨＩ
（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ−
４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使用
し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの波
長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度は
４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／アセ
トニトリル＝６／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結果、
リテンションタイム６．８分の所に吸収ピークが存在し
なかったので、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレートの生成は確認されなかった。
【００６０】比較例５ オートクレーブにシアヌル酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、エチレンオキシド３９．６ｇ（０．９モル）、２
−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルアミン０．
７５ｇを添加後に窒素置換を行い撹拌しながら直ちに１
２７℃に加熱した湯浴に浸してオートクレーブ内液温が
１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧下で
行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反
応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を留去
した。最終的には１３０℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、
溶媒を留去して粉末状の生成物７８ｇを得た。また、実
施例５で得られた生成物の融点は１２０〜１３０℃であ
った。
ル）、エチレンオキシド３９．６ｇ（０．９モル）、２
−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルアミン０．
７５ｇを添加後に窒素置換を行い撹拌しながら直ちに１
２７℃に加熱した湯浴に浸してオートクレーブ内液温が
１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧下で
行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反
応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を留去
した。最終的には１３０℃／５ｔｏｒｒ下で３０分間、
溶媒を留去して粉末状の生成物７８ｇを得た。また、実
施例５で得られた生成物の融点は１２０〜１３０℃であ
った。
【００６１】比較例５で得られた生成物をアセトニトリ
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られ、更に他の生成物の存在を示す吸収ピークもリテン
ションタイム５．２分以外の所に得られた。
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られ、更に他の生成物の存在を示す吸収ピークもリテン
ションタイム５．２分以外の所に得られた。
【００６２】一方、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
上記と同じ測定条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンショ
ンタイム５．２分に吸収ピークが得られた。比較例５で
得られたリテンションタイム５．２分のピーク面積と、
標準試料のリテンションタイム５．２分のピーク面積と
を比較して、比較例５の純度を求めると８５％であっ
た。
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
上記と同じ測定条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンショ
ンタイム５．２分に吸収ピークが得られた。比較例５で
得られたリテンションタイム５．２分のピーク面積と、
標準試料のリテンションタイム５．２分のピーク面積と
を比較して、比較例５の純度を求めると８５％であっ
た。
【００６３】比較例５で得られた生成物は、溶媒の留去
時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、室温に
冷却してもそれ自体の純度が低いために生成物が固化す
るのに長時間を要した。また、得られた固化体は粉砕出
来る程度の硬さではなかったので微粉末に粉砕する事が
難しかった。 比較例６ オートクレーブにシアヌル酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、エチレンオキシド４３．６ｇ（０．９９モル）、
２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルアミン
０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い撹拌しながら直ち
に１２７℃に加熱した湯浴に浸してオートクレーブ内液
温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧
下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコ
に反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を
留去した。最終的には１３０℃／５ｔｏｒｒ下で３０分
間、溶媒を留去して粉末状の生成物７８ｇを得た。
時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、室温に
冷却してもそれ自体の純度が低いために生成物が固化す
るのに長時間を要した。また、得られた固化体は粉砕出
来る程度の硬さではなかったので微粉末に粉砕する事が
難しかった。 比較例６ オートクレーブにシアヌル酸３８．７ｇ（０．３モ
ル）、エチレンオキシド４３．６ｇ（０．９９モル）、
２−メトキシエタノール１５０ｇ、トリエチルアミン
０．７５ｇを添加後に窒素置換を行い撹拌しながら直ち
に１２７℃に加熱した湯浴に浸してオートクレーブ内液
温が１２０℃に達してから１４時間の反応を自生蒸気圧
下で行った。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコ
に反応物を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を
留去した。最終的には１３０℃／５ｔｏｒｒ下で３０分
間、溶媒を留去して粉末状の生成物７８ｇを得た。
【００６４】比較例６で得られた生成物をアセトニトリ
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られ、更に他の生成物を示す吸収ピークもリテンション
タイム５．２分以外の所に得られた。
ルで１．０％に溶解し逆相液体クロマトグラフィー（Ｒ
ＰＬＣ）にて、その純度を測定した。逆相液体クロマト
グラフィーは紫外・可視吸光光度検出器にＨＩＴＡＣＨ
Ｉ（株）製の６５５Ａを用い、測定条件はカラムにＤＥ
−４１３Ｌ〔ＲＳｐａｋ：Ｓｈｏｄｅｘ（株）製〕を使
用し、イソシアヌール環の特性吸収のある２１０ｎｍの
波長で紫外吸収スペクトルの検出を行った。カラム温度
は４０℃、流量は１ｃｃ／分で測定し、溶離液に水／ア
セトニトリル=９／１〔ｖｏｌ比〕を用いた。その結
果、リテンションタイム５．２分の所に吸収ピークが得
られ、更に他の生成物を示す吸収ピークもリテンション
タイム５．２分以外の所に得られた。
【００６５】一方、トリス（２−ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
上記と同じ測定条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンショ
ンタイム５．２分に吸収ピークが得られた。比較例６で
得られたリテンションタイム５．２分のピーク面積と、
標準試料のリテンションタイム５．２分のピーク面積と
を比較して、比較例６の純度を求めると５０％であっ
た。
ソシアヌレートの標準試料として、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート〔日産化学工業（株）
製〕を２回再結晶して精製した物を用いた。この２回再
結晶品は元素分析で理論値と一致した。この標準試料は
上記と同じ測定条件でＲＰＬＣ測定を行い、リテンショ
ンタイム５．２分に吸収ピークが得られた。比較例６で
得られたリテンションタイム５．２分のピーク面積と、
標準試料のリテンションタイム５．２分のピーク面積と
を比較して、比較例６の純度を求めると５０％であっ
た。
【００６６】比較例６で得られた生成物は、溶媒の留去
時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、室温に
冷却してもそれ自体の純度が低いために生成物の固化体
を得ることが難しく、室温でも高粘稠の液体となり、微
粉末は得られなかった。そして融点の測定は困難であっ
た。
時の加熱により生成物は高温粘稠液体であるが、室温に
冷却してもそれ自体の純度が低いために生成物の固化体
を得ることが難しく、室温でも高粘稠の液体となり、微
粉末は得られなかった。そして融点の測定は困難であっ
た。
【００６７】
【発明の効果】本願発明ではシアヌール酸とアルキレン
オキシドから、トリアリールホスフィン、トリアルキル
ホスフィン又は第４級ホスフォニウム塩を触媒として高
純度・高収率でトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレートを得ることが出来る。
オキシドから、トリアリールホスフィン、トリアルキル
ホスフィン又は第４級ホスフォニウム塩を触媒として高
純度・高収率でトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレートを得ることが出来る。
【００６８】本願発明で得られる一般式（２）で示され
るトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート
は多価アルコール化合物であり、１分子中に３個の水酸
基を有し、更に分子中に剛直なイソシアヌール環を有す
る事から、ポリウレタン原料等に使用した場合は高い耐
熱性を有するポリウレタンが得られる。また、一般式
（２）で示される多価アルコール化合物においてＲ1、
Ｒ2が水素原子以外である場合は、Ｒ1、Ｒ2のアルキル
基の効果によりポリプロピレンとの相溶性がよく、しか
も難燃効果に有効なイソシアヌール環を有しているので
ポリプロピレン等のプラスチックに添加して高い難燃効
果が得られる。
るトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート
は多価アルコール化合物であり、１分子中に３個の水酸
基を有し、更に分子中に剛直なイソシアヌール環を有す
る事から、ポリウレタン原料等に使用した場合は高い耐
熱性を有するポリウレタンが得られる。また、一般式
（２）で示される多価アルコール化合物においてＲ1、
Ｒ2が水素原子以外である場合は、Ｒ1、Ｒ2のアルキル
基の効果によりポリプロピレンとの相溶性がよく、しか
も難燃効果に有効なイソシアヌール環を有しているので
ポリプロピレン等のプラスチックに添加して高い難燃効
果が得られる。
【００６９】本願発明の方法では、トリス（２−ヒドロ
キシアルキル）イソシアヌレートが高純度で得られる為
に、溶媒の留去時は加熱により生成物は高温粘稠液体で
あるが、高純度で得られる為に室温に冷却するだけで容
易に固化が可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易
に微粉末に粉砕する事ができる。また、本発明で得られ
るトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート
は、感光性樹脂原料、ハンダフラックス、或いは電子材
料用途に用いるワニスの増粘剤として使用する事が出来
る。一般式（２）で示されるトリス（２−ヒドロキシア
ルキル）イソシアヌレートは耐熱性、相溶性が良好な為
に、ポリエステル及びポリウレタンの原料として使用す
る事や、各種プラスチック用難燃剤等の分野に利用する
事が出来る。
キシアルキル）イソシアヌレートが高純度で得られる為
に、溶媒の留去時は加熱により生成物は高温粘稠液体で
あるが、高純度で得られる為に室温に冷却するだけで容
易に固化が可能であり、その固化品は硬く脆い為に容易
に微粉末に粉砕する事ができる。また、本発明で得られ
るトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート
は、感光性樹脂原料、ハンダフラックス、或いは電子材
料用途に用いるワニスの増粘剤として使用する事が出来
る。一般式（２）で示されるトリス（２−ヒドロキシア
ルキル）イソシアヌレートは耐熱性、相溶性が良好な為
に、ポリエステル及びポリウレタンの原料として使用す
る事や、各種プラスチック用難燃剤等の分野に利用する
事が出来る。
Claims (3)
- 【請求項１】 シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子又はアルキル基を示
す。）で表されるアルキレンオキシドとを、トリアリー
ルホスフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホス
フォニウム塩を触媒として溶媒中で反応させるトリス
（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方
法。 - 【請求項２】 式（１）で表されるアルキレンオキシド
が、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチ
レンオキシド、又はβ−ブチレンオキシドである請求項
１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 トリアリールホスフィン、トリアルキル
ホスフィン又は第４級ホスフォニウム塩を、シアヌル酸
と式（１）で表されるアルキレンオキシドの合計量に対
して０．０３〜５重量％の割合で存在させる請求項１又
は請求項２に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31589596A JP4088719B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-11-27 | トリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26168996 | 1996-10-02 | ||
| JP8-261689 | 1996-10-02 | ||
| JP31589596A JP4088719B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-11-27 | トリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10158252A true JPH10158252A (ja) | 1998-06-16 |
| JP4088719B2 JP4088719B2 (ja) | 2008-05-21 |
Family
ID=26545193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31589596A Expired - Fee Related JP4088719B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-11-27 | トリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4088719B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006009118A1 (ja) * | 2004-07-21 | 2006-01-26 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 |
| JP2008306222A (ja) * | 2008-09-22 | 2008-12-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性フラックス及びこれを用いた半田接合部 |
| CN112300089A (zh) * | 2020-11-26 | 2021-02-02 | 济宁键邦化工有限公司 | 一种赛克的制备方法 |
-
1996
- 1996-11-27 JP JP31589596A patent/JP4088719B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006009118A1 (ja) * | 2004-07-21 | 2006-01-26 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 |
| JP4716031B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2011-07-06 | 日産化学工業株式会社 | ハンダ用耐熱水溶性フラックス組成物 |
| US8900376B2 (en) | 2004-07-21 | 2014-12-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Heat-resistant water-soluble flux composition for soldering |
| JP2008306222A (ja) * | 2008-09-22 | 2008-12-18 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 感光性フラックス及びこれを用いた半田接合部 |
| CN112300089A (zh) * | 2020-11-26 | 2021-02-02 | 济宁键邦化工有限公司 | 一种赛克的制备方法 |
| CN112300089B (zh) * | 2020-11-26 | 2021-06-18 | 济宁键邦化工有限公司 | 一种赛克的制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4088719B2 (ja) | 2008-05-21 |
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