JP2002316980A - シアヌル酸誘導体の製造方法 - Google Patents
シアヌル酸誘導体の製造方法Info
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- JP2002316980A JP2002316980A JP2002029056A JP2002029056A JP2002316980A JP 2002316980 A JP2002316980 A JP 2002316980A JP 2002029056 A JP2002029056 A JP 2002029056A JP 2002029056 A JP2002029056 A JP 2002029056A JP 2002316980 A JP2002316980 A JP 2002316980A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電線ワニス、塩化ビニル樹脂の安定剤、
塗料用原料、難燃剤などの分野に有用で、高い耐熱性と
難燃性を持つトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート及びその関連化合物の製造方法に関する。 【解決手段】 シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、アルキル基又は芳
香族基を示す。）で示されるエポキシ化合物とを、第４
級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中で反応させる
ことを特徴とする式（２）： 【化２】
塗料用原料、難燃剤などの分野に有用で、高い耐熱性と
難燃性を持つトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート及びその関連化合物の製造方法に関する。 【解決手段】 シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、アルキル基又は芳
香族基を示す。）で示されるエポキシ化合物とを、第４
級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中で反応させる
ことを特徴とする式（２）： 【化２】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、電線ワニス、塩
化ビニル樹脂の安定剤、塗料用原料、難燃剤などの分野
に有用で、高い耐熱性と難燃性を持つトリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合物の
製造方法に関する。
化ビニル樹脂の安定剤、塗料用原料、難燃剤などの分野
に有用で、高い耐熱性と難燃性を持つトリス（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合物の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シアヌル酸とアルキレンオキシド
からトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
ト等を製造する方法としては、特開昭５６−８１５７１
号公報では、グリコールや芳香族置換低級アルコール
系、メチルエチルケトンやｎ−プロピルケトン等のケト
ン類、テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類
の如き反応媒体にシアヌル酸と厳密に秤量されたエチレ
ンオキシドを、水酸化アルカリ、アミン又は４級アンモ
ニウム塩を触媒として付加反応させる製造方法が開示さ
れている。
からトリス（２−ヒドロキシアルキル）イソシアヌレー
ト等を製造する方法としては、特開昭５６−８１５７１
号公報では、グリコールや芳香族置換低級アルコール
系、メチルエチルケトンやｎ−プロピルケトン等のケト
ン類、テトラヒドロフランやジオキサン等のエーテル類
の如き反応媒体にシアヌル酸と厳密に秤量されたエチレ
ンオキシドを、水酸化アルカリ、アミン又は４級アンモ
ニウム塩を触媒として付加反応させる製造方法が開示さ
れている。
【０００３】また、ジャーナル・オブ・ザ・オーガニッ
クケミストリー（２８巻、８５〜８９頁、１９６３年）
には、ジアルキルホルムアミド又はジアルキルアセトア
ミド中で加圧下又は常圧下にシアヌル酸とアルキレンオ
キシドを反応させる方法が開示されている。
クケミストリー（２８巻、８５〜８９頁、１９６３年）
には、ジアルキルホルムアミド又はジアルキルアセトア
ミド中で加圧下又は常圧下にシアヌル酸とアルキレンオ
キシドを反応させる方法が開示されている。
【０００４】特公昭４４−２２４９７号公報には、シア
ヌル酸とアルキレンオキサイドとをアルキレンハロゲン
化ヒドリンの存在下で反応させる方法が開示されてい
る。
ヌル酸とアルキレンオキサイドとをアルキレンハロゲン
化ヒドリンの存在下で反応させる方法が開示されてい
る。
【０００５】特開平１０−１５８２５２号公報には、シ
アヌル酸とアルキレンオキサイドとを、トリアリールホ
スフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホスホニ
ウム塩を触媒として溶媒中で反応させる方法が開示され
ている。
アヌル酸とアルキレンオキサイドとを、トリアリールホ
スフィン、トリアルキルホスフィン又は第４級ホスホニ
ウム塩を触媒として溶媒中で反応させる方法が開示され
ている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記特開昭５６−８１
５７１号公報では、反応中に溶媒の一部が塩基性物質に
変化し易く生成物の一部が分解して不純物を副生し、精
製に困難を生ずるという問題がある。また、シアヌル酸
に対するアルキレンオキシド（特に、エチレンオキシ
ド）を当量以上に添加すると急激に収率が低下するとい
う問題がある。
５７１号公報では、反応中に溶媒の一部が塩基性物質に
変化し易く生成物の一部が分解して不純物を副生し、精
製に困難を生ずるという問題がある。また、シアヌル酸
に対するアルキレンオキシド（特に、エチレンオキシ
ド）を当量以上に添加すると急激に収率が低下するとい
う問題がある。
【０００７】また、上記ジャーナル・オブ・ザ・オーガ
ニックケミストリーに記載の方法では、溶媒自身が低活
性の触媒作用を呈する為に通常は他の触媒（例えば塩基
性触媒）の存在は必要としないが、Ｎ，Ｎ’−ジアルキ
ルホルムアミド類を溶媒にする場合、又はジメチルホル
ムアミドやジメチルアセトアミドにベンゼンやトルエン
等を混合して使用する場合には、シアヌル酸とアルキレ
ンオキシドとの反応速度が著しく低下する。
ニックケミストリーに記載の方法では、溶媒自身が低活
性の触媒作用を呈する為に通常は他の触媒（例えば塩基
性触媒）の存在は必要としないが、Ｎ，Ｎ’−ジアルキ
ルホルムアミド類を溶媒にする場合、又はジメチルホル
ムアミドやジメチルアセトアミドにベンゼンやトルエン
等を混合して使用する場合には、シアヌル酸とアルキレ
ンオキシドとの反応速度が著しく低下する。
【０００８】この様に従来の塩基性触媒ではシアヌル酸
に対するアルキレンオキシドの添加量が当量比を越える
と分解反応が急激に進む事と、溶媒乾固（溶媒の除去）
の加熱状態により若干の分解が起こり、溶媒乾固して得
られた製品の純度は不充分である。そのために、それら
の物は再結晶法等により精製して製品化する。しかし、
再結晶は結晶性の低い物質には適用し難い事や、再結晶
法自体が収率の低下、溶媒の回収、溶解・冷却・濾過・
乾燥という非常に長い工程となる欠点が有る。
に対するアルキレンオキシドの添加量が当量比を越える
と分解反応が急激に進む事と、溶媒乾固（溶媒の除去）
の加熱状態により若干の分解が起こり、溶媒乾固して得
られた製品の純度は不充分である。そのために、それら
の物は再結晶法等により精製して製品化する。しかし、
再結晶は結晶性の低い物質には適用し難い事や、再結晶
法自体が収率の低下、溶媒の回収、溶解・冷却・濾過・
乾燥という非常に長い工程となる欠点が有る。
【０００９】本願発明はシアヌル酸とエポキシ化合物と
を反応してトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート及びその関連化合物であるシアヌル酸誘導体を製
造する方法に関して、第４級ホスホニウム塩と塩酸を存
在させる事により、それらの相互作用により効率的に製
造しようとするものである。
を反応してトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート及びその関連化合物であるシアヌル酸誘導体を製
造する方法に関して、第４級ホスホニウム塩と塩酸を存
在させる事により、それらの相互作用により効率的に製
造しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本願発明は第１観点とし
て、シアヌル酸と式（１）：
て、シアヌル酸と式（１）：
【００１１】
【化３】
【００１２】（ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、アル
キル基又は芳香族基を示す。）で示されるエポキシ化合
物とを、第４級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中
で反応させることを特徴とする式（２）：
キル基又は芳香族基を示す。）で示されるエポキシ化合
物とを、第４級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中
で反応させることを特徴とする式（２）：
【００１３】
【化４】
【００１４】で示されるシアヌル酸誘導体の製造方法、
第２観点として、式（１）で表されるエポキシ化合物
が、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチ
レンオキシド、β−ブチレンオキシド、又はスチレンオ
キシドである第１観点に記載の製造方法、第３観点とし
て、塩酸の一部又は全部が式（１）のエポキシ化合物と
反応して生成するクロルヒドリン化合物として存在する
第１観点又は第２観点に記載の製造方法、第４観点とし
て、第４級ホスホニウム塩を、シアヌル酸に対して０．
０３〜１０重量％の割合で存在させる第１観点乃至第３
観点のいずれか一つに記載の製造方法、第５観点とし
て、塩酸をシアヌル酸に対して０．１〜１０重量％の割
合で存在させる第１観点乃至第４観点のいずれか一つに
記載の製造方法、及び第６観点として、第４級ホスホニ
ウム塩が、ハロゲン化エチルトリフェニルホスホニウム
である第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載の製
造方法である。
第２観点として、式（１）で表されるエポキシ化合物
が、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチ
レンオキシド、β−ブチレンオキシド、又はスチレンオ
キシドである第１観点に記載の製造方法、第３観点とし
て、塩酸の一部又は全部が式（１）のエポキシ化合物と
反応して生成するクロルヒドリン化合物として存在する
第１観点又は第２観点に記載の製造方法、第４観点とし
て、第４級ホスホニウム塩を、シアヌル酸に対して０．
０３〜１０重量％の割合で存在させる第１観点乃至第３
観点のいずれか一つに記載の製造方法、第５観点とし
て、塩酸をシアヌル酸に対して０．１〜１０重量％の割
合で存在させる第１観点乃至第４観点のいずれか一つに
記載の製造方法、及び第６観点として、第４級ホスホニ
ウム塩が、ハロゲン化エチルトリフェニルホスホニウム
である第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載の製
造方法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】本願発明に使用するシアヌル酸
（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール、
Ｃ3Ｈ3Ｎ3Ｏ3）は、互変異性体であるイソシアヌル酸と
平衡関係にあり、本願発明ではシアヌル酸、イソシアヌ
ル酸又は両者の混合物を使用することが出来る。
（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリオール、
Ｃ3Ｈ3Ｎ3Ｏ3）は、互変異性体であるイソシアヌル酸と
平衡関係にあり、本願発明ではシアヌル酸、イソシアヌ
ル酸又は両者の混合物を使用することが出来る。
【００１６】本願発明に使用する式（１）で表されるエ
ポキシ化合物は、Ｒ1及びＲ2は水素原子、アルキル基又
は芳香族基である。アルキル基としては例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８の
アルキル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル
基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基である。
芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、ピリジニ
ル基等が挙げられる。
ポキシ化合物は、Ｒ1及びＲ2は水素原子、アルキル基又
は芳香族基である。アルキル基としては例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８の
アルキル基が挙げられ、好ましくはメチル基、エチル
基、プロピル基等の炭素数１〜３のアルキル基である。
芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、ピリジニ
ル基等が挙げられる。
【００１７】更に上記Ｒ1及びＲ2は、水素原子、メチル
基及びエチル基で有ることが好ましい。上記の式（１）
で表されるエポキシ化合物の好ましい例示化合物として
は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド（即ち、メ
チルオキシラン）、α−ブチレンオキシド（即ち、１，
２−エポキシブタン）、β−ブチレンオキシド（即ち、
２，３−ジメチルオキシラン）、スチレンオキシドが挙
げられ、これらはそれぞれ単独でシアヌル酸との反応に
使用するものである。
基及びエチル基で有ることが好ましい。上記の式（１）
で表されるエポキシ化合物の好ましい例示化合物として
は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド（即ち、メ
チルオキシラン）、α−ブチレンオキシド（即ち、１，
２−エポキシブタン）、β−ブチレンオキシド（即ち、
２，３−ジメチルオキシラン）、スチレンオキシドが挙
げられ、これらはそれぞれ単独でシアヌル酸との反応に
使用するものである。
【００１８】上記エポキシ化合物はシアヌル酸の１．０
０モルに対して、３．００〜３．５０モル、好ましくは
３．０５〜３．１５モルの比率で用いる。
０モルに対して、３．００〜３．５０モル、好ましくは
３．０５〜３．１５モルの比率で用いる。
【００１９】シアヌル酸１．００モルに対して、当量比
でエポキシ化合物を反応させる場合は３．００モルのエ
ポキシ化合物を必要とする。
でエポキシ化合物を反応させる場合は３．００モルのエ
ポキシ化合物を必要とする。
【００２０】本願発明に使用する触媒は、Ｒ3Ｒ4Ｒ5Ｒ6
Ｐ+Ｙ-で表される第４級ホスホニウム塩を用いることが
出来る。
Ｐ+Ｙ-で表される第４級ホスホニウム塩を用いることが
出来る。
【００２１】Ｒ3Ｒ4Ｒ5Ｒ6Ｐ+Ｙ-で表される第４級ホス
ホニウム塩において、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ 5及びＲ6は炭素数１
〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であ
るが、好ましくはＲ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の４つの有機基
の内で３つの有機基が炭素数１〜１８のアリール基又は
アラルキル基であり、例えばフェニル基やトシル基等の
置換されたフェニル基が挙げられる。そして４つの有機
基の内の残り一つは炭素数１〜１８のアルキル基が挙げ
られる。
ホニウム塩において、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ 5及びＲ6は炭素数１
〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基であ
るが、好ましくはＲ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の４つの有機基
の内で３つの有機基が炭素数１〜１８のアリール基又は
アラルキル基であり、例えばフェニル基やトシル基等の
置換されたフェニル基が挙げられる。そして４つの有機
基の内の残り一つは炭素数１〜１８のアルキル基が挙げ
られる。
【００２２】また、陰イオン（Ｙ-）は、塩素イオン
（Ｃｌ-）、臭素イオン（Ｂｒ-）、ヨウ素イオン
（Ｉ-）等のハロゲンイオンや、カルボキシラート（−
ＣＯＯ-）、スルホナート（−ＳＯ3 -）、アルコラート
（−Ｏ-）等の酸基を挙げることができる。第４級ホス
ホニウム塩は、例えばハロゲン化テトラｎ−ブチルホス
ホニウム、ハロゲン化テトラｎ−プロピルホスホニウム
等のハロゲン化テトラアルキルホスホニウム、ハロゲン
化ベンジルトリエチルホスホニウム等のハロゲン化ベン
ジルトリアルキルホスホニウム、ハロゲン化フェニルト
リエチルホスホニウム等のハロゲン化フェニルトリアル
キルホスホニウム、ハロゲン化メチルトリフェニルホス
ホニウム、ハロゲン化エチルトリフェニルホスホニウム
等のハロゲン化モノアルキルトリフェニルホスホニウ
ム、ハロゲン化ベンジルトリフェニルホスホニウム、ハ
ロゲン化テトラフェニルホスホニウム、ハロゲン化モノ
アリールトリトリルホスホニウム、或いはハロゲン化モ
ノアルキルトリトリルホスホニウム（ハロゲン原子は塩
素原子又は臭素原子）が挙げられる。
（Ｃｌ-）、臭素イオン（Ｂｒ-）、ヨウ素イオン
（Ｉ-）等のハロゲンイオンや、カルボキシラート（−
ＣＯＯ-）、スルホナート（−ＳＯ3 -）、アルコラート
（−Ｏ-）等の酸基を挙げることができる。第４級ホス
ホニウム塩は、例えばハロゲン化テトラｎ−ブチルホス
ホニウム、ハロゲン化テトラｎ−プロピルホスホニウム
等のハロゲン化テトラアルキルホスホニウム、ハロゲン
化ベンジルトリエチルホスホニウム等のハロゲン化ベン
ジルトリアルキルホスホニウム、ハロゲン化フェニルト
リエチルホスホニウム等のハロゲン化フェニルトリアル
キルホスホニウム、ハロゲン化メチルトリフェニルホス
ホニウム、ハロゲン化エチルトリフェニルホスホニウム
等のハロゲン化モノアルキルトリフェニルホスホニウ
ム、ハロゲン化ベンジルトリフェニルホスホニウム、ハ
ロゲン化テトラフェニルホスホニウム、ハロゲン化モノ
アリールトリトリルホスホニウム、或いはハロゲン化モ
ノアルキルトリトリルホスホニウム（ハロゲン原子は塩
素原子又は臭素原子）が挙げられる。
【００２３】特にハロゲン化エチルトリフェニルホスホ
ニウム等のハロゲン化モノアルキルトリフェニルホスホ
ニウムが好ましい。
ニウム等のハロゲン化モノアルキルトリフェニルホスホ
ニウムが好ましい。
【００２４】上記の第４級ホスホニウム塩は、シアヌル
酸とエポキシ化合物の反応における触媒として作用す
る。第４級ホスホニウム塩は、シアヌル酸に対して０．
０３〜１０重量％の割合で存在させることが好ましい。
０．０３重量％未満では反応速度の促進が期待できず、
また１０重量％を越えて添加してもそれ以上の効果は期
待できない。
酸とエポキシ化合物の反応における触媒として作用す
る。第４級ホスホニウム塩は、シアヌル酸に対して０．
０３〜１０重量％の割合で存在させることが好ましい。
０．０３重量％未満では反応速度の促進が期待できず、
また１０重量％を越えて添加してもそれ以上の効果は期
待できない。
【００２５】本願発明ではシアヌル酸とエポキシ化合物
からトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
及びその関連化合物である式（２）で示されるシアヌル
酸誘導体を製造する際に、第４級ホスホニウム塩と共に
塩酸を存在させて反応を行う事により効率的にトリス
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関
連化合物である式（２）で示されるシアヌル酸誘導体が
得られる。
からトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
及びその関連化合物である式（２）で示されるシアヌル
酸誘導体を製造する際に、第４級ホスホニウム塩と共に
塩酸を存在させて反応を行う事により効率的にトリス
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関
連化合物である式（２）で示されるシアヌル酸誘導体が
得られる。
【００２６】塩酸は、シアヌル酸とエポキシ化合物に第
４級ホスホニウム塩と共に反応開始時点から添加して置
くことが好ましい。
４級ホスホニウム塩と共に反応開始時点から添加して置
くことが好ましい。
【００２７】塩酸の添加量は、シアヌル酸に対して０．
１〜１０重量％、好ましくは１．０〜５．０重量％の割
合で存在させることができる。
１〜１０重量％、好ましくは１．０〜５．０重量％の割
合で存在させることができる。
【００２８】シアヌル酸とエポキシ化合物からトリス
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関
連化合物を製造する際に、添加された塩酸は生成したト
リス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びそ
の関連化合物の分解を抑制する作用がある。この際、添
加された塩酸は塩酸自体で作用を発揮することも考えら
れるが、塩酸がエポキシ化合物と反応してクロルヒドリ
ン化合物に変化して作用することも考えられる。添加し
た塩酸或いは、その塩酸がエポキシ化合物と反応して生
成したクロルヒドリン化合物は、第４級ホスホニウム塩
との相乗効果により効率的に純度の高いトリス（２−ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合物
を製造することが出来る。
（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関
連化合物を製造する際に、添加された塩酸は生成したト
リス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びそ
の関連化合物の分解を抑制する作用がある。この際、添
加された塩酸は塩酸自体で作用を発揮することも考えら
れるが、塩酸がエポキシ化合物と反応してクロルヒドリ
ン化合物に変化して作用することも考えられる。添加し
た塩酸或いは、その塩酸がエポキシ化合物と反応して生
成したクロルヒドリン化合物は、第４級ホスホニウム塩
との相乗効果により効率的に純度の高いトリス（２−ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合物
を製造することが出来る。
【００２９】塩酸は市販の３５％塩酸水溶液を直接に添
加して行われる。本願発明において塩酸の代わりに９６
％硫酸、希硫酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩化
亜鉛等では分解抑制効果がない。
加して行われる。本願発明において塩酸の代わりに９６
％硫酸、希硫酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩化
亜鉛等では分解抑制効果がない。
【００３０】シアヌル酸は殆どの有機溶媒に不溶乃至僅
かに溶解する為に、円滑に反応を進行させるため種々の
反応媒体が提案されているが、本件発明に用いられる溶
媒としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、脂肪族ニト
リル、モルホリン、ジメチルスルホキシド、水、アルコ
ール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、テ
トラヒドロフラン、アルキレンハライド、ジアルキルカ
ーボネート等がある。
かに溶解する為に、円滑に反応を進行させるため種々の
反応媒体が提案されているが、本件発明に用いられる溶
媒としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、脂肪族ニト
リル、モルホリン、ジメチルスルホキシド、水、アルコ
ール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、テ
トラヒドロフラン、アルキレンハライド、ジアルキルカ
ーボネート等がある。
【００３１】上記のシアヌル酸とエポキシ化合物との反
応は、オートクレーブ等の反応容器を用い、１気圧〜１
０気圧の圧力下で、４０〜１５０℃の温度で、４〜５０
時間で行うことが出来る。
応は、オートクレーブ等の反応容器を用い、１気圧〜１
０気圧の圧力下で、４０〜１５０℃の温度で、４〜５０
時間で行うことが出来る。
【００３２】本願発明において、シアヌル酸とエチレン
オキシドを、上記触媒と塩酸の存在下に反応させること
により、式（３）：
オキシドを、上記触媒と塩酸の存在下に反応させること
により、式（３）：
【００３３】
【化５】
【００３４】で表されるトリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
【００３５】シアヌル酸とプロピレンオキシドを、上記
触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（４）：
触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（４）：
【００３６】
【化６】
【００３７】で表されるトリス（２−ヒドロキシプロピ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
【００３８】シアヌル酸とα−ブチレンオキシドを、上
記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（５）：
記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（５）：
【００３９】
【化７】
【００４０】で表されるトリス（２−ヒドロキシブチ
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
ル）イソシアヌレートが高純度・高収率で生成する。
【００４１】シアヌル酸とβ−ブチレンオキシドを、上
記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（６）：
記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（６）：
【００４２】
【化８】
【００４３】で表されるトリス（α−メチル−β−ヒド
ロキシプロピル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
ロキシプロピル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
【００４４】また、シアヌル酸とスチレンオキシドを、
上記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（７）：
上記触媒と塩酸の存在下に反応させることにより、式
（７）：
【００４５】
【化９】
【００４６】で示されるトリス（２−フェニル−２−ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
ドロキシエチル）イソシアヌレートが高純度・高収率で
生成する。
【００４７】
【実施例】実施例１ オートクレーブにシアヌール酸１２９ｇ（１．０モ
ル）、プロピレンオキシド１７７ｇ（３．０５モル）、
メチルセロソルブ１２９ｇ、エチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド１．２９ｇ、３５％塩酸１．２９ｇを
添加後に窒素置換を行い撹拌しながら加熱を行い、１２
０℃に達してから２０時間の反応を自生蒸気圧下で行っ
た。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反応物
を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を留去し
た。最終的には１１０℃／５ｔｏｒｒ下で６０分間、溶
媒を留去して、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレート３０２ｇを得た。
ル）、プロピレンオキシド１７７ｇ（３．０５モル）、
メチルセロソルブ１２９ｇ、エチルトリフェニルホスホ
ニウムブロマイド１．２９ｇ、３５％塩酸１．２９ｇを
添加後に窒素置換を行い撹拌しながら加熱を行い、１２
０℃に達してから２０時間の反応を自生蒸気圧下で行っ
た。反応完結後、温度計を付けたナスフラスコに反応物
を移し、バキュームエバポレーターにて溶媒を留去し
た。最終的には１１０℃／５ｔｏｒｒ下で６０分間、溶
媒を留去して、トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレート３０２ｇを得た。
【００４８】得られた生成物は高速液体クロマトグラフ
ィー、ガスクロマトグラフィー等の分析結果により、ト
リス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレートとし
て同定された。収率は９９．７％であった。
ィー、ガスクロマトグラフィー等の分析結果により、ト
リス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレートとし
て同定された。収率は９９．７％であった。
【００４９】以下同様に原料とその使用量を示し反応条
件を変えて、実施例、参考例、及び比較例を実施してそ
の結果を表１〜５に記載した。使用した原料は以下に記
載した。 ＣＡ：シアヌル酸 ＰＯ：プロピレンオキシド ＢＯ：ブチレンオキシド ＥＯ：エチレンオキシド ＴＥＰ：エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド ＨＣｌ：塩酸 ＣＨ：プロピレンクロロヒドリン ＨＳ：９６％硫酸 ＡＡ：酢酸 ＰＴＳ：パラトルエンスルホン酸 ＺＣ：塩化亜鉛 ＭＳ：メチルセロソルブ（溶媒） 生成物(1)：トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシ
アヌレート 生成物(2)：トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシア
ヌレート 生成物(3)：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート また、表中の（−−）はそれらの成分を添加しない事を
示す。
件を変えて、実施例、参考例、及び比較例を実施してそ
の結果を表１〜５に記載した。使用した原料は以下に記
載した。 ＣＡ：シアヌル酸 ＰＯ：プロピレンオキシド ＢＯ：ブチレンオキシド ＥＯ：エチレンオキシド ＴＥＰ：エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド ＨＣｌ：塩酸 ＣＨ：プロピレンクロロヒドリン ＨＳ：９６％硫酸 ＡＡ：酢酸 ＰＴＳ：パラトルエンスルホン酸 ＺＣ：塩化亜鉛 ＭＳ：メチルセロソルブ（溶媒） 生成物(1)：トリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシ
アヌレート 生成物(2)：トリス（２−ヒドロキシブチル）イソシア
ヌレート 生成物(3)：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ヌレート また、表中の（−−）はそれらの成分を添加しない事を
示す。
【００５０】純度の測定は高速液体クロマトグラフィー
内標分析法（ＨＰＬＣ−ＩＳ法）に基づき行った。即
ち、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を使用
し、検出器として島津社製、商品名ＳＰＤ−１０Ａｖｐ
を用い、検出波長２１０ｎｍで行った。また使用カラム
はＧＬサイエンス社製、商品名Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤ
Ｓ−２を用い、カラム温度は４０℃であった。そして溶
離液はメタノール：水＝１：６であり、流量が１ｍｌ／
分で行った。
内標分析法（ＨＰＬＣ−ＩＳ法）に基づき行った。即
ち、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を使用
し、検出器として島津社製、商品名ＳＰＤ−１０Ａｖｐ
を用い、検出波長２１０ｎｍで行った。また使用カラム
はＧＬサイエンス社製、商品名Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤ
Ｓ−２を用い、カラム温度は４０℃であった。そして溶
離液はメタノール：水＝１：６であり、流量が１ｍｌ／
分で行った。
【００５１】内標液としてレゾルシン０．１ｇをメタノ
ールにて５００ｍｌに溶解、希釈して用いた。
ールにて５００ｍｌに溶解、希釈して用いた。
【００５２】実施例１の純度測定は、まず再結晶を数十
回繰り返したトリス−（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレート０．２ｇをメタノールにて１００ｍｌに溶
解、希釈し、この標品液１０ｍｌと内標液１０ｍｌを併
せメタノールにて５０ｍｌに希釈した。ＨＰＬＣに１０
μＬ注入し、これを検量線とした。実施例１で得られた
トリス−（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレート
０．２ｇをメタノールで１００ｍｌに溶解、希釈し、こ
の分析液１０ｍｌと内標液１０ｍｌを併せメタノールで
５０ｍｌに希釈した。ＨＰＬＣに１０μＬ注入し、その
結果から検量線を用い純度を計算した。
回繰り返したトリス−（２−ヒドロキシプロピル）イソ
シアヌレート０．２ｇをメタノールにて１００ｍｌに溶
解、希釈し、この標品液１０ｍｌと内標液１０ｍｌを併
せメタノールにて５０ｍｌに希釈した。ＨＰＬＣに１０
μＬ注入し、これを検量線とした。実施例１で得られた
トリス−（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレート
０．２ｇをメタノールで１００ｍｌに溶解、希釈し、こ
の分析液１０ｍｌと内標液１０ｍｌを併せメタノールで
５０ｍｌに希釈した。ＨＰＬＣに１０μＬ注入し、その
結果から検量線を用い純度を計算した。
【００５３】また、標品液と分析液を対応する実施例及
び比較例の分析液に変えて同様に純度測定を行った。
び比較例の分析液に変えて同様に純度測定を行った。
【００５４】また、分解物の測定もHPLCによって行い、
「なし」とは２１０ｎｍの検出波長で検出されないこと
を示し、「有り」とは２１０ｎｍの検出波長で検出され
たことを示す。
「なし」とは２１０ｎｍの検出波長で検出されないこと
を示し、「有り」とは２１０ｎｍの検出波長で検出され
たことを示す。
【００５５】
【表１】 表１ ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 例 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５ ――――――――――――――――――――――――――――――――――― ＣＡ 129g 129g 129g 129g 129g ＰＯ 177g 203g −− −− −− ＢＯ −− −− 220g 252g 252g ＥＯ −− −− −− −− −− ＭＳ 129g 129g 129g 129g 129g ＴＥＰ 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g ＨＣｌ 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g ＣＨ −− −− −− −− −− ＨＳ −− −− −− −− −− ＡＡ −− −− −− −− −− ＰＴＳ −− −− −− −− −− ＺＣ −− −− −− −− −− 反応温度℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 反応時間Ｈ 20H 20H 20H 20H 48H 生成物 (1) (1) (2) (2) (2) 収率％ 99.7％ 99.7％ 99.5％ 99.5％ 99.0％ 純度 95.0％ 95.0％ 95.0％ 95.0％ 95.0％ 分解物 なし なし なし なし なし ―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００５６】
【表２】 表２ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― 例 実施例６ 実施例７ 実施例８ 実施例９ 実施例１０ ―――――――――――――――――――――――――――――――――――― ＣＡ 129g 129g 129ｇ 129g 129g ＰＯ −− −− 203g −− −− ＢＯ 252g 252g −− −− −− ＥＯ −− −− −− 135.5g 145.2g ＭＳ 129g 129g 129g 129g 129g ＴＥＰ 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g ＨＣｌ 6.45g 12.9g −− 1.29g 1.29g ＣＨ −− −− 1.29g −− −− ＨＳ −− −− −− −− −− ＡＡ −− −− −− −− −− ＰＴＳ −− −− −− −− −− ＺＣ −− −− −− −− −− 反応温度℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 反応時間Ｈ 48H 48H 20H 20H 20H 生成物 (2) (2) (1) (3) (3) 収率％ 99.3％ 99.5％ 95.0％ 99.5％ 99.5％ 純度 95.0％ 95.0％ 95.0％ 95.0％ 95.0％ 分解物 なし なし なし なし なし ―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００５７】
【表３】 表３ ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 例 参考例１ 参考例２ 参考例３ 参考例４ 参考例５ ――――――――――――――――――――――――――――――――――― ＣＡ 129g 129g 129g 129g 129g ＰＯ 177g 203ｇ −− −− −− ＢＯ −− −− 220g 252g 252g ＥＯ −− −− −− −− −− ＭＳ 129g 129g 129g 129g 129g ＴＥＰ 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g ＨＣｌ −− −− −− −− −− ＣＨ −− −− −− −− −− ＨＳ −− −− −− −− −− ＡＡ −− −− −− −− −− ＰＴＳ −− −− −− −− −− ＺＣ −− −− −− −− −− 反応温度℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 反応時間Ｈ 20H 20H 20H 20H 48H 生成物 (1) (1) (2) (2) (2) 収率％ 90.2％ 62.1％ 89.5％ 68.5％ 4.0％ 純度 90％ 60％ 90％ 65％ 4％ 分解物 有り 有り 有り 有り 有り ―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００５８】
【表４】 表４ ―――――――――――――――――――――――――――――――――― 例 参考例６ 参考例７ 比較例１ 比較例２ 比較例３ ＣＡ 129g 129g 129g 129g 129g ＰＯ −− −− 203g 203g 203g ＢＯ −− −− −− −− −− ＥＯ 135.5g 145.2g −− −− −− ＭＳ 129g 129g 129g 129g 129g ＴＥＰ 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g 1.29g ＨＣｌ なし なし −− −− −− ＣＨ −− −− −− −− −− ＨＳ −− −− 1.29g −− −− ＡＡ −− −− −− 1.29g −− ＰＴＳ −− −− −− −− 1.29g ＺＣ −− −− −− −− −− 反応温度℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 反応時間Ｈ 20H 20H 20H 20H 20H 生成物 (3) (3) (1) (1) (1) 収率％ 90％ 20％ 0％ 55.4％ 71.7％ 純度 90％ 20％ −− 50％ 70％ 分解物 有り 有り −− 有り 有り ――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００５９】
【表５】 表５ ―――――――――――――――――――――――――――――― 例 比較例４ 比較例５ 比較例６ 比較例７ ―――――――――――――――――――――――――――――― ＣＡ 129g 129g 129g 129g ＰＯ 203g 180g 180g 180g ＢＯ −− −− −− −− ＥＯ −− −− −− −− ＭＳ 129g −− 129g 129g ＴＥＰ 1.29g −− −− −− ＨＣｌ −− −− −− −− ＣＨ −− 129g 1.29g 1.29g ＨＳ −− −− −− −− ＡＡ −− −− −− −− ＰＴＳ −− −− −− −− ＺＣ −− −− −− −− 反応温度℃ 120℃ 120℃ 120℃ 120℃ 反応時間Ｈ 20H 5H 5H 24H 生成物 (1) (1) (1) (1) 収率％ 79.9％ 0.4％ 0.2％ 2.2％ 純度 80% −− −− −− 分解物 有り −− −− −− ―――――――――――――――――――――――――――――― 実施例１〜４では、参考例１〜４との対比から、エポキ
シ化合物と塩酸が共存する系では、シアヌル酸に対して
当量以上のエポキシ化合物を反応系に添加しても得られ
たトリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレート
及びトリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
の分解を抑制する事が可能である事が分かる。また、実
施例５と参考例５との対比から、実施例５のエポキシ化
合物と塩酸が共存する系では、長時間の反応を行っても
生成物の分解が発生しないことが分かる。即ち、シアヌ
ル酸とエポキシ化合物に第４級ホスホニウム塩の存在下
で反応させる場合（参考例）に比べて、本願発明の第４
級ホスホニウム塩と塩酸を併存させておくことにより反
応のコントロールが容易であるばかりか、反応中間体を
削減、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト及びその関連化合物の分解抑制ができ製品の純度が向
上する。
シ化合物と塩酸が共存する系では、シアヌル酸に対して
当量以上のエポキシ化合物を反応系に添加しても得られ
たトリス（２−ヒドロキシプロピル）イソシアヌレート
及びトリス（２−ヒドロキシブチル）イソシアヌレート
の分解を抑制する事が可能である事が分かる。また、実
施例５と参考例５との対比から、実施例５のエポキシ化
合物と塩酸が共存する系では、長時間の反応を行っても
生成物の分解が発生しないことが分かる。即ち、シアヌ
ル酸とエポキシ化合物に第４級ホスホニウム塩の存在下
で反応させる場合（参考例）に比べて、本願発明の第４
級ホスホニウム塩と塩酸を併存させておくことにより反
応のコントロールが容易であるばかりか、反応中間体を
削減、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト及びその関連化合物の分解抑制ができ製品の純度が向
上する。
【００６０】また、比較例１〜４に示される様に、第４
級ホスホニウム塩が存在していても塩酸以外の酸性物質
では収率が低く、そして比較例５〜７に示される様に、
プロピレンオキシドにプロピレンクロロヒドリンを共存
させプロピレンクロロヒドリンを溶媒自体に使用した場
合や、プロピレンオキシドの一部が塩酸添加によってプ
ロピレンクロロヒドリンに変化した場合でも、第４級ホ
スホニウム塩が存在しなければほとんど反応が進行しな
い。
級ホスホニウム塩が存在していても塩酸以外の酸性物質
では収率が低く、そして比較例５〜７に示される様に、
プロピレンオキシドにプロピレンクロロヒドリンを共存
させプロピレンクロロヒドリンを溶媒自体に使用した場
合や、プロピレンオキシドの一部が塩酸添加によってプ
ロピレンクロロヒドリンに変化した場合でも、第４級ホ
スホニウム塩が存在しなければほとんど反応が進行しな
い。
【００６１】参考例１〜５の方法では反応が進行し、未
反応物がなくなり酸価がほぼゼロに近づくと生成物の分
解による塩基性分解物（アミン系化合物）が発生する。
この塩基性分解物の混入を避けるために酸価がゼロに近
づく前（酸価＝０．００５付近）で反応を止め、あえて
未反応物（例えば未反応物とはシアヌル酸の３個の水素
の少なくとも一つが残っている状態である。）を少し残
す方法で生成物を得ていた。
反応物がなくなり酸価がほぼゼロに近づくと生成物の分
解による塩基性分解物（アミン系化合物）が発生する。
この塩基性分解物の混入を避けるために酸価がゼロに近
づく前（酸価＝０．００５付近）で反応を止め、あえて
未反応物（例えば未反応物とはシアヌル酸の３個の水素
の少なくとも一つが残っている状態である。）を少し残
す方法で生成物を得ていた。
【００６２】ところが、本願発明では生成物の酸価は検
出限界以下である。（０．１ＮのＫＯＨ水溶液で中和滴
定を行い、０．００１モル／ｋｇ以下を検出限界とし
た。）本願発明は酸価の値が検出限界以下となる終点ま
で反応を完結し、場合によっては終点を越え加熱を行っ
ても塩基性分解物の発生がない。これは塩酸酸性下又は
塩酸とアルキレンオキシドが反応して生ずるアルキレン
クロルヒドリンの存在によって、この塩基性分解物の発
生を抑制できるものである。
出限界以下である。（０．１ＮのＫＯＨ水溶液で中和滴
定を行い、０．００１モル／ｋｇ以下を検出限界とし
た。）本願発明は酸価の値が検出限界以下となる終点ま
で反応を完結し、場合によっては終点を越え加熱を行っ
ても塩基性分解物の発生がない。これは塩酸酸性下又は
塩酸とアルキレンオキシドが反応して生ずるアルキレン
クロルヒドリンの存在によって、この塩基性分解物の発
生を抑制できるものである。
【００６３】本願発明は第４級ホスホニウム塩の触媒作
用により反応を促進し９９％以上の高収率を達成し、且
つ反応終点に達しても塩酸乃至アルキレンクロルヒドリ
ンの存在によって塩基性分解物の発生がないため純度も
９５％以上である。
用により反応を促進し９９％以上の高収率を達成し、且
つ反応終点に達しても塩酸乃至アルキレンクロルヒドリ
ンの存在によって塩基性分解物の発生がないため純度も
９５％以上である。
【００６４】この様に第４級ホスホニウム塩と、塩酸又
はアルキレンクロルヒドリンとが両者同時に存在して互
いに機能を発揮し相乗効果をもたらし、トリス−（２−
ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合
物の製造が収率良く純度の高いものとすることを見出し
た。
はアルキレンクロルヒドリンとが両者同時に存在して互
いに機能を発揮し相乗効果をもたらし、トリス−（２−
ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化合
物の製造が収率良く純度の高いものとすることを見出し
た。
【００６５】そして、第４級ホスホニウム塩と組み合わ
せる事が可能な成分は、硫酸、酢酸、パラトルエンスル
ホン酸等の酸では効果がなく、第４級ホスホニウム塩と
塩酸又はその塩酸とエポキシ化合物が反応して生ずるア
ルキレンクロルヒドリンによってのみ相乗効果が得られ
るものである。
せる事が可能な成分は、硫酸、酢酸、パラトルエンスル
ホン酸等の酸では効果がなく、第４級ホスホニウム塩と
塩酸又はその塩酸とエポキシ化合物が反応して生ずるア
ルキレンクロルヒドリンによってのみ相乗効果が得られ
るものである。
【００６６】この様に本願発明は、反応の終点の手前で
反応を止める必要がないので反応操作が簡単である。ま
た、酸価がほぼゼロに近いため未反応物が残留すること
がなく、しかも生成物の分解による塩基性分解物の混入
もないので、得られる生成物の純度が高いため、従来品
はガラス状の半固化体でしかなかった性状のものが、完
全な固化体として取り扱えるため、生成物の回収という
点で工程上、有利である。
反応を止める必要がないので反応操作が簡単である。ま
た、酸価がほぼゼロに近いため未反応物が残留すること
がなく、しかも生成物の分解による塩基性分解物の混入
もないので、得られる生成物の純度が高いため、従来品
はガラス状の半固化体でしかなかった性状のものが、完
全な固化体として取り扱えるため、生成物の回収という
点で工程上、有利である。
【００６７】
【発明の効果】従来は分解を抑制するためにアルキレン
オキシドの添加量を精度良くコントロールする必要があ
り、場合によっては反応の途中でサンプリングが必要で
あり、分解させないために反応が完結する手前で終了さ
せ、それによって多量の反応中間体が残存していた。
オキシドの添加量を精度良くコントロールする必要があ
り、場合によっては反応の途中でサンプリングが必要で
あり、分解させないために反応が完結する手前で終了さ
せ、それによって多量の反応中間体が残存していた。
【００６８】本願発明は、シアヌル酸とエポキシ化合物
とを、第４級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中で
反応させることによるトリス（２−ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート及びその関連化合物の製造方法であ
る。
とを、第４級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中で
反応させることによるトリス（２−ヒドロキシエチル）
イソシアヌレート及びその関連化合物の製造方法であ
る。
【００６９】本願発明では塩酸を共存させておくことに
より、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト及びその関連化合物の分解を抑制することができるこ
とから、シアヌル酸に対して当量以上のエポキシ化合物
を反応系に添加する事が可能であり、その結果、反応中
間体を削減でき製品の純度が向上する。
より、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト及びその関連化合物の分解を抑制することができるこ
とから、シアヌル酸に対して当量以上のエポキシ化合物
を反応系に添加する事が可能であり、その結果、反応中
間体を削減でき製品の純度が向上する。
【００７０】従って、本願発明で得られた製品は高純度
であることから、溶媒を除去した製品は容易に結晶化で
きることが分かり、従来はガラス状の半固化状態であっ
た製品が、本件製法によれば精製工程を追加しなくても
得られた製品は粉体として扱える。
であることから、溶媒を除去した製品は容易に結晶化で
きることが分かり、従来はガラス状の半固化状態であっ
た製品が、本件製法によれば精製工程を追加しなくても
得られた製品は粉体として扱える。
【００７１】本発明の製造工程では生成物のトリス（２
−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化
合物は、１４３℃で７０時間に及ぶ反応でも分解しない
熱安定性を有している。
−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート及びその関連化
合物は、１４３℃で７０時間に及ぶ反応でも分解しない
熱安定性を有している。
Claims (6)
- 【請求項１】 シアヌル酸と式（１）： 【化１】 （ただし、Ｒ1及びＲ2は、水素原子、アルキル基又は芳
香族基を示す。）で示されるエポキシ化合物とを、第４
級ホスホニウム塩と塩酸の存在下に溶媒中で反応させる
ことを特徴とする式（２）： 【化２】 で示されるシアヌル酸誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 式（１）で表されるエポキシ化合物が、
エチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチレン
オキシド、β−ブチレンオキシド、又はスチレンオキシ
ドである請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 塩酸の一部又は全部が式（１）のエポキ
シ化合物と反応して生成するクロルヒドリン化合物とし
て存在する請求項１又は請求項２に記載の製造方法。 - 【請求項４】 第４級ホスホニウム塩を、シアヌル酸に
対して０．０３〜１０重量％の割合で存在させる請求項
１乃至請求項３のいずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項５】 塩酸をシアヌル酸に対して０．１〜１０
重量％の割合で存在させる請求項１乃至請求項４のいず
れか１項に記載の製造方法。 - 【請求項６】 第４級ホスホニウム塩が、ハロゲン化エ
チルトリフェニルホスホニウムである請求項１乃至請求
項５のいずれか１項に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002029056A JP4150882B2 (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-06 | シアヌル酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001040615 | 2001-02-16 | ||
| JP2001-40615 | 2001-02-16 | ||
| JP2002029056A JP4150882B2 (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-06 | シアヌル酸誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002316980A true JP2002316980A (ja) | 2002-10-31 |
| JP4150882B2 JP4150882B2 (ja) | 2008-09-17 |
Family
ID=26609563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002029056A Expired - Fee Related JP4150882B2 (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-06 | シアヌル酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102757547A (zh) * | 2011-04-27 | 2012-10-31 | 新日铁化学株式会社 | 含磷和氮的环氧树脂 |
| CN115480018A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-12-16 | 佳化化学科技发展（上海）有限公司 | 一种测定赛克含量的方法 |
-
2002
- 2002-02-06 JP JP2002029056A patent/JP4150882B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN102757547A (zh) * | 2011-04-27 | 2012-10-31 | 新日铁化学株式会社 | 含磷和氮的环氧树脂 |
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| JP4150882B2 (ja) | 2008-09-17 |
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