JP4713966B2 - 倣い装置 - Google Patents

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Description

本発明は、凹状半球面と凸状半球面を有する固定部材と可動部材を有し、当該可動部材を対象物(例えば、基板)に押し付けて平行に倣わせるようにした倣い装置に関する。
例えば、ダイシングされた半導体チップをダイ・ボンディング装置のリードフレーム上に搬送するチップマウンタなどに用いられる倣い装置がある。この倣い装置は、凹状半球面を有する基台に、凸状半球面を有する揺動体が回動可能に支持されている。そして、半導体チップの特定面に、凸状及び凹状半球面の曲率中心にある揺動体のワーク倣い面を当接させると、揺動体が同一平面において互いに直交するX軸及びY軸を中心に回動する。この回動により、揺動体のワーク倣い面が半導体チップの特定面に合わせて傾動する。これにより、揺動体のワーク倣い面が半導体チップの特定面に対し平行になる。
ところで、このような倣い装置においては、基台と揺動体との摩擦抵抗が極めて低いため、揺動体はX軸及びY軸周りのみならず、X軸及びY軸を含む平面に対して直交するZ軸周りにも回動してしまう。この結果、位置決め精度(例えば、半導体チップを実装する際には、その実装に伴う精度)を低下させてしまう虞があった。そこで、本出願人は、倣い装置において揺動体のZ軸周りの回動を規制する装置(回り止め装置)を提案した(特許文献1参照)。
特許文献1の倣い装置は、揺動体の切欠き部分に設けられたリング状部材(球面ベース)に第1溝部と第2溝部を形成し、その第1溝部と第2溝部に支持部材を係合させることにより、揺動体がZ軸周りに回動することを規制している。
特開2002−76030号公報(段落番号[0048]〜[0065]、図5〜図10)
ところで、近時においては、位置決め精度のさらなる高精度化が要求されており、この高精度化の要求に応えるためには、回り止めの精度を上げる必要がある(例えば、±0.1°以下)。しかしながら、回り止め精度を上げるためには、例えば、特許文献1の回り止め装置では、第1,第2溝部と支持部材との間の摺動隙間を小さく(例えば、10μm)設定する必要がある。このため、倣い装置を構成する部材の製造時の精度は勿論のこと、当該部材の組立作業にも高い精度が要求され、製造コスト増に繋がる。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造コスト増を抑制しつつ、位置決め精度の高精度化を図ることができる倣い装置を提供することにある。
本発明の倣い装置は、凹状半球面及び凸状半球面のうちいずれか一方を備える固定部材に他方を備える可動部材を揺動可能に設け、前記両部材との間に加圧流体を噴出することによって前記両部材同士を非接触にし、その状態で前記可動部材を対象物に押し付けて平行に倣わせるようにした倣い装置において、前記対象物と平行に倣う前記可動部材の面に直交する第1軸周りにおける前記可動部材の回動を規制する回り止め装置を備え、前記回り止め装置は、前記第1軸に直交する第2軸方向に配置され、一方が前記可動部材に設けられるとともに他方が前記可動部材に装着される回り止め部材に設けられて摺動可能に係合される第1溝部及び第1突部と、前記第1軸及び前記第2軸に直交する第3軸方向に配置され、一方が前記回り止め部材に設けられるとともに他方が前記固定部材に装着される支持部材に設けられて摺動可能に係合される第2溝部と第2突部とを有し、前記第1溝部の内周面と前記第1突部の外周面との間には第1の隙間が設けられ、前記第1の隙間は、前記第1軸方向の間隔が前記第3軸方向の間隔より大きく形成されており、前記第2溝部の内周面と前記第2突部の外周面との間には第2の隙間が設けられ、前記第2の隙間は、前記第1軸方向の隙間が前記第2軸方向の隙間より大きく形成されており、係合し合う溝部と突部のいずれか一方には、接触回避部が設けられ前記溝部に設けられた接触回避部は、前記溝部の内方に突出して円筒形状の前記突部に係合される突条部から構成されており、前記突部に設けられた接触回避部は、前記溝部に係合される係合部位の全部又は一部を曲面で形成することにより構成されている
また、前記突部に設けられた接触回避部、前記係合部位が樽形に形成されていても良い。
また、前記突部は、圧入固定又は接着固定されていても良い。
本発明によれば、製造コスト増を抑制しつつ、位置決め精度の高精度化を図ることができる。
以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図5にしたがって説明する。
なお、以下の説明では、倣い装置10の上下(鉛直)方向をZ軸(第1軸)方向とし、このZ軸方向に対して直交し、かつ同一水平面上において互いに直交する方向をX軸(第2軸)方向及びY軸(第3軸)方向とする。
図1〜図3に示すように、本実施形態の倣い装置10は、その主要構成部材として、基台(固定部材)11と、球面ベース(可動部材)12と、一対のサイドプレート(支持部材)13と、回り止めリング(回り止め部材)14と、押さえ部材15とを備えている。そして、基台11には、球面ベース12と、回り止めリング14と、押さえ部材15とが順に積まれて装着され、基台11の対向する側面に一対のサイドプレート13が装着されている。
基台11は、平面視(Z軸方向から見た場合)正方形をなすブロック状に形成されている。基台11の一面には、凹状半球面16が形成されている。凹状半球面16の中央には、磁石(永久磁石)Mが設けられている。また、基台11の対向する側面には、サイドプレート13を装着するための複数(本実施形態では各2つ)のねじ孔17が形成されている。また、基台11には、図示しないエアポートが形成されている。エアポートは、図示しない圧力供給源に接続され、その圧力供給源から加圧流体としての加圧エアが基台11に形成された図示しないエア通路を介して凹状半球面16に供給されるようになっている。
球面ベース12は、球面部18とベース部19とから構成される。球面部18には、凸状半球面20が形成されている。凸状半球面20は、基台11の凹状半球面16と同一の曲率半径で形成されている。このため、球面ベース12は、基台11に対して装着されると、凸状半球面20が凹状半球面16に係合される。
また、球面ベース12には、凸状半球面20の反対面にベース部19が形成されている。ベース部19は、球面部18の基端側よりも小さい直径を有する円柱状に形成されている。そして、ベース部19の外周には、平坦状に切り欠かれた平坦面21が形成されている。平坦面21は、対向する2ヶ所に形成されている。
各平坦面21には、ピン挿入孔22が形成されている。そして、ベース部19の各ピン挿入孔22には、各1本の回動規制ピン(第1突部(突部))23が装着されている。本実施形態において回動規制ピン23は、ピン挿入孔22に接着固定されている。また、回動規制ピン23は、その先端がベース部19の外方に突出するように装着されている。一対の回動規制ピン23は、ベース部19の径方向に沿って、同一軸線上に配置される。本実施形態において一対の回動規制ピン(第2突部(突部))23は、X軸方向に沿って直線的に配置される。また、ベース部19には、押さえ部材15を装着するための複数(本実施形態では4つ)のねじ孔24が形成されている。
サイドプレート13は、平面視(Y軸方向から見た場合)長方形の平板状に形成されている。サイドプレート13には、複数(本実施形態では2つ)のねじ孔25が形成されている。サイドプレート13は、基台11に対して図示しないボルトなどの締結具により締結固定されている。
また、各サイドプレート13には、ピン挿入孔26が形成されている。そして、各サイドプレート13のピン挿入孔26には、各1本の回動規制ピン27が装着されている。本実施形態において回動規制ピン27は、ピン挿入孔26に圧入固定されている。また、回動規制ピン27は、その先端がサイドプレート13の外方に突出するように装着されている。一対の回動規制ピン27は、サイドプレート13が基台11に装着されると、その先端が対向し、同一軸線上に配置される。本実施形態において一対の回動規制ピン27は、Y軸方向に沿って直線的に配置される。
本実施形態の倣い装置10では、基台11に対して球面ベース12と一対のサイドプレート13が装着されると、各回動規制ピン23,27は、図1に示すように、Z軸方向に同一高さ位置で配置される。すなわち、各回動規制ピン23,27の中心軸線は、同一高さ位置に配置される。また、球面ベース12の回動規制ピン23とサイドプレート13の回動規制ピン27は、図2に示すように、直交配置される。本実施形態では、X軸とY軸によって形成されるXY平面において直交配置される。そして、回動規制ピン23と回動規制ピン27は、Z軸周りに90度間隔で、かつ交互に配置される。
回り止めリング14は、球面ベース12の球面部18と同一径をなす外周面及びベース部19よりも大きい径をなす内周面を有するリング状に形成されている。回り止めリング14は、その内周面で球面ベース12のベース部19を包囲するように球面ベース12に対して装着されている。回り止めリング14の外周には、平坦状に切り欠かれた平坦面28が形成されている。平坦面28は、4ヶ所に形成されている。各平坦面28には、ピン挿入溝29が形成されている。ピン挿入溝29は、断面凹状(矩形溝)に形成されているとともに回り止めリング14の外周面と内周面とを貫通して形成されている。また、ピン挿入溝29は、回り止めリング14の径方向に沿って同一深さで、かつ、直線的に形成されている。
各ピン挿入溝29には、回り止めリング14が球面ベース12に装着されると、図1及び図2に示すように、球面ベース12の回動規制ピン23とサイドプレート13の回動規制ピン27が摺動可能に係合される。各ピン挿入溝29は、回動規制ピン23,27の直径よりも若干大きい溝幅と溝深で形成されている。すなわち、各ピン挿入溝29は、回動規制ピン23,27が挿入された際、ピン挿入溝29と回動規制ピン23,27の外周面との間に若干の隙間(10μm)が設けられるように形成されている。
押さえ部材15は、平面視(Z軸方向から見た場合)円形の平板状に形成されている。押さえ部材15の外径は、回り止めリング14の外径と同一径で形成されている。押さえ部材15には、複数(本実施形態では4つ)のねじ孔30が形成されている。押さえ部材15は、球面ベース12に対して図示しないボルトなどの締結具により締結固定されている。また、押さえ部材15において球面ベース12に装着される装着面と反対の面には、例えば、基板などの対象物の上面(特定面)に半導体チップを圧着するための図示しないツールが装着される。本実施形態の倣い装置10では、その曲率中心がツールの先端面(基板などの対象物の表面)にある。したがって、本実施形態の倣い装置10では、ツールの先端面がワークに当接する面、すなわち、倣い面となる。そして、本実施形態では、球面ベース12においてベース部19側の面が前記対象物と平行に倣う面となる。
次に、本実施形態の倣い装置10で用いられる回動規制ピン23,27についてその構成を詳しく説明する。
本実施形態の回動規制ピン23,27は、図4(a),(b)に示すように、先端部(係合部位)31と挿入部32とからなる。本実施形態において、球面ベース12に装着される回動規制ピン23とサイドプレート13に装着される回動規制ピン27は、同一構成(形状、大きさ)とされている。挿入部32は、球面ベース12のピン挿入孔22及びサイドプレート13のピン挿入孔26に挿入される部位である。一方、先端部31は、球面ベース12及びサイドプレート13のそれぞれの外方に突出される部位である。回動規制ピン23,27は、その径方向断面が円形となる軸状に形成されている。そして、回動規制ピン23,27の先端部31は、軸方向中央が膨出し、その中央両側が縮径され、その全体が樽形となるように形成されている。すなわち、先端部31は、その全体が曲面をなすように形成されている。一方、挿入部32は、軸方向全体に亘って同一径をなす円柱状に形成されている。回動規制ピン23,27は、径方向断面が円形をなす平行ピンの先端が樽形となるように旋削などにより削り出すことで作製される。
このように構成された本実施形態の倣い装置10では、基台11に対して球面ベース12と一対のサイドプレート13が装着される。そして、この状態で回り止めリング14が球面ベース12に装着されると、図1及び図2に示すように、各ピン挿入溝29に各回動規制ピン23,27が挿入され、係合される。これにより、球面ベース12は、基台11に対してX軸周り及びY軸周りへの回動(揺動)が許容される。一方で、球面ベース12は、各回動規制ピン23,27が回り止めリング14の各ピン挿入溝29に係合されることにより、Z軸周りへの回動が規制される。本実施形態では、回り止めリング14、ピン挿入溝29、及び回動規制ピン23,27によって回り止め装置が構成される。
以下、本実施形態の倣い装置10の作用を説明する。
倣い装置10は、エアポートから加圧エアが供給されると、凹状半球面16に加圧エアが噴出される。これにより、基台11(凹状半球面16)と球面ベース12(凸状半球面20)との界面に静圧がもたらされ、球面ベース12は基台11から離間する。それと同時に、球面ベース12は、磁石Mの磁力によって基台11に引き寄せられる。したがって、球面ベース12は、基台11から離れる力と基台11に引き寄せられる力とが釣り合うことにより、凹状半球面16と凸状半球面20とが非接触な状態で回動可能に支持される。
この状態において、倣い装置10が対象物(基板など)に押し付けられる。このとき、対象物がY軸方向に沿って傾斜していれば、その傾斜角度に追従するように球面ベース12はX軸周りに回動する。これにより、対象物がY軸方向に傾斜してもいても、ツールの先端面(倣い面)は対象物に対して平行に倣う。一方、対象物がX軸方向に沿って傾斜していれば、その傾斜角度に追従するように球面ベース12はY軸周りに回動する。これにより、対象物がX軸方向に傾斜していても、ツールの先端面(倣い面)は対象物に対して平行に倣う。
また、倣い装置10では、球面ベース12のX軸周り及びY軸周りの回動(揺動)を許容するために、回動規制ピン23,27の外周とピン挿入溝29の内周との間に寸法差(本実施形態では10μm)が設けられている。この寸法差は、球面ベース12のZ軸周りの回動量、すなわち、回り止め精度に影響するため、その量は僅かな値に設定される。そして、本実施形態の倣い装置10では、回動規制ピン23,27が曲面を有するように形成されているので、組み付け時には回動規制ピン23,27とピン挿入溝29との相対的な位置関係(位置、角度)の調整が不要となる。すなわち、角部を有するピンの場合(例えば、矩形ピン)には、前記ピンを挿入するピン挿入溝に対する前記ピンの位置や角度を考慮して組み付けないと、球面ベース12の回動(揺動)により前記ピンがピン挿入溝にこじれることとなる。このように前記ピンがピン挿入溝にこじれると、球面ベース12のX軸周り及びY軸周りへの回動(揺動)が規制される。
これに対して、本実施形態の回動規制ピン23,27は、曲面を有しているので、ピン挿入溝29に対してこじれず、当該曲面が逃げの役割を担う。このため、組み付け精度を厳しく設定することなく(ピン挿入溝29に対する回動規制ピン23,27の位置や角度を高精度に調整することなく)、組み付けられる。したがって、組み付け工数の削減を図りつつ、球面ベース12のX軸周り及びY軸周りの回動量(揺動量)も確保され、位置決め精度を向上し得る。図5(a)は、回り止めリング14のピン挿入溝29に回動規制ピン23,27が真っ直ぐに挿入された状態を示し、図5(b)は、ピン挿入溝29に回動規制ピン23,27が傾いて挿入された状態を示す。図5(b)に示すように回動規制ピン23,27が挿入されても、回動規制ピン23,27の先端部31が曲面を有することでピン挿入溝29に対してこじれない。本実施形態では、先端部31が曲面を有することにより、当該先端部31の先端がピン挿入溝29の内面に当接せず逃がされ、接触を回避する接触回避部となる。
したがって、本実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
(1)球面ベース12の回り止めとなる回動規制ピン23,27を、その係合部31が曲面を有するように形成した。倣い装置10では、回動規制ピン23,27がピン挿入溝29に挿入されることにより、球面ベース12のZ軸周りの回動が規制される。そして、倣い装置10では、球面ベース12がX軸周り又はY軸周りに回動した際、回動規制ピン23,27がピン挿入溝29の内面にてこじれない。このため、倣い装置10の高精度化(位置決め精度の高精度化)を図ることができる。また、回動規制ピン23,27が曲面を有することにより、ピン挿入溝29の内面でこじないので、倣い装置10の組み付け時には回動規制ピン23,27とピン挿入溝29との相対的な位置関係(位置や角度)を精度良く調整する必要がない。したがって、製造コスト増を抑制できる。
(2)回動規制ピン23,27は、球面ベース12及びサイドプレート13に対して圧入固定又は接着固定した。このため、回動規制ピン23,27の組み付けを簡素化することができる。すなわち、回動規制ピン23,27がピン挿入溝29の内面でこじないので、回動規制ピン23,27の組み付け精度を厳しく設定する必要がなく、圧入固定や接着固定で対応することができる。したがって、倣い装置10の製造工程を簡素化でき、製造コスト増を抑制できる。
(3)回動規制ピン23,27を樽形に形成した。このため、回動規制ピン23,27を平行ピンなどの丸棒材から旋削などにより簡単に作製することができる。したがって、倣い装置10の製造コスト増を抑制できる。
(4)サイドプレート13を、基台11に対してボルトなどにより締結固定した。このため、回動規制ピン23,27の組み付けを簡素化することができる。すなわち、回動規制ピン23,27がピン挿入溝29の内面でこじないので、回動規制ピン23,27の組み付け精度を厳しく設定する必要がなく、締結固定で対応することができる。したがって、倣い装置10の製造工程を簡素化でき、製造コスト増を抑制できる。
なお、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
○ 実施形態において、回動規制ピン23,27の係合部31の形状を、図6に示すように変更しても良い。図6(a)は、係合部31が球状に形成された回動規制ピン23,27である。図6(b)は、係合部31の両端部に曲面を形成し(R面取り)、その中央部を円柱状に形成した回動規制ピン23,27である。すなわち、回動規制ピン23,27は、角部を排除した形状であれば、球面のように全体が曲面となるように形成しても良いし、一部を曲面に形成しても良い。
○ 実施形態において、回動規制ピン23,27やピン挿入溝29の形状を、図7に示すように変更しても良い。図7の別例では、回り止めリング46の形状が前記実施形態の回り止めリング14の形状と同一であり、回り止めリング46に形成されたピン挿入溝47の形状が前記実施形態と異なっている。また、図の別例では、回動規制ピン48が円筒型(径方向断面が円形)の平行ピンとされている。図の別例において、ピン挿入溝47は、断面凹状に形成され、その延設方向の中央であって両溝側面には溝内に突出する突条部(係合部位)49が形成されている。突条部49は、溝の深さ方向に向かって同一突出幅で延設されている。この別例において、突条部49は、厚みX(ピンの軸方向(ピン挿入溝の延設方向)に沿う厚み)が、1mm又はそれ以下となるように形成されていることが好ましい。この構成により、回動規制ピン48は、ピン挿入溝47内でこじれず、倣い装置10の組み付け時には回動規制ピン48とピン挿入溝47との相対的な位置関係(位置や角度)を精度良く調整する必要がない。図7の別例では、ピン挿入溝47内に突出する突条部49を形成することにより、回動規制ピン48の角部(先端)がピン挿入溝47の内面に当接せず逃がされ、突条部49が接触を回避する接触回避部となる。
○ 実施形態において、回り止めリング14に回動規制ピン23を装着し、球面ベース12にピン挿入溝29を形成しても良い。また、回り止めリング14に回動規制ピン27を装着し、サイドプレート13にピン挿入溝29を形成しても良い。
○ 実施形態において、基台11に凸状半球面20を形成し、球面ベース12に凹状半球面16を形成しても良い。
○ 実施形態において、サイドプレート13を基台11に対して装着する方法は変更しても良い。例えば、溶接固定しても良い。
○ 実施形態において、回動規制ピン23を球面ベース12に圧入固定しても良いし、回動規制ピン27をサイドプレート13に接着固定しても良い。また、各回動規制ピン23,27を、球面ベース12及びサイドプレート13に圧入固定又は接着固定しても良い。
○ 実施形態において、基台11を平面視長方形や円形をなすブロック状に形成しても良い。また、サイドプレート13の形状を変更しても良い。
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想を以下に追記する。
(イ)凹状半球面及び凸状半球面のうちいずれか一方を備える固定部材に他方を備える可動部材を揺動可能に設け、前記両部材との間に加圧流体を噴出することによって前記両部材同士を非接触にし、その状態で前記可動部材を対象物に押し付けて平行に倣わせるようにした倣い装置において、前記対象物と平行に倣う前記可動部材の面に直交する第1軸周りにおける前記可動部材の回動を規制する回り止め装置を備え、前記回り止め装置は、前記第1軸に直交する第2軸方向に配置され、一方が前記可動部材に設けられるとともに他方が前記可動部材に装着される回り止め部材に設けられて摺動可能に係合される第1溝部及び第1突部と、前記第1軸及び前記第2軸に直交する第3軸方向に配置され、一方が前記回り止め部材に設けられるとともに他方が前記固定部材に装着される支持部材に設けられて摺動可能に係合される第2溝部と第2突部とを有し、前記第1突部及び前記第2突部は、前記第1溝部及び第2溝部に係合される係合部位の全部又は一部が曲面で形成されている。
(ロ)支持部材は、固定部材に対して締結具により締結固定されている。
(ハ)第1溝部及び第2溝部は断面凹状に形成されている一方で、第1突部及び第2突部は断面円形に形成されている。
倣い装置の正面図。 倣い装置の平面図。 倣い装置の分解斜視図。 (a)は回り止めリングと回動規制ピンを示す斜視図、(b)は回動規制ピンの側面図。 (a),(b)はピン挿入溝に回動規制ピンが挿入された状態を示す平面図。 (a),(b)は別例の回動規制ピンを示す側面図 別例の回動規制ピンと回り止めリングを示す平面図。
符号の説明
10…倣い装置、11…基台(固定部材)、12…球面ベース(可動部材)、13…サイドプレート(支持部材)、14…回り止めリング(回り止め部材)、16…凹状半球面、20…凸状半球面、23…回動規制ピン(第1突部)、27…回動規制ピン(第2突部)、29…ピン挿入溝(第1溝部、第2溝部)、31…先端部(接触回避部)、47…ピン挿入溝(第1溝部、第2溝部)、48…回動規制ピン(第1突部、第2突部)、49…突条部(接触回避部)。

Claims (4)

  1. 凹状半球面及び凸状半球面のうちいずれか一方を備える固定部材に他方を備える可動部材を揺動可能に設け、前記両部材との間に加圧流体を噴出することによって前記両部材同士を非接触にし、その状態で前記可動部材を対象物に押し付けて平行に倣わせるようにした倣い装置において、
    前記対象物と平行に倣う前記可動部材の面に直交する第1軸周りにおける前記可動部材の回動を規制する回り止め装置を備え、
    前記回り止め装置は、
    前記第1軸に直交する第2軸方向に配置され、一方が前記可動部材に設けられるとともに他方が前記可動部材に装着される回り止め部材に設けられて摺動可能に係合される第1溝部及び第1突部と、
    前記第1軸及び前記第2軸に直交する第3軸方向に配置され、一方が前記回り止め部材に設けられるとともに他方が前記固定部材に装着される支持部材に設けられて摺動可能に係合される第2溝部と第2突部とを有し、
    前記第1溝部の内周面と前記第1突部の外周面との間には第1の隙間が設けられ、前記第1の隙間は、前記第1軸方向の間隔が前記第3軸方向の間隔より大きく形成されており、
    前記第2溝部の内周面と前記第2突部の外周面との間には第2の隙間が設けられ、前記第2の隙間は、前記第1軸方向の隙間が前記第2軸方向の隙間より大きく形成されており、
    前記第1突部及び第2突部には、接触回避部が設けられ
    前記接触回避部は、前記溝部に係合される係合部位の全部又は一部を曲面で形成することにより構成されていることを特徴とする倣い装置。
  2. 前記接触回避部は、前記係合部位が樽形に形成されていることを特徴とする請求項に記載の倣い装置。
  3. 凹状半球面及び凸状半球面のうちいずれか一方を備える固定部材に他方を備える可動部材を揺動可能に設け、前記両部材との間に加圧流体を噴出することによって前記両部材同士を非接触にし、その状態で前記可動部材を対象物に押し付けて平行に倣わせるようにした倣い装置において、
    前記対象物と平行に倣う前記可動部材の面に直交する第1軸周りにおける前記可動部材の回動を規制する回り止め装置を備え、
    前記回り止め装置は、
    前記第1軸に直交する第2軸方向に配置され、一方が前記可動部材に設けられるとともに他方が前記可動部材に装着される回り止め部材に設けられて摺動可能に係合される第1溝部及び第1突部と、
    前記第1軸及び前記第2軸に直交する第3軸方向に配置され、一方が前記回り止め部材に設けられるとともに他方が前記固定部材に装着される支持部材に設けられて摺動可能に係合される第2溝部と第2突部とを有し、
    前記第1溝部の内周面と前記第1突部の外周面との間には第1の隙間が設けられ、前記第1の隙間は、前記第1軸方向の間隔が前記第3軸方向の間隔より大きく形成されており、
    前記第2溝部の内周面と前記第2突部の外周面との間には第2の隙間が設けられ、前記第2の隙間は、前記第1軸方向の隙間が前記第2軸方向の隙間より大きく形成されており、
    前記第1溝部及び第2溝部には、接触回避部が設けられ
    前記接触回避部は、前記溝部の内方に突出して円筒形状の前記突部に係合される突条部から構成されていることを特徴とする倣い装置。
  4. 前記突部は、圧入固定又は接着固定されていることを特徴とする請求項1〜請求項のうちいずれか一項に記載の倣い装置
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