JP4713223B2 - パターン転写装置及び転写方法 - Google Patents
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Description
特許文献1にはそのような走査型露光装置が示されている。
上記基板が載置され第1の駆動手段によって駆動されるテーブルと、
転写用の照明光を出射する光源と、
上記光源から出射された照明光を上記マスクに入射させる第1のスキャニングミラーと、
この第1のスキャニングミラーを回転させて上記照明光を上記マスクに走査させる第2の駆動手段と、
上記マスクから出射した照明光が入射する第2のスキャニングミラーと、
この第2のスキャニングミラーを回転させて上記マスクから出射した照明光を上記基板に照射させる第3の駆動手段と、
上記第1の駆動手段を制御して上記テーブルを所定方向に一定速度で駆動するとともに、上記第2、第3の駆動手段を制御して上記第1のスキャニングミラーと上記第2のスキャニングミラーとを、上記マスクのパターンが上記基板の上記所定方向に沿って一定間隔で転写されるよう、上記テーブルの動きに同期させて回転する制御手段と
を具備したことを特徴とするパターン転写装置にある。
上記基板を所定方向に一定速度で駆動する工程と、
上記マスクに照明光を走査する工程と、
上記マスクを透過した照明光を上記基板に走査して上記マスクのパターンを上記基板に転写する工程と、
上記パターンを上記基板に転写するときに、上記基板の駆動速度に上記マスクに対する照明光の走査速度と上記基板に対する上記パターンの転写速度を同期させ、上記基板に上記パターンを一定間隔で転写する工程を具備し、
上記基板を往復動させ、往動時には上記マスクのパターンを上記基板に一定間隔で転写し、復動時には往動時に転写されたパターン間に上記マスクのパターンを転写することを特徴とするパターンの転写方法にある。
図1はフラットディスプレイパネルに用いられるガラス製の基板Wにパターンを転写するパターン転写装置の転写光学系1を示す。この転写光学系1は転写用の照明光としてのレーザ光Lを出力する光源2を有する。光源2としてはYAGレーザなどの固体レーザ装置、半導体レーザ装置、炭酸ガスレーザなどのガスレーザ装置が用いられる。
まず、テーブル14をX、Y方向に駆動して基板Wを所定の位置に位置決めしたならば、光源2からレーザ光Lを出射する。それと同時に、テーブル14を図1に矢印で示す−X方向に一定の速度Vで駆動する。
Claims (5)
- マスクに形成されたパターンを基板に転写するパターン転写装置であって、
上記基板が載置され第1の駆動手段によって駆動されるテーブルと、
転写用の照明光を出射する光源と、
上記光源から出射された照明光を上記マスクに入射させる第1のスキャニングミラーと、
この第1のスキャニングミラーを回転させて上記照明光を上記マスクに走査させる第2の駆動手段と、
上記マスクから出射した照明光が入射する第2のスキャニングミラーと、
この第2のスキャニングミラーを回転させて上記マスクから出射した照明光を上記基板に照射させる第3の駆動手段と、
上記第1の駆動手段を制御して上記テーブルを所定方向に一定速度で駆動するとともに、上記第2、第3の駆動手段を制御して上記第1のスキャニングミラーと上記第2のスキャニングミラーとを、上記マスクのパターンが上記基板の上記所定方向に沿って一定間隔で転写されるよう、上記テーブルの動きに同期させて回転する制御手段と
を具備したことを特徴とするパターン転写装置。 - 上記制御手段は、上記テーブルを上記所定方向に対して往復動させるとともに、往動時に上記マスクのパターンを上記基板に上記一定間隔で転写させ、復動時には往動時に一定間隔で転写されたパターン間に上記マスクのパターンが転写されるよう上記テーブルの動きに上記第1、第2のスキャニングミラーの回転を同期させることを特徴とする請求項1記載のパターンの転写装置。
- 上記制御手段は、上記第2のスキャニングミラーを回転させて上記マスクのパターンを上記基板に転写させたならば、この第2のスキャニングミラーを元の回転位置に戻すとともに、その間に上記テーブルを上記基板に転写される上記マスクのパターンの1ピッチ分だけ駆動することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のパターン転写装置。
- 上記制御手段は、上記第2のスキャニングミラーを回転させて上記マスクのパターンを上記基板に転写させたならば、上記第2のスキャニングミラーとともに上記第1のスキャニングミラーを元の回転位置に戻すとともに、その間に上記テーブルを上記基板に転写される上記マスクのパターンの1ピッチ分だけ駆動することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のパターン転写装置。
- マスクに形成されたパターンを基板に転写するパターン転写方法であって、
上記基板を所定方向に一定速度で駆動する工程と、
上記マスクに照明光を走査する工程と、
上記マスクを透過した照明光を上記基板に走査して上記マスクのパターンを上記基板に転写する工程と、
上記パターンを上記基板に転写するときに、上記基板の駆動速度に上記マスクに対する照明光の走査速度と上記基板に対する上記パターンの転写速度を同期させ、上記基板に上記パターンを一定間隔で転写する工程を具備し、
上記基板を往復動させ、往動時には上記マスクのパターンを上記基板に一定間隔で転写し、復動時には往動時に転写されたパターン間に上記マスクのパターンを転写することを特徴とするパターンの転写方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005154190A JP4713223B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | パターン転写装置及び転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005154190A JP4713223B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | パターン転写装置及び転写方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330386A JP2006330386A (ja) | 2006-12-07 |
JP2006330386A5 JP2006330386A5 (ja) | 2008-01-17 |
JP4713223B2 true JP4713223B2 (ja) | 2011-06-29 |
Family
ID=37552130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005154190A Active JP4713223B2 (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | パターン転写装置及び転写方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4713223B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR3000698B1 (fr) * | 2013-01-09 | 2015-02-06 | Phidias Technologies | Fabrication d'un objet en volume par lithographie, a resolution spatiale amelioree |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07335516A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2001205846A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ描画方法及び描画装置 |
-
2005
- 2005-05-26 JP JP2005154190A patent/JP4713223B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07335516A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
JP2001205846A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ描画方法及び描画装置 |
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JP2006330386A (ja) | 2006-12-07 |
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