JP4712320B2 - 2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法 - Google Patents

2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4712320B2
JP4712320B2 JP2004178957A JP2004178957A JP4712320B2 JP 4712320 B2 JP4712320 B2 JP 4712320B2 JP 2004178957 A JP2004178957 A JP 2004178957A JP 2004178957 A JP2004178957 A JP 2004178957A JP 4712320 B2 JP4712320 B2 JP 4712320B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenylacetonitrile
phenyl
epichlorohydrin
oxabicyclo
oxo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004178957A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006001871A (ja
Inventor
善英 新本
洋治 熊澤
修 徳田
興 川見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2004178957A priority Critical patent/JP4712320B2/ja
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to KR1020077000208A priority patent/KR101185278B1/ko
Priority to CA2568901A priority patent/CA2568901C/en
Priority to CNB2005800184451A priority patent/CN100513402C/zh
Priority to EP05751076A priority patent/EP1757597B1/en
Priority to PT05751076T priority patent/PT1757597E/pt
Priority to AT05751076T priority patent/ATE553101T1/de
Priority to ZA200700131A priority patent/ZA200700131B/en
Priority to AU2005254872A priority patent/AU2005254872B2/en
Priority to US11/629,515 priority patent/US20080064885A1/en
Priority to PCT/JP2005/011221 priority patent/WO2005123709A1/ja
Priority to ES05751076T priority patent/ES2383812T3/es
Publication of JP2006001871A publication Critical patent/JP2006001871A/ja
Priority to IL179505A priority patent/IL179505A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4712320B2 publication Critical patent/JP4712320B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/93Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered

Description

本発明は、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法に関する。
2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンは、うつ病治療薬として近年注目されている(Z)−1−フェニル−1−ジエチルアミノカルボニル−2−アミノメチルシクロプロパン塩酸塩の合成中間体として有用である。
2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの合成方法としては、例えば、フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとを、ナトリウムアミドの存在下、ベンゼン中で反応させ、加水分解、次いで、酸性化を行う方法(特許文献1参照)、
Figure 0004712320
フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとを、ナトリウムアミドの存在下、ベンゼン中で反応させ、次いで、アルカリ加水分解、酸処理を行う方法(非特許文献1および2参照)等が挙げられる。
Figure 0004712320
しかしながら、上記合成方法では、塩基としてナトリウムアミドを使用している。ナトリウムアミドは、工業的に入手が困難であり、加水分解や空気酸化を受け易く、取り扱いが困難であるという問題がある。また、空気酸化によって爆発性物質が生成するという問題がある。
フランス国特許第2302994号公報 J.Org.Chem.,1996,61,915−923 有機合成化学協会誌、第55巻第10号、868−876頁(1997年)
本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、安全で簡便かつ工業的な2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討した結果、フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとの反応において、塩基として水素化ナトリウムを用いることによって、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンを安全で簡便かつ工業的に製造することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の通りである。
(1)フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとを水素化ナトリウムの存在下で反応させることを特徴とする、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法であって、
反応溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドンから選ばれる少なくとも1種の非プロトン性極性溶媒と、トルエンとの混合溶媒を用いる、製造方法
(2)混合溶媒中の非プロトン性極性溶媒の含量が50重量%以上である、上記(1)に記載の製造方法。
(3)非プロトン性極性溶媒がN,N’−ジメチルイミダゾリジノンである、上記(1)または(2)に記載の製造方法。
)フェニルアセトニトリル1当量に対してエピクロルヒドリンを少なくとも1当量反応させる、上記(1)〜()のいずれかに記載の製造方法。
)フェニルアセトニトリル1当量に対して水素化ナトリウムを1.1〜3.0当量用いる、上記(1)〜()のいずれかに記載の製造方法。
)反応温度が−10〜50℃である、上記(1)〜()のいずれかに記載の製造方法。
(7)フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとの反応終了後、アルカリ加水分解および酸処理を行う、上記(1)〜(6)のいずれかに記載の製造方法。
(8)アルカリ加水分解において、テトラブチルアンモニウム硫酸塩を用いる、上記(7)に記載の製造方法。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法は、フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとを水素化ナトリウムの存在下で反応させることを特徴とする。
本発明の製造方法においては、塩基として水素化ナトリウムを用いる。水素化ナトリウムの使用量は、フェニルアセトニトリル1当量に対して、好ましくは1.1〜3.0当量、より好ましくは1.2〜2.0当量である。水素化ナトリウムは、一般に鉱油中に分散した形態で市販されており、従来の製造方法において用いられるナトリウムアミドよりも加水分解や空気酸化に対してより安定で取り扱いが容易であり、また、空気酸化によって爆発性物質を生成することもない。
本発明の製造方法においては、反応溶媒として非プロトン性極性溶媒を用いてもよく、好ましくは、非プロトン性極性溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略す場合がある)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(以下、DMIと略す場合がある)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下、DMACと略す場合がある)およびN−メチルピロリドン(以下、NMPと略す場合がある)から選ばれる少なくとも1種である。DMF、DMI、DMACおよびNMPは、非プロトン性極性溶媒として、それぞれ単独で用いてもよく、あるいは、これらの2種以上を混合して用いてもよい。混合する場合、それらの混合比は特に限定されるものではない。また、反応溶媒は、非プロトン性極性溶媒とトルエンとの混合溶媒であってもよい。この場合、混合溶媒中の非プロトン性極性溶媒の含量は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは75重量%以上である。非プロトン性極性溶媒の含量が50重量%よりも少ないと、水素化ナトリウムによるフェニルアセトニトリルのアニオン化の速度が遅くなり、収率が低下するという問題がある。使用する溶媒の量は、特に限定されるものではないが、一般的にフェニルアセトニトリル1kgに対して1〜10kg、好ましくは2〜4kgである。
本発明の製造方法においては、通常、フェニルアセトニトリル1当量に対してエピクロルヒドリンを少なくとも1当量反応させる。エピクロルヒドリンが1当量よりも少ないと、収率が低下するという問題がある。一方、反応系中に未反応の(フェニルアセトニトリルに対して過剰の)エピクロルヒドリンが存在しても問題は生じないが、経済的な観点から、好ましくはフェニルアセトニトリル1当量に対してエピクロルヒドリンを1.0〜2.0当量反応させる。
反応温度は、好ましくは−10〜50℃であり、より好ましくは10〜20℃である。反応温度が−10℃よりも低いと、反応速度が遅くなるという問題があり、50℃よりも高いと、不純物(副生成物)が増加して収率が低下するという問題がある。反応時間は、反応温度によっても異なるが、通常0.5〜20時間である。
上記した水素化ナトリウムの存在下でのフェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとの反応は、水素化ナトリウム、フェニルアセトニトリルおよびエピクロルヒドリンを混合して行えばよく、これら反応物を混合する順序は特に限定されるものではない。また、反応溶媒を用いる場合は、例えば、これら反応物を反応溶媒に添加してもよく(添加する順序は特に限定されない)、あるいは、これら反応物をそれぞれ別個に反応溶媒に懸濁または溶解させ、得られたそれぞれの懸濁液または溶液を混合してもよい(混合する順序は特に限定されない)。
上記反応の終了後、(1)アルカリ加水分解および(2)酸処理を行う。
(1)アルカリ加水分解において用いられるアルカリとしては、特に限定されるものではなく、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムなどが挙げられる。中でも、価格の点から水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウムが好ましい。アルカリの使用量は、通常、フェニルアセトニトリル1当量に対して1.0〜3.0当量、好ましくは1.5〜2.0当量である。反応温度は、一般的には30〜100℃であり、好ましくは還流温度である。反応時間は、通常5〜30時間である。
また、アルカリ加水分解においては、相関移動触媒を使用してもよい。このような相関移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムサルフェート、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムサルフェート、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイドなどが挙げられる。相関移動触媒の使用量は、通常、フェニルアセトニトリル1当量に対して0.005〜0.05当量である。
(2)酸処理において用いられる酸としては、特に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、リン酸などが挙げられる。この酸処理は、一般的には、反応系のpHを0〜4、好ましくは0〜2に調整して行われる。処理温度は、一般的には10〜100℃であり、好ましくは60〜70℃である。処理時間は、通常0.5〜5時間である。
上記の製造方法により生成した目的化合物(2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサン)は、通常油状物として得られるが、必要に応じて結晶化させて結晶として単離してもよい。また、単離した結晶は、必要に応じて再結晶、クロマトグラフィーなどの慣用の手段により精製することができる。
本発明の方法により製造された2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンは、例えば、特公平5−67136号公報の記載に従って、うつ病治療薬である(Z)−1−フェニル−1−ジエチルアミノカルボニル−2−アミノメチルシクロプロパン塩酸塩に導くことができる。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
実施例1
2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造
Figure 0004712320
トルエン(26.0kg)とN,N’−ジメチルイミダゾリジノン(94.9kg)との混合溶媒に60%水素化ナトリウム(27.2kg;683mol)を加え、続いてフェニルアセトニトリル(40.2kg;343mol)を10〜20℃で滴下した。次いで、エピクロルヒドリン(31.7kg;343mol)とトルエン(26.0kg)との混合物を10〜20℃で滴下し、攪拌した。原料の消失を確認後、メタノール(22.0kg)および水(120.6kg)を加え、分液洗浄した。
得られた有機層に24%水酸化カリウム水溶液(159.1kg)およびテトラブチルアンモニウム硫酸塩(1.1kg)を加え、還流下にて反応を行った。反応終了後、分液により有機層を除去後、さらにトルエン(69.6kg)および35%塩酸(78.7kg)を加え、60〜70℃にて2時間攪拌を行った。分液後、さらに8%重曹水で2回、水で2回洗浄を行った。得られた有機層を減圧濃縮し、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンを淡黄色油状物として40.7kg得た(収率68.1%)。
得られた油状物は、さらに精製することなく、(Z)−1−フェニル−1−ジエチルアミノカルボニル−2−アミノメチルシクロプロパン塩酸塩の製造に使用することができる。
得られた2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの一部を取り出し、物性を確認した。
1H-NMR (CDCl3, 400MHz) δ 1.35 (1H, t, J=4.8Hz), 1.63 (1H, dd, J=4.8, 8.0Hz), 2.54 (1H, ddd, J=4.8, 4.8, 8.0Hz), 4.28 (1H, d, J=9.2Hz), 4.45 (1H, dd, J=4.8, 9.2Hz), 7.22-7.42 (5H, m)
本発明の方法によれば、フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとの反応において、塩基として水素化ナトリウムを用いることによって、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンを安全で簡便かつ工業的に製造することができる。

Claims (8)

  1. フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとを水素化ナトリウムの存在下で反応させることを特徴とする、2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法であって、
    反応溶媒として、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチルピロリドンから選ばれる少なくとも1種の非プロトン性極性溶媒と、トルエンとの混合溶媒を用いる、製造方法
  2. 混合溶媒中の非プロトン性極性溶媒の含量が50重量%以上である、請求項1に記載の製造方法。
  3. 非プロトン性極性溶媒がN,N’−ジメチルイミダゾリジノンである、請求項1または2に記載の製造方法。
  4. フェニルアセトニトリル1当量に対してエピクロルヒドリンを少なくとも1当量反応させる、請求項1〜のいずれかに記載の製造方法。
  5. フェニルアセトニトリル1当量に対して水素化ナトリウムを1.1〜3.0当量用いる、請求項1〜のいずれかに記載の製造方法。
  6. 反応温度が−10〜50℃である、請求項1〜のいずれかに記載の製造方法。
  7. フェニルアセトニトリルとエピクロルヒドリンとの反応終了後、アルカリ加水分解および酸処理を行う、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
  8. アルカリ加水分解において、テトラブチルアンモニウム硫酸塩を用いる、請求項7に記載の製造方法。
JP2004178957A 2004-06-16 2004-06-16 2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法 Expired - Fee Related JP4712320B2 (ja)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004178957A JP4712320B2 (ja) 2004-06-16 2004-06-16 2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法
PCT/JP2005/011221 WO2005123709A1 (ja) 2004-06-16 2005-06-14 2-オキソ-1-フェニル-3-オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法
CNB2005800184451A CN100513402C (zh) 2004-06-16 2005-06-14 2-氧代-1-苯基-3-氧杂双环[3.1.0]己烷的制造方法
EP05751076A EP1757597B1 (en) 2004-06-16 2005-06-14 Method for producing 2-oxo-1-phenyl-3-oxabicyclo[3.1.0]hexane
PT05751076T PT1757597E (pt) 2004-06-16 2005-06-14 Processo de produção de 2-oxo-1-fenil-3- oxabiciclo[3.1.0]hexano
AT05751076T ATE553101T1 (de) 2004-06-16 2005-06-14 Herstellungsverfahren für 2-oxo-1-phenyl-3- oxabicycloä3.1.0ühexan
KR1020077000208A KR101185278B1 (ko) 2004-06-16 2005-06-14 2-옥소-1-페닐-3-옥사비시클로[3.1.0]헥산의 제조 방법
AU2005254872A AU2005254872B2 (en) 2004-06-16 2005-06-14 Method for producing 2-oxo-1-phenyl-3-oxabicyclo(3.1.0)hexane
US11/629,515 US20080064885A1 (en) 2004-06-16 2005-06-14 Process for Producing 2-Oxo-1-Phenyl-3-Oxabicyclo[3.1.0]Hexane
CA2568901A CA2568901C (en) 2004-06-16 2005-06-14 Process for producing 2-oxo-1-phenyl-3-oxabicyclo[3.1.0]hexane
ES05751076T ES2383812T3 (es) 2004-06-16 2005-06-14 Procedimiento para producir 2-oxo-1-fenil-3-oxabiciclo[3.1.0]hexano
ZA200700131A ZA200700131B (en) 2004-06-16 2005-06-14 Method for producing 2-oxo-1-phenyl-3-oxabicyclo(3.1.0) hexane
IL179505A IL179505A (en) 2004-06-16 2006-11-22 Process for producing 2-oxo-1-phenyl-3-oxabicyclo[3.1.0]hexane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004178957A JP4712320B2 (ja) 2004-06-16 2004-06-16 2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006001871A JP2006001871A (ja) 2006-01-05
JP4712320B2 true JP4712320B2 (ja) 2011-06-29

Family

ID=35509610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004178957A Expired - Fee Related JP4712320B2 (ja) 2004-06-16 2004-06-16 2−オキソ−1−フェニル−3−オキサビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造方法

Country Status (13)

Country Link
US (1) US20080064885A1 (ja)
EP (1) EP1757597B1 (ja)
JP (1) JP4712320B2 (ja)
KR (1) KR101185278B1 (ja)
CN (1) CN100513402C (ja)
AT (1) ATE553101T1 (ja)
AU (1) AU2005254872B2 (ja)
CA (1) CA2568901C (ja)
ES (1) ES2383812T3 (ja)
IL (1) IL179505A (ja)
PT (1) PT1757597E (ja)
WO (1) WO2005123709A1 (ja)
ZA (1) ZA200700131B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7006685B2 (ja) 2017-04-18 2022-02-10 三菱瓦斯化学株式会社 インダンカルボアルデヒドの製造方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2941454B1 (fr) 2009-01-29 2011-04-01 Pf Medicament Proced de synthese du (1s,2r)-milnacipran
WO2014009767A1 (en) 2012-07-07 2014-01-16 Micro Labs Limited An improved process for the preparation of 1-aryl 2-aminomethyl cyclopropane carboxyamide (z) derivatives, their isomers and salts
EP2805936A1 (en) * 2013-05-20 2014-11-26 Cosma S.p.A. Process for preparing levomilnacipran HCL
WO2014203277A2 (en) * 2013-06-19 2014-12-24 Msn Laboratories Private Limited Process for the preparation of (1s,2r)-2-(aminomethyl)-n,n-diethyl-1-phenylcyclopropanearboxamide hydrochloride

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2302994A1 (fr) * 1975-03-06 1976-10-01 Fabre Sa Pierre Procede de preparation d'acides aryl-1, hydroxy methyl-2 cyclopropanes carboxyliques et de leurs lactones utiles comme intermediaires de synthese dans l'industrie pharmaceutique
JP4374287B2 (ja) * 2004-06-25 2009-12-02 住友化学株式会社 (z)−1−フェニル−1−ジエチルアミノカルボニル−2−ヒドロキシメチルシクロプロパンの製造方法
KR101070721B1 (ko) * 2004-06-25 2011-10-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 (z)-1-페닐-1-디에틸아미노카르보닐-2-히드록시메틸시클로프로판의 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7006685B2 (ja) 2017-04-18 2022-02-10 三菱瓦斯化学株式会社 インダンカルボアルデヒドの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2568901C (en) 2012-01-03
CA2568901A1 (en) 2005-12-29
EP1757597A1 (en) 2007-02-28
US20080064885A1 (en) 2008-03-13
JP2006001871A (ja) 2006-01-05
CN1964959A (zh) 2007-05-16
KR101185278B1 (ko) 2012-09-21
KR20070045180A (ko) 2007-05-02
EP1757597A4 (en) 2008-12-10
IL179505A0 (en) 2007-05-15
ATE553101T1 (de) 2012-04-15
CN100513402C (zh) 2009-07-15
AU2005254872B2 (en) 2011-04-07
EP1757597B1 (en) 2012-04-11
ES2383812T3 (es) 2012-06-26
IL179505A (en) 2011-11-30
AU2005254872A1 (en) 2005-12-29
PT1757597E (pt) 2012-05-17
WO2005123709A1 (ja) 2005-12-29
ZA200700131B (en) 2008-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6948419B2 (ja) クロマノン誘導体の新規な製造方法
WO2006016510A1 (ja) 2-アミノ-5-ヨード安息香酸の製造方法
KR101185278B1 (ko) 2-옥소-1-페닐-3-옥사비시클로[3.1.0]헥산의 제조 방법
KR101653025B1 (ko) 2-아미노-4-트리플루오로메틸피리딘류의 제조 방법
JP5622842B2 (ja) アルキルアミン誘導体の製造方法
WO2007105793A1 (ja) イソ尿素類のニトロ化方法
WO2011078296A1 (ja) 2-クロロ-3-トリフルオロメチルピリジンの製造方法
JP7311520B2 (ja) スルフェントラゾンの合成のための方法
JP6915189B1 (ja) 高純度2−ナフチルアセトニトリル及びその製造方法
JP2005154420A (ja) アルコキシ−5−(5−トリフルオロメチル−テトラゾール−1−イル)ベンズアルデヒドの製造方法
JP4239473B2 (ja) ピリドン化合物の製造法およびその中間体
JP4675234B2 (ja) 光学活性なキノロンカルボン酸誘導体の製造中間体およびその製造法
JP6771775B2 (ja) 2−アミノニコチン酸ベンジルエステル誘導体の製造方法
JPH1045706A (ja) 新規ジスルフィド化合物、その製造方法および該化合物を用いるチアゼピン誘導体の製造方法
BRPI0608712A2 (pt) processo para a preparação de composto, e, uso do composto
JP4663105B2 (ja) 2−スルホニル−4−オキシピリジン誘導体の製造方法
JP2006124347A (ja) フェニル2−ピリミジニルケトン類の新規製造方法及びその新規中間体
JPWO2005063678A1 (ja) フェニル酢酸誘導体の製造方法
CN117794567A (zh) 用于制备纯2-硝基-4-甲基磺酰基苯甲酸的方法
JP2006176490A (ja) 5−フタランカルボニトリル及びシタロプラムの製造方法
JPH02178255A (ja) 新規なハロゲン化トリフルオロメチルベンゼン
JPH11209349A (ja) 3(2h)−ピリダジノン誘導体の製造方法およびその原料
JP2001151753A (ja) ピリジン誘導体の製造方法
JPH09194451A (ja) シアノアミジン類の製造方法
JPH05294931A (ja) 新規中間体及び2−クロロ−5−(アミノメチル)ピリジンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110315

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110323

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4712320

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees