JP4708121B2 - 磁性薄膜作成用ターゲット、磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置 - Google Patents
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すなわち、生産性を高めるためには、ターゲットの飽和磁束密度を小さくしてマグネットからの漏洩磁界を十分に確保することでターゲットの厚みを厚くするとともに、該ターゲットを用いて作成した軟磁性膜の飽和磁束密度を大きくすることで軟磁性膜の膜厚を薄くすることが要求されている。
(1)磁性薄膜をマグネトロンスパッタ成膜法により形成するための2種類以上の結晶相を含む磁性薄膜作製用ターゲットであって、前記結晶相のうちの少なくとも1種類の結晶相がFeNi系合金からなり、前記FeNi系合金が、Feの含有量が60at%以上80at%以下、Niの含有量が20at%以上40at%以下のものであり、前記2種類以上の結晶相が、前記FeNi系合金からなる結晶相と、Fe合金もしくはCo合金からなる結晶相とからなり、前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度が1200emu/cc以下であり、前記磁性薄膜が、前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度の1.2倍以上の飽和磁束密度を持つものとなることを特徴とする磁性薄膜作成用ターゲット。
(2)前記2種類以上の結晶相からなる粉末を焼結したものであることを特徴とする(1)に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
(3)前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度が800emu/cc以下であることを特徴とする(1)または(2)に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
(4)厚さが7mm以上であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか一項に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
(5)前記FeNi系合金からなる結晶相中にB、C、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zr、Hf、Pd、Pt、Ag、Re、Nb、Ta、Wのいずれか一つ以上が含まれていることを特徴とする(1)に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
(7)前記磁性薄膜が、前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度の1.2倍以上の飽和磁束密度を持つことを特徴とする(6)記載の磁気記録媒体。
(8)前記磁性薄膜が軟磁性膜であり、前記磁気記録媒体が前記軟磁性膜と垂直磁気記録膜とを備える垂直2層媒体であることを特徴とする(6)または(7)に記載の磁気記録媒体。
図1は、本発明の磁気記録媒体の第1の実施形態の一例を示した概略断面図である。図1に示す磁気記録媒体10は、本発明の磁性薄膜作成用ターゲットを用いて形成された磁性薄膜を備えたものであり、磁性薄膜と垂直磁気記録膜とを備える垂直2層媒体である。また、図1に示す磁気記録媒体10は、非磁性基板1の両面に、裏打ち層2と配向制御層3と中間層4と垂直磁気記録膜5と保護膜6と潤滑膜7とが順次形成された構成となっている。なお、図1に示す磁気記録媒体10には、非磁性基板1の両面に裏打ち層2と配向制御層3と中間層4と垂直磁気記録膜5と保護膜6と潤滑膜7が形成されているが、図1においては、図面を見やすくするために、非磁性基板1の片面側(図1においては非磁性基板の下側)に形成された裏打ち層2と配向制御層3と中間層4と垂直磁気記録膜5と保護膜6と潤滑膜7の図示を省略して示している。
ガラス基板としては、アモルファスガラス、結晶化ガラスがあり、アモルファスガラスとしては汎用のソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスを使用できる。また、結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスを用いることができる。セラミック基板としては、汎用の酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの繊維強化物などが使用可能である。
また、表面の微小うねり(Wa)が0.3nm以下(より好ましくは0.25nm以下)であるのがヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。端面のチャンファー部の面取り部、側面部の少なくとも一方のいずれの表面平均粗さRaが10nm以下(より好ましくは9.5nm以下)のものを用いることが磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。微少うねり(Wa)は、例えば、表面粗さ測定装置P−12(KLA−Tencor社製)を用い、測定範囲80μmでの表面平均粗さとして測定することができる。
本発明の磁性薄膜作製用ターゲットは、2種類以上の結晶相を含むものであり、前記結晶相のうちの少なくとも1種類の結晶相がFeNi系合金からなり、前記FeNi系合金が、Feの含有量が60at%以上80at%以下、Niの含有量が20at%以上40at%以下のものである。また、本発明の磁性薄膜作製用ターゲットを構成するFeNi系合金は、Feの含有量が61at%以上79at%以下、Niの含有量が21at%以上38at%以下とすることがより好ましく、Feの含有量が70at%、Niの含有量が25at%以上30at%以下とすることがさらに好ましい。
この場合の混合比(第1の結晶相/ターゲットを構成する全ての結晶相)は、10%〜70%とすることができ、30%〜60%とすることがより好ましい。
例えば、FeNi系合金からなる結晶相(第1の結晶相)中にB、C、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zr、Hf、Pd、Pt、Ag、Re、Nb、Ta、Wのいずれか一つ以上が含まれているものとすることで、アモルファス構造または微細結晶構造からなる軟磁性膜を得ることができるものとなる。
裏打ち層2がアモルファス構造または微細結晶構造である場合、表面粗さが良好なものとなり、上に設けられる垂直磁気記録膜5の結晶配向性が良好なものとなる。これに対し、表面粗さが粗いと、裏打ち層2の表面の法線方向に結晶成長していく配向制御膜3や垂直磁気記録膜5のばらつきが大きくなり、良好な結晶配向性を有する垂直磁気記録膜5が得られない場合がある。
また、裏打ち層2を構成する軟磁性膜の飽和磁束密度(Film Ms)は、1200emu/cc以上であることが望ましく、1300emu/cc以上とするのがより望ましい。軟磁性膜の飽和磁束密度(Film Ms)が1300emu/cc未満である場合、垂直2層媒体としての特性が不十分となる虞が生じる。
また、裏打ち層2に用いる軟磁性膜の膜厚は、100nm以下とするのが好ましく、60nm)以下とすることがより好ましい。軟磁性膜の膜厚が上記範囲を超えると表面性の悪化による特性の劣化や生産性の悪化が生じるため好ましくない。なお、裏打ち層2の厚さは、例えばTEM(透過型電子顕微鏡)で観察することにより求めることができる。
配向制御膜3の厚さを3nm以上30nm(特に10〜20nm)とするのが好ましい。配向制御膜3の厚さが上記範囲であるとき、垂直磁気記録膜5の配向性がよく、かつ記録時における磁気ヘッドと裏打ち層2との距離を小さくすることができるので、再生信号の分解能を低下させることなく記録再生特性を高めることができるからである。
特にCoCrPtにSiO2、TiO、TiO2、ZrO2、Cr2O3、CoO、Ta2O5などの酸化物からなるグラニュラー構造であることが好ましい。
主に垂直方向に向いたものとは垂直方向の保磁力Hc(P)と面内方向の保磁力Hc(L)がHc(P)>Hc(L)である垂直磁気記録膜5のことである。
垂直磁気記録膜5の厚さは、5〜20nm(より好ましくは10〜16nm)とするのが好ましい。垂直磁気記録膜5の厚さが5nm以上であると、十分な磁束が得ることができ、再生時における出力が低くならず、出力波形がノイズ成分にうもれてしまうことがないので、より高記録密度に適した磁気記録再生装置として動作するので好ましい。また、垂直磁気記録膜5の厚さが20nm以下であると、垂直磁気記録膜5内の磁性粒子の粗大化を抑えることができ、ノイズの増大といった記録再生特性の劣化が生じるおそれがないため好ましい。
(実験例1〜実験例20)
表1に示す2種類の結晶相からなる粉末を、1250℃の温度で、100MPaの圧力を2時間加えるHIP法を用いて焼結し、表1に示す平均組成からなる実験例1〜実験例20の磁性薄膜作成用ターゲットを得た。
図3は、DCマグネトロンスパッタ装置を側面から見た概略断面図である。図3に示すDCマグネトロンスパッタ装置には、チャンバ22内に起立した状態の非磁性基板24が収容されている。非磁性基板24の両面側には、ターゲット21、21が非磁性基板24に平行に配置され、ターゲット21、21の非磁性基板24と反対側には、台座29に支持されたマグネット板25がターゲット21、21に平行に配置されている。また、ターゲット材21、21には、電極23から負電圧を印加できるように電源27が電気的に接続されている。
なお、非磁性基板24として洗浄済みのガラス基板(MYG社製、外直径2.5インチ)を用い、ターゲット21、21として直径180mm、厚さ8mmの実験例1〜実験例20の磁性薄膜作成用ターゲットを用い、マグネット板25として同社製のType162−3を用いた。
そして、実験例1〜実験例20の磁性薄膜作成用ターゲットを用いて得られた磁性薄膜の飽和磁束密度(Film Ms)を振動式磁気特性測定装置(VSM)で測定し、ターゲットの飽和磁束密度(TGT Ms)との比であるMs比(Film Ms/TGT Ms)を求めた。その結果を表1に示す。
さらに、表1より、FeNi系合金が、Feの含有量が61at%以上70at%以下、Niの含有量が25at%以上38at%以下のものである場合、ターゲットの飽和磁束密度を800emu/cc以下とすることができ、漏洩磁界をより一層大きくできることが確認できた。
Claims (10)
- 磁性薄膜をマグネトロンスパッタ成膜法により形成するための2種類以上の結晶相を含む磁性薄膜作製用ターゲットであって、
前記結晶相のうちの少なくとも1種類の結晶相がFeNi系合金からなり、
前記FeNi系合金が、Feの含有量が60at%以上80at%以下、Niの含有量が20at%以上40at%以下のものであり、
前記2種類以上の結晶相が、前記FeNi系合金からなる結晶相と、Fe合金もしくはCo合金からなる結晶相とからなり、
前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度が1200emu/cc以下であり、
前記磁性薄膜が、前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度の1.2倍以上の飽和磁束密度を持つものとなることを特徴とする磁性薄膜作成用ターゲット。 - 前記2種類以上の結晶相からなる粉末を焼結したものであることを特徴とする請求項1に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
- 前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度が800emu/cc以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
- 厚さが7mm以上であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
- 前記FeNi系合金からなる結晶相中にB、C、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zr、Hf、Pd、Pt、Ag、Re、Nb、Ta、Wのいずれか一つ以上が含まれていることを特徴とする請求項1に記載の磁性薄膜作成用ターゲット。
- 請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の磁性薄膜作成用ターゲットを用いて形成された磁性薄膜を備えることを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記磁性薄膜が、前記磁性薄膜作成用ターゲットの飽和磁束密度の1.2倍以上の飽和磁束密度を持つことを特徴とする請求項6に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁性薄膜が軟磁性膜であり、前記磁気記録媒体が前記軟磁性膜と垂直磁気記録膜とを備える垂直2層媒体であることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の磁気記録媒体。
- 請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁性薄膜作成用ターゲットを用いて磁性薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載のものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
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