JP2000355759A - 光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面の飽和磁化を低く抑え、ターゲット厚み
を１０ｍｍ以上に厚くすることで、使用効率を高くした
ターゲット及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 希土類金属と、必要に応じて更に添加元
素を含み、残部が遷移金属である組成を有し、表面の飽
和磁化（４πＭｓ）が３．５ｋＧ以下、相対密度が９０
％以上、厚さが１０ｍｍ以上の焼結体からなる光磁気記
録媒体用ターゲット。また、溶体化合金を３０秒以内で
室温まで急冷し、平均粒径が３５０μｍ以下で、平均粒
径±２０μｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、か
つ、平均粒径±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％
以上である粉末を得、この粉末を加圧下で昇温速度２５
０℃／時以上で９００℃以上まで昇温保持して焼結する
光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法。
を１０ｍｍ以上に厚くすることで、使用効率を高くした
ターゲット及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 希土類金属と、必要に応じて更に添加元
素を含み、残部が遷移金属である組成を有し、表面の飽
和磁化（４πＭｓ）が３．５ｋＧ以下、相対密度が９０
％以上、厚さが１０ｍｍ以上の焼結体からなる光磁気記
録媒体用ターゲット。また、溶体化合金を３０秒以内で
室温まで急冷し、平均粒径が３５０μｍ以下で、平均粒
径±２０μｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、か
つ、平均粒径±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％
以上である粉末を得、この粉末を加圧下で昇温速度２５
０℃／時以上で９００℃以上まで昇温保持して焼結する
光磁気記録媒体用ターゲットの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体を
スパッタリング法で製造するときの磁気記録層膜の原料
である光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法に関
し、より詳しくは、厚さ１０ｍｍ以上でも表面磁化を比
較的小さくて使用効率が向上する光磁気記録媒体用ター
ゲットとその製造方法に関する。
スパッタリング法で製造するときの磁気記録層膜の原料
である光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法に関
し、より詳しくは、厚さ１０ｍｍ以上でも表面磁化を比
較的小さくて使用効率が向上する光磁気記録媒体用ター
ゲットとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、ディスクやカードなど
に、ＴｂＦｅＣｏ系またはＴｂＦｅＣｏＣｒ系などから
なる記録層、保護膜層などを順次形成したもので、記録
層はスパッタリング法で形成される。この方法の原料で
あるターゲットの製造は、粉末原料をホットプレス等で
焼結する方法（粉末焼結法）と、原料を溶解、鋳造する
方法（溶解鋳造法）とがある。溶解鋳造法は、原料の歩
留りが悪い上に、冷却中の割れ、鋳造時の偏析などの問
題点が多いので、工業的には粉末焼結法が広く行われて
いる。
に、ＴｂＦｅＣｏ系またはＴｂＦｅＣｏＣｒ系などから
なる記録層、保護膜層などを順次形成したもので、記録
層はスパッタリング法で形成される。この方法の原料で
あるターゲットの製造は、粉末原料をホットプレス等で
焼結する方法（粉末焼結法）と、原料を溶解、鋳造する
方法（溶解鋳造法）とがある。溶解鋳造法は、原料の歩
留りが悪い上に、冷却中の割れ、鋳造時の偏析などの問
題点が多いので、工業的には粉末焼結法が広く行われて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、粉末焼結法を
用いてられたターゲットは、ターゲット表面の飽和磁化
（４πＭｓ）が比較的高い。このため、ターゲット厚み
を厚くすると、スパッタリング中にターゲット表面から
の漏洩磁場が弱くなり、スパッタリングができなくな
る。そこで、ターゲット厚みは高々８ｍｍにしかするこ
とができなかった。
用いてられたターゲットは、ターゲット表面の飽和磁化
（４πＭｓ）が比較的高い。このため、ターゲット厚み
を厚くすると、スパッタリング中にターゲット表面から
の漏洩磁場が弱くなり、スパッタリングができなくな
る。そこで、ターゲット厚みは高々８ｍｍにしかするこ
とができなかった。
【０００４】例えば、従来の製造方法によって厚さ１０
ｍｍのターゲットを得ると、表面の飽和磁化４πＭｓが
５．０ｋＧ以上となってしまう。
ｍｍのターゲットを得ると、表面の飽和磁化４πＭｓが
５．０ｋＧ以上となってしまう。
【０００５】ターゲット厚が薄いと、ターゲットを頻繁
に交換しなくてはならず、ターゲットの使用効率が低か
った。
に交換しなくてはならず、ターゲットの使用効率が低か
った。
【０００６】そこで本発明は、上記の問題を解決し、表
面の飽和磁化を低く抑え、ターゲット厚みを１０ｍｍ以
上に厚くすることで、使用効率を高くしたターゲット及
びその製造方法を提供することを目的とする。
面の飽和磁化を低く抑え、ターゲット厚みを１０ｍｍ以
上に厚くすることで、使用効率を高くしたターゲット及
びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の光磁気記録媒体用ターゲットは、Ｎｄ、Ｇ
ｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、及びＨｏの元素郡から選ばれる１種以
上の希土類金属を１０〜５０原子％含み、必要に応じて
更にＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｔａ、及び
Ｐｔの中から選ばれる添加元素を１〜１０原子％含み、
残部がＦｅ、Ｃｏ、及びＮｉの元素群から選ばれる１種
以上の遷移金属である組成を有し、表面の飽和磁化（４
πＭｓ）が３．５ｋＧ以下、相対密度が９０％以上、厚
さが１０ｍｍ以上の焼結体からなることを特徴とする。
の本発明の光磁気記録媒体用ターゲットは、Ｎｄ、Ｇ
ｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、及びＨｏの元素郡から選ばれる１種以
上の希土類金属を１０〜５０原子％含み、必要に応じて
更にＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｔａ、及び
Ｐｔの中から選ばれる添加元素を１〜１０原子％含み、
残部がＦｅ、Ｃｏ、及びＮｉの元素群から選ばれる１種
以上の遷移金属である組成を有し、表面の飽和磁化（４
πＭｓ）が３．５ｋＧ以下、相対密度が９０％以上、厚
さが１０ｍｍ以上の焼結体からなることを特徴とする。
【０００８】また、本発明の光磁気記録媒体用ターゲッ
トの製造方法は、所定組成の原料を高温下で溶体化し、
溶体化状態から３０秒以内で室温まで急冷して、平均粒
径が３５０μｍ以下で、粒度分布が、平均粒径±２０μ
ｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、かつ、平均粒径
±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％以上である粉
末を得て、この粉末を加圧下で昇温速度２５０℃／時以
上で９００℃以上まで昇温し、同じく加圧下で９００℃
以上、３０分以上保持して焼結することを特徴とする。
トの製造方法は、所定組成の原料を高温下で溶体化し、
溶体化状態から３０秒以内で室温まで急冷して、平均粒
径が３５０μｍ以下で、粒度分布が、平均粒径±２０μ
ｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、かつ、平均粒径
±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％以上である粉
末を得て、この粉末を加圧下で昇温速度２５０℃／時以
上で９００℃以上まで昇温し、同じく加圧下で９００℃
以上、３０分以上保持して焼結することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明における焼結体の組成は、
Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、及びＨｏの元素郡から選ばれ
る１種以上の希土類金属を１０〜５０原子％含み、必要
に応じて更にＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｔ
ａ、及びＰｔの中から選ばれる添加元素を１〜１０原子
％含み、残部がＦｅ、Ｃｏ、及びＮｉの元素群から選ば
れる１種以上の遷移金属を対象とする。例えば、ＴｂＦ
ｅＣｏ系やＴｂＦｅＣｏＣｒ系が挙げられる。
Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、及びＨｏの元素郡から選ばれ
る１種以上の希土類金属を１０〜５０原子％含み、必要
に応じて更にＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｔ
ａ、及びＰｔの中から選ばれる添加元素を１〜１０原子
％含み、残部がＦｅ、Ｃｏ、及びＮｉの元素群から選ば
れる１種以上の遷移金属を対象とする。例えば、ＴｂＦ
ｅＣｏ系やＴｂＦｅＣｏＣｒ系が挙げられる。
【００１０】ターゲットの表面の飽和磁化（４πＭｓ）
を３．５ｋＧ以下とするのは、これより表面の飽和磁化
が大きいと、厚さを１０ｍｍ以上にしたときに漏洩磁化
が発生せず、スパッタリングが不可能になるからであ
る。
を３．５ｋＧ以下とするのは、これより表面の飽和磁化
が大きいと、厚さを１０ｍｍ以上にしたときに漏洩磁化
が発生せず、スパッタリングが不可能になるからであ
る。
【００１１】ターゲットの相対密度を９０％以上とする
のは、使用効率の向上と、スパッタリングの安定化のた
めである。
のは、使用効率の向上と、スパッタリングの安定化のた
めである。
【００１２】ターゲットはスパッタリングを行うにつれ
て消耗され、厚みが減少する。厚みの減少は通常均一で
なく、穴が貫通したところでこれ以上スパッタリングに
供せられなくなり、交換することになる。そこでターゲ
ットの使用開始時の厚さが厚いほど交換するまで実施で
きるスパッタリング量が増加し、使用効率が向上するこ
とになる。
て消耗され、厚みが減少する。厚みの減少は通常均一で
なく、穴が貫通したところでこれ以上スパッタリングに
供せられなくなり、交換することになる。そこでターゲ
ットの使用開始時の厚さが厚いほど交換するまで実施で
きるスパッタリング量が増加し、使用効率が向上するこ
とになる。
【００１３】本発明の光磁気記録媒体用ターゲットの製
造方法は、粉末焼結法による。
造方法は、粉末焼結法による。
【００１４】まず、目的組成の焼結体が得られるように
所定配合の原料を用意する。原料は、純金属、合金いず
れであってもよい。
所定配合の原料を用意する。原料は、純金属、合金いず
れであってもよい。
【００１５】次にこの原料を高温下で溶体化する。溶体
化する温度は、組成によって適宜選択すればよい。
化する温度は、組成によって適宜選択すればよい。
【００１６】次に、高温下で溶体化した状態から、３０
秒以内、より好ましくは１０秒以内で室温まで急冷す
る。冷却方法は特に限定されないが、溶融金属をガス圧
でノズルから噴出して粉体を得る、ガスアトマイズ法が
好ましい。このように急速に冷却することにより、２相
や３相以上に相分離することなく、溶体化の状態が室温
でも保たれるものと思われる。本発明が対象とする組成
では、相分離すると、飽和磁化を高くする効果を有する
相が出現する。
秒以内、より好ましくは１０秒以内で室温まで急冷す
る。冷却方法は特に限定されないが、溶融金属をガス圧
でノズルから噴出して粉体を得る、ガスアトマイズ法が
好ましい。このように急速に冷却することにより、２相
や３相以上に相分離することなく、溶体化の状態が室温
でも保たれるものと思われる。本発明が対象とする組成
では、相分離すると、飽和磁化を高くする効果を有する
相が出現する。
【００１７】粉体は、焼結体の相対密度を向上させるた
め、平均粒径が３５０μｍ以下で、粒度分布が、平均粒
径±２０μｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、か
つ、平均粒径±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％
以上とする。
め、平均粒径が３５０μｍ以下で、粒度分布が、平均粒
径±２０μｍの範囲の粒径粒子が８０重量％以上、か
つ、平均粒径±３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％
以上とする。
【００１８】この粉末を、加圧下で昇温速度２５０℃／
時以上で９００℃以上まで昇温し、同じく加圧下で９０
０℃以上、３０分以上保持して焼結する。加圧下で焼結
するには、公知のホットプレス法や、ＨＩＰ法によれば
よい。
時以上で９００℃以上まで昇温し、同じく加圧下で９０
０℃以上、３０分以上保持して焼結する。加圧下で焼結
するには、公知のホットプレス法や、ＨＩＰ法によれば
よい。
【００１９】
【実施例】実施例１ ・・・ ガスアトマイズ法で、組
成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが１
０原子％、Ｃｒが３原子％であるＴｂＦｅＣｏＣｒ系の
合金粉末を得た。このガスアトマイズ法では、溶体化状
態から室温まで１２秒間で冷却されている。
成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが１
０原子％、Ｃｒが３原子％であるＴｂＦｅＣｏＣｒ系の
合金粉末を得た。このガスアトマイズ法では、溶体化状
態から室温まで１２秒間で冷却されている。
【００２０】この合金粉末は、平均粒径が２５０μｍ、
粒度分布は、２３０μｍから２７０μｍの間の粒子が８
２％、２２０μｍから２８０μｍの間の粒子が９６％で
あった。平均粒径は、フィッシャー・サブ・シーブ・サ
イザーによって測定した。
粒度分布は、２３０μｍから２７０μｍの間の粒子が８
２％、２２０μｍから２８０μｍの間の粒子が９６％で
あった。平均粒径は、フィッシャー・サブ・シーブ・サ
イザーによって測定した。
【００２１】この合金粉末を、直径１３０ｍｍのグラフ
ァイト製型に、高さ１３ｍｍまで給粉し、真空ホットプ
レスを用いて、圧力を２５０ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１
１００℃、１１００℃までの昇温時間を４時間（昇温速
度２７５℃／時）とし、保持時間４０分の条件で焼結
し、焼結体を２枚製造した。
ァイト製型に、高さ１３ｍｍまで給粉し、真空ホットプ
レスを用いて、圧力を２５０ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１
１００℃、１１００℃までの昇温時間を４時間（昇温速
度２７５℃／時）とし、保持時間４０分の条件で焼結
し、焼結体を２枚製造した。
【００２２】得られた焼結体を、直径１２７ｍｍ、厚さ
１３ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は３．０ｋＧ、相対密
度は９７％であった。飽和磁化は、ターゲットから５×
２０×５ｍｍにサンプルを切り出し、これをチオフィ型
自記磁束計にて測定した。
１３ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は３．０ｋＧ、相対密
度は９７％であった。飽和磁化は、ターゲットから５×
２０×５ｍｍにサンプルを切り出し、これをチオフィ型
自記磁束計にて測定した。
【００２３】次に、飽和磁化の測定に供しなかった方の
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
【００２４】貫通孔ができ、交換が必要になるまでのタ
ーゲットの使用時間は、１２０ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約３倍であっ
た。
ーゲットの使用時間は、１２０ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約３倍であっ
た。
【００２５】実施例２ ・・・ ガスアトマイズ法で、
組成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが
１０原子％であるＴｂＦｅＣｏ系の合金粉末を得た。こ
のガスアトマイズ法では、溶体化状態から室温まで４秒
間で冷却されている。
組成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが
１０原子％であるＴｂＦｅＣｏ系の合金粉末を得た。こ
のガスアトマイズ法では、溶体化状態から室温まで４秒
間で冷却されている。
【００２６】この合金粉末は、平均粒径が２５０μｍ、
粒度分布は、２３０μｍから２７０μｍの間の粒子が８
３％、２２０μｍから２８０μｍの間の粒子が９７％で
あった。粒度分布測定は、実施例１と同じ方法による。
粒度分布は、２３０μｍから２７０μｍの間の粒子が８
３％、２２０μｍから２８０μｍの間の粒子が９７％で
あった。粒度分布測定は、実施例１と同じ方法による。
【００２７】この合金粉末を、実施例１と同じ型に、高
さ１５ｍｍまで給粉し、真空ホットプレスを用いて、圧
力を５００ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１１００℃、１１０
０℃までの昇温時間を４時間（昇温速度２７５℃／時）
とし、保持時間３０分の条件で焼結し、焼結体を２枚製
造した。
さ１５ｍｍまで給粉し、真空ホットプレスを用いて、圧
力を５００ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１１００℃、１１０
０℃までの昇温時間を４時間（昇温速度２７５℃／時）
とし、保持時間３０分の条件で焼結し、焼結体を２枚製
造した。
【００２８】得られた焼結体を、直径１２７ｍｍ、厚さ
１５ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は２．５ｋＧ、相対密
度は９９％であった。
１５ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は２．５ｋＧ、相対密
度は９９％であった。
【００２９】次に、飽和磁化の測定に供しなかった方の
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
【００３０】貫通孔ができ、交換が必要になるまでのタ
ーゲットの使用時間は、１８０ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約４．５倍で
あった。
ーゲットの使用時間は、１８０ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約４．５倍で
あった。
【００３１】実施例３ ・・・ ガスアトマイズ法で、
組成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが
１０原子％、Ｃｒが３原子％であるＴｂＦｅＣｏＣｒ系
の合金粉末を得た。このガスアトマイズ法では、溶体化
状態から室温まで１０秒間で冷却されている。
組成が、Ｔｂが２２原子％、Ｆｅが６５原子％、Ｃｏが
１０原子％、Ｃｒが３原子％であるＴｂＦｅＣｏＣｒ系
の合金粉末を得た。このガスアトマイズ法では、溶体化
状態から室温まで１０秒間で冷却されている。
【００３２】この合金粉末は、平均粒径が２００μｍ、
粒度分布は、１８０μｍから２２０μｍの間の粒子が８
７％、１７０μｍから２３０μｍの間の粒子が９６％で
あった。粒度分布測定は、実施例１と同じ方法による。
粒度分布は、１８０μｍから２２０μｍの間の粒子が８
７％、１７０μｍから２３０μｍの間の粒子が９６％で
あった。粒度分布測定は、実施例１と同じ方法による。
【００３３】この合金粉末を、実施例１と同じ型に、高
さ１３ｍｍまで給粉し、真空ホットプレスを用いて、圧
力を４００ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１０００℃、１００
０℃までの昇温時間を４時間（昇温速度２５０℃／時）
とし、保持時間９０分の条件で焼結し、焼結体を２枚製
造した。
さ１３ｍｍまで給粉し、真空ホットプレスを用いて、圧
力を４００ｋｇ／ｃｍ2、保持温度１０００℃、１００
０℃までの昇温時間を４時間（昇温速度２５０℃／時）
とし、保持時間９０分の条件で焼結し、焼結体を２枚製
造した。
【００３４】得られた焼結体を、直径１２７ｍｍ、厚さ
１３ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は３．５ｋＧ、相対密
度は９８％であった。
１３ｍｍに加工し、表面の飽和磁化及び密度を測定し
た。表面の飽和磁化（４πＭｓ）は３．５ｋＧ、相対密
度は９８％であった。
【００３５】次に、飽和磁化の測定に供しなかった方の
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
加工した焼結体を、マグネトロンスパッタリング装置の
パッキングプレートに接合し、直流スパッタリングを行
ったところ、使用初期から安定したスパッタリングを行
うことができた。
【００３６】貫通孔ができ、交換が必要になるまでのタ
ーゲットの使用時間は、１２８ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約３．２倍で
あった。
ーゲットの使用時間は、１２８ｋＷ・ｈｒであった。こ
れは、従来の方法で得られた同組成の、密度８０％、厚
み８ｍｍのターゲットと比較したところ、約３．２倍で
あった。
【００３７】
【発明の効果】本発明により、粉末焼結法によっても表
面の飽和磁化が低く抑えられ、ターゲットの厚みを１０
ｍｍ以上にすることが可能となり、スパッタリングによ
る使用効率が高いターゲットを製造することができる。
面の飽和磁化が低く抑えられ、ターゲットの厚みを１０
ｍｍ以上にすることが可能となり、スパッタリングによ
る使用効率が高いターゲットを製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｆ 41/18 Ｂ２２Ｆ 3/00 Ｂ
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、及びＨｏの元
素郡から選ばれる１種以上の希土類金属を１０〜５０原
子％含み、必要に応じて更にＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、
Ｎｂ、Ｐｄ、Ｔａ、及びＰｔの中から選ばれる添加元素
を１〜１０原子％含み、残部がＦｅ、Ｃｏ、及びＮｉの
元素群から選ばれる１種以上の遷移金属である組成を有
し、表面の飽和磁化（４πＭｓ）が３．５ｋＧ以下、相
対密度が９０％以上、厚さが１０ｍｍ以上の焼結体から
なる光磁気記録媒体用ターゲット。 - 【請求項２】 組成がＴｂＦｅＣｏ系またはＴｂＦｅＣ
ｏＣｒ系であり、表面の飽和磁化（４πＭｓ）が３．５
ｋＧ以下、焼結体の相対密度が９０％以上、厚さが１０
ｍｍ以上の焼結体からなる光磁気記録媒体用ターゲッ
ト。 - 【請求項３】 所定組成の原料を高温下で溶体化し、溶
体化状態から３０秒以内で室温まで急冷して、平均粒径
が３５０μｍ以下で、粒度分布が、平均粒径±２０μｍ
の範囲の粒径粒子が８０重量％以上、かつ、平均粒径±
３０μｍの範囲の粒径粒子が９５重量％以上である粉末
を得て、この粉末を加圧下で昇温速度２５０℃／時以上
で９００℃以上まで昇温し、同じく加圧下で９００℃以
上、３０分以上保持して焼結することを特徴とする請求
項１または請求項２に記載の光磁気記録媒体用ターゲッ
トの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16659999A JP2000355759A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16659999A JP2000355759A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000355759A true JP2000355759A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15834289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16659999A Pending JP2000355759A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 光磁気記録媒体用ターゲットとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000355759A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1209022A2 (en) | 2000-11-22 | 2002-05-29 | Nissan Motor Co., Ltd. | Hybrid vehicle drive system and control method |
| JP2007059424A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | 磁性薄膜作成用ターゲット、磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置 |
-
1999
- 1999-06-14 JP JP16659999A patent/JP2000355759A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1209022A2 (en) | 2000-11-22 | 2002-05-29 | Nissan Motor Co., Ltd. | Hybrid vehicle drive system and control method |
| JP2007059424A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Showa Denko Kk | 磁性薄膜作成用ターゲット、磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置 |
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