JP4705034B2 - 基板処理装置、使用状況確認方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板を処理する基板処理装置並びにその使用状況確認方法及び不正使用防止方法に関する。

半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスは、基板処理装置を用いて半導体ウエハやガラスプレート等の基板に対して各種の処理を施すことにより製造される。基板処理装置が基板に対して施す処理は、例えばフォトレジスト等の感光剤を塗布する塗布処理、感光剤が塗布された基板上にマスク又はレチクル（これらを総称する場合にはマスクという）のパターンの像を投影露光する露光処理、及び露光処理が施された基板を現像する現像処理等である。

上記の露光処理は基板処理装置に設けられた露光装置により行われ、上記塗布処理及び現像処理は、露光装置に対して例えばインライン化されたコータ・デベロッパ（塗布・現像装置）により行われる。また、上記の露光装置等の基板処理装置には、上記の各種処理が施された基板に形成されるパターンの均一性又はパターンの重なり具合いを評価する評価装置、並びに電子ビームを基板上に照射した際に生ずる二次電子や後方散乱電子を検出して基板上に形成されたパターンを検査する検査装置等が設けられることが多い。尚、本明細書において、「基板処理装置」とは、上記の露光装置、塗布装置、現像装置、評価装置、及び検査装置等の各々をいう場合があるとともに、こららの２以上を組み合わせたものの全体をいう場合がある。

ところで、従来の基板処理装置においては、装置を制御するための制御プログラム、装置を動作させる上で有益となるユーティリティプログラム等の各種プログラムは、装置に付随するものと考えられており、これらは基板処理装置の顧客に無償提供されていた。また、上記の考え方が主流であったため、各種プログラムのバージョンアップは無償で行われる場合が多かった。

このため、基板処理装置の製造メーカが一旦顧客に基板処理装置を販売（譲渡）してしまうと、その顧客が中古の基板処理装置を第三者に譲渡する際に、基板処理装置の製造メーカに何の断りもなく基板処理装置とともに上記の各種プログラムが譲渡されてしまうという事態が生じていた。上記の各種プログラムは本来的に著作物であり、それ自体に財産的価値を有するものであって単なる基板処理装置の付属物ではないため、その使用者（譲受人）との間で使用許諾契約を締結するのが望ましいと考えられる。かかる契約を締結することにより、基板処理装置の製造メーカが基板処理装置の据え付け、改造、サポート、及びプログラムのバージョンアップ等を一括管理することができるとともに、中古の基板処理装置を購入した第三者も安心して使用することができるため、双方にとっての利益になると考えられる。

しかしながら、基板処理装置の製造メーカと顧客との間で上記の契約を締結した場合であっても、基板処理装置が第三者に譲渡されてしまえば、何の制約もなく上記の制御プログラム等を用いて基板処理装置を作動させることができるため、基板処理装置の製造メーカは譲渡の有無を何らかの方法で確認する必要があるとともに、もし当該制御プログラム等が不正に使用されている場合には、その使用を不可能とするプロテクトを施策する必要がある。

よって本発明の目的は、基板処理装置の使用者が該基板処理装置を適正に使用しているか否かを確認できるようにし、もし不正な使用と認められる場合にはその使用を防止できるようにすることである。

本発明の第１の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と計時手段からの計時情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備え、前記確認手段は、前記ライセンス情報と前記時計手段からの時計情報とに基づいて、前記基板処理装置が停止している時間が前記停止期間を超えたか否かにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するようにした基板処理装置が提供される。

本発明の第２の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも１つを含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも１つと、前記ライセンス情報に含まれる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも１つとの照合を行って、前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備える基板処理装置が提供される。

本発明の第３の観点によると、基板を処理する基板処理装置において、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、前記基板処理装置の基板処理量を計数する計数手段と、前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記計数手段からの計数情報とに基づいて基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備える基板処理装置が提供される。

本発明の第４の観点によると、基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、計時情報を取得するステップと、前記ライセンスファイルに格納された前記ライセンス情報と前記計時情報とに基づいて、前記基板処理装置が停止している時間が前記停止時間を超えたか否かを判別することにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、を含む使用状況確認方法が提供される。

本発明の第５の観点によると、基板を処理する基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも１つを含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、前記基板処理装置から得られる装置情報及び前記ネットワーク情報の少なくとも１つと、前記ライセンスファイルに格納された前記ライセンス情報との照合を行って、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、を含む使用状況確認方法が提供される。

本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。 本発明の第１実施形態に係る基板処理装置が備える露光装置の構成を示す図である。 本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の使用状況確認方法及び不正使用防止方法を説明するための図である。 本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。 本発明の第３実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。 本発明の第４実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。 本発明の第５実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。 本発明の第５実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。 本発明の第５実施形態に係る基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。 デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。

［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図１に示す通り、この基板処理装置１１は露光装置３０を囲むチャンバにインライン方式で接するように、コータ・デベロッパ部（塗布現像装置）３１が設置されており、また露光装置３０及びコータ・デベロッパ部３１の全体の動作を統轄制御する制御コンピュータ３２が設置されている。

この制御コンピュータ３２はネットワーク接続カード３２ａを備えており、このネットワーク接続カード３２ａによって制御コンピュータ３２は基板処理装置１１が設置された工場内に敷設されているネットワークＬＮ１に接続されている。ネットワークＬＮ１がイーサネット（登録商標）である場合には、ネットワーク接続カード３２ａには一意に定まる固有の物理アドレス（ＭＡＣアドレス（Ｍｅｄｉａ Ａｃｃｅｓｓ Ｃｏｎｔｒｏｌ ａｄｄｒｅｓｓ））が割り当てられている。制御コンピュータ３２は、不図示のホストコンピュータからネットワークＬＮ１を介して送信されてきて、ネットワーク接続カード３２ａにより受信した制御コマンドに基づいて基板処理装置１１の動作を制御する。

また、図示は省略しているが、図１に示す基板処理装置１１と同様の構成を有する複数の基板処理装置１１がネットワークＬＮ１に接続されており、基板処理装置１１の各々には通信プロトコルとしてＴＣＰ／ＩＰ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ／Ｉｎｔｅｒｎｅｔ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）が実装されている。また、各基板処理装置１１には一意に定まるＩＰアドレス及びゲートウェイアドレスが割り当てられている。尚、このネットワークＬＮ１はセキュリティー確保の観点から外部のネットワーク（例えば、インターネット）には接続されていないものとする。

上記のコータ・デベロッパ部３１には、その中央部を横切るように基板としてのウエハＷを搬送する搬送ライン３３が配置されている。この搬送ライン３３の一端に未露光の多数のウエハＷを収納するウエハキャリア３４と、露光処理及び現像処理を終えた多数のウエハＷを収納するウエハキャリア３５とが配置されており、搬送ライン３３の他端に露光装置３０のチャンバ側面のシャッタ付きの搬送口（不図示）が設置されている。

また、コータ・デベロッパ部３１に設けられた搬送ライン３３の一方の側面に沿ってコータ部３６が設けられており、他方の側面に沿ってデベロッパ部３７が設けられている。コータ部３６は、ウエハキャリア３４から露光装置３０に向けて、ウエハＷにフォトレジストを塗布するレジストコータ３６ａ、そのウエハＷ上のフォトレジストをプリベークするためのホットプレートからなるプリベーク装置３６ｂ、及びプリベークされたウエハＷを冷却するためのクーリング装置３６ｃが設置されている。

デベロッパ部３７は、露光装置３０からウエハキャリア３５に向けて、露光処理後のウエハＷ上のフォトレジストをベーキングする、即ちいわゆるＰＥＢ（Ｐｏｓｔ−Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｂａｋｅ）を行うためのポストベーク装置３７ａ、ＰＥＢが行われたウエハＷを冷却するためのクーリング装置３７ｂ、及びウエハＷ上のフォトレジストの現像を行うための現像装置３７ｃが設置されている。更に、本実施形態では、現像装置３７ｃで現像されたウエハに形成されたフォトレジストのパターン（レジストパターン）の形状を測定する測定装置３８がインライン設置されている。測定装置３８は、ウエハＷ上に形成されているレジストパターンの形状（例えばパターンの線幅、パターンの重ね合わせ誤差等）を測定するための検査装置である。

図示は省略しているが、露光装置３０、コータ部３６及びデベロッパ部３７、測定装置３８、及び制御コンピュータ３２は、有線又は無線で接続されており、これらの装置の間で各々の処理開始又は処理終了を示す信号が送受信される。また、これらの装置の装置状態を示す装置データ及び測定装置３８による測定結果は制御コンピュータ３２へ出力され、制御コンピュータ３２内に設けられるハードディスク等の記憶装置に記録される。

露光装置３０は、ウエハベース８６（図２参照）上を２次元的に移動するウエハステージ８５を備えており、露光対象のウエハＷはウエハホルダ８４を介してウエハステージ８５上に保持される。また、露光装置３０内には、コータ・デベロッパ部３１に設けられた搬送ライン３３の中心軸の延長線にほぼ沿うように第１ガイド部材３９が配置され、第１ガイド部材３９の端部の上方に直交するように、第２ガイド部材４０が配置されている。

第１ガイド部材３９には第１ガイド部材３９に沿って摺動可能に構成されたスライダ４１が配置されており、このスライダ４１には回転及び上下動自在にウエハＷを保持する第１アーム４２が設置されている。また、第２ガイド部材４０にはウエハＷを保持した状態で第２ガイド部材４０に沿って摺動可能に構成された第２アーム４３が配置されている。第２ガイド部材４０は、ウエハステージ８５のウエハのローディング位置まで延びており、第２アーム４３には第２ガイド部材４０に直交する方向にスライドする機構も備えられている。

また、第１ガイド部材３９と第２ガイド部材４０とが交差する位置の近傍にウエハＷのプリアライメントを行うために回転及び上下動ができる受け渡しピン４４が設置されており、受け渡しピン４４の周囲にウエハＷの外周部の切り欠き部（ノッチ部）及び２箇所のエッジ部の位置又はウエハＷの外周部に形成されたオリエンテーションフラットを検出するための位置検出装置（不図示）が設置されている。第１ガイド部材３９、第２ガイド部材４０、スライダ４１、第１アーム４２、及び第２アーム４３、及び受け渡しピン４４等からウエハローダ系が構成されている。

露光装置３０は、装置の各部（例えば、チャンバ、アライメント系、ローダ系等）の動作を制御する複数の制御ユニット（例えば、チャンバユニット、アライメントユニット、ローダユニット等）を備えており、各制御ユニットには時間を計時するためのタイマー及び制御コンピュータ３２からの制御信号を一時的に記憶するためのメモリが設けられている。各制御ユニットに設けられたタイマーの計時結果は制御コンピュータ３２に出力されており、制御コンピュータ３２は各タイマーの計時結果に応じて各制御ユニットに制御信号を出力して露光装置３０の動作を制御するとともに、露光装置３０を含めた基板処理装置１１の使用状況を確認する。尚、図１においては、簡単のためにチャンバユニットに設けられたタイマーＴ１及びメモリＭ１のみを図示している。

制御コンピュータ３２は、基板処理装置１１の各部を制御することでウエハＷの露光処理を行うのは勿論のこと、予め記憶しているライセンスファイルに格納されている内容通りに、又はその内容に反することなく基板処理装置１１が使用されているか否かを確認する。この確認によって基板処理装置１１がライセンスファイルに格納されている内容に反した不正使用がなされている場合には、制御コンピュータ３２は基板処理装置１１の動作を停止させて所定の処置（例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置１１の使用を不可能にする。本実施形態においては、制御コンピュータ３２は、チャンバユニットに設けられたタイマーＴ１の計時結果と上記のライセンスファイルとを用いて基板処理装置１１の不正使用がなされているか否かを確認する。尚、この処理の詳細については後述する。

ここで、ライセンスファイルとは、基板処理装置１１の製造メーカと基板処理装置１１の使用者（基板処理装置１１の購入者（譲受人））との間で予め締結された基板処理装置１１の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約の内容の少なくとも一部を含むライセンス情報であって、基板処理装置１１が契約に反することなく使用されているかを確認する確認材料となる情報の内容を格納するファイルである。このライセンス情報の具体例としては、基板処理装置１１の使用開始日、使用期限若しくは使用時間、及び停止時間、並びに制御コンピュータ３２に設けられたネットワーク接続カード３２ａの物理アドレス並びに制御コンピュータ３２に割り当てられたＩＰアドレス及びゲートウェイアドレス等が含まれる。

次に、上記構成における基板処理装置１１がウエハＷに対する処理を行うときの動作について簡単に説明する。まず、不図示のホストコンピュータからネットワークＬＮ１を介して基板処理装置１１が備える制御コンピュータ３２に処理開始命令が出力される。制御コンピュータ３２はこの処理開始命令に基づいて、露光装置３０、コータ部３６、及びデベロッパ部３７に各種の制御信号を出力する。この制御信号が出力されると、ウエハキャリア３４から取り出された１枚のウエハは、搬送ライン３３を経てレジストコータ３６ａに搬送されてフォトレジストが塗布され、順次搬送ライン３３に沿ってプリベーク装置３６ｂ及びクーリング装置３６ｃを経て露光装置３０の第１アーム４２に受け渡される。

その後、スライダ４１が第１ガイド部材３９に沿って受け渡しピン４４の近傍に達すると、第１アーム４２が回転して、フォトレジストが塗布されたウエハＷが第１アーム４２から受け渡しピン４４上の位置Ａに受け渡されて、ここでウエハの外形基準で中心位置及び回転角の調整（プリアライメント）が行われる。その後、ウエハＷは第２アーム４３に受け渡されて第２ガイド部材４０に沿ってウエハのローディング位置まで搬送され、そこでウエハステージ８５上のウエハホルダ８４にロードされる。そして、そのウエハＷ上の各ショット領域に対してマスクとしてのレチクルの所定のデバイスパターンを通して露光が行われる。

露光処理を終えたウエハＷは、第２ガイド部材４０及び第１ガイド部材３９に沿ってコータ・デベロッパ部３１の搬送ライン３３まで搬送された後、搬送ライン３３に沿って順次ポストベーク装置３７ａ及びクーリング装置３７ｂを経て現像装置３７ｃに送られる。そして、現像装置３７ｃで現像が行われたウエハＷの各ショット領域に、レチクルのデバイスパターンに対応した凹凸のレジストパターンが形成される。このように現像が行われたウエハＷは、必要に応じて形成されたパターンの線幅、重ね合わせ誤差等が測定装置３８で検査され、搬送ライン３３に沿って搬送されてウエハキャリア３５に収納される。このリソグラフィ工程の終了後にウエハキャリア３５内の例えば１ロットのウエハは、例えばエッチング又はイオン注入等のパターン形成工程及びレジスト剥離工程等を実行する製造ラインに搬送される。

次に、図２を参照して露光装置３０について説明する。本実施形態においてはステップ・アンド・スキャン方式の露光装置を例に挙げて説明するが、かかる方式の露光装置以外にステップ・アンド・リピート方式の露光装置（ステッパ）であっても良い。尚、以下の説明においては、図中に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｙ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｘ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。Ｙ軸に沿う方向がスキャン（走査）方向である。

図２において、５１は露光光源であり、この露光光源５１としては断面が略長方形状の平行光束である露光光ＩＬを射出するＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）である。この露光光源５１としては、これ以外に、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を射出する超高圧水銀ランプ、又はＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、Ｆ_２レーザ（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ_２レーザ（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高周波発生装置、若しくは半導体レーザの高周波発生装置を用いることができる。

露光光源５１からの波長１９３ｎｍの紫外パルスよりなる露光光ＩＬ（露光ビーム）は、ビームマッチングユニット（ＢＭＵ）５２を通り、光アッテネータとしての可変減光器５３に入射する。ウエハＷ上のフォトレジストに対する露光量を制御するための露光制御ユニット７３が、露光光源５１の発光の開始及び停止、並びに出力（発振周波数、パルスエネルギー）を制御すると共に、可変減光器５３における減光率を段階的、又は連続的に調整する。

可変減光器５３を通った露光光ＩＬは、レンズ系５４ａ，５４ｂよりなるビーム成形系５５を経て第１段のオプティカル・インテグレータ（ユニフォマイザ、又はホモジナイザ）としての第１フライアイレンズ５６に入射する。この第１フライアイレンズ５６から射出された露光光ＩＬは、第１レンズ系５７ａ、光路折り曲げ用のミラー５８、及び第２レンズ系５７ｂを介して第２段のオプティカル・インテグレータとしての第２フライアイレンズ５９に入射する。

第２フライアイレンズ５９の射出面、即ち露光対象のレチクルＲのパターン面に対する光学的なフーリエ変換面（照明系の瞳面）には開口絞り板６０が、駆動モータ６０ａによって回転自在に配置されている。開口絞り板６０には、通常照明用の円形の開口絞り、輪帯照明用の開口絞り、及び複数（例えば４極）の偏心した小開口よりなる変形照明用の開口絞りや小さいコヒーレンスファクタ（σ値）用の小円形の開口絞り等が切り換え自在に配置されている。露光装置３０の全体の動作を統括制御する主制御系７４が駆動モータ６０ａを介して開口絞り板６０を回転して、照明条件を設定する。

第２フライアイレンズ５９から射出されて開口絞り板６０に形成された何れかの開口絞りを通過した露光光ＩＬは、透過率が高く反射率が低いビームスプリッタ６１に入射する。ビームスプリッタ６１で反射された露光光は、集光用のレンズ７１を介して光電検出器よりなるインテグレータセンサ７２に入射し、インテグレータセンサ７２の検出信号は露光制御ユニット７３に供始されている。インテグレータセンサ７２の検出信号とウエハＷ上での露光光ＩＬの照度との関係は予め高精度に計測されて、露光制御ユニット７３内のメモリに記憶されている。露光制御ユニット７３は、インテグレータセンサ７２の検出信号より間接的にウエハＷに対する露光光ＩＬの照度（平均値）、及びその積分値をモニタできるように構成されている。

ビームスプリッタ６１を透過した露光光ＩＬは、光軸ＩＡＸに沿ってレンズ系６２，６３を順次経て、固定ブラインド（固定照明視野絞り）６４及び可動ブラインド（可動照明視野絞り）６５に入射する。後者の可動ブラインド６５はレチクル面に対する共役面に設置され、前者の固定ブラインド６４はその共役面から所定量だけデフォーカスした面に配置されている。固定ブラインド６４は、投影光学系ＰＬの円形視野内の中央で走査露光方向と直交した方向に直線スリット状、又は矩形状（以下、まとめて「スリット状」という）に伸びるように配置された開口部を有する。

固定ブラインド６４及び可動ブラインド６５を通過した露光光ＩＬは、光路折り曲げ用のミラー６６、結像用のレンズ系６７、コンデンサレンズ６８、及び主コンデンサレンズ系６９を介して、マスクとしてのレチクルＲのパターン面（下面）の照明領域（照明視野領域）ＩＡを照明する。尚、上記ＢＭＵ５２〜主コンデンサレンズ６９は照明光学系ＩＳを構成する。露光光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域ＩＡ内の回路パターンの像が両側テレセントリックな投影光学系ＰＬを介して所定の投影倍率α（αは例えば１／４又は１／５等）で、投影光学系ＰＬの結像面に配置されたウエハＷ上のフォトレジスト層のスリット状の露光領域に転写される。

レチクルＲは、レチクルステージ８１上に吸着保持され、レチクルステージ８１は、レチクルベース８２上でＹ方向に等速移動できると共に、Ｘ方向、Ｙ方向、回転方向に傾斜できるように載置されている。レチクルステージ８１（レチクルＲ）の２次元的な位置及び回転角は駆動制御ユニット８３内のレーザ干渉計によってリアルタイムに計測されている。この計測結果、及び主制御系７４からの制御情報に基づいて、駆動制御ユニット８３内の駆動モータ（リニアモータやボイスコイルモータ等）は、レチクルステージ８１の走査速度、及び位置の制御を行う。

一方、ウエハＷは、ウエハホルダ８４を介してウエハステージ８５上に吸着保持され、ウエハステージ８５は、ウエハベース８６上で投影光学系ＰＬの像面と平行なＸＹ平面に沿って２次元移動する。即ち、ウエハステージ８５は、ウエハベース８６上でＹ方向に一定速度で移動すると共に、Ｘ方向、Ｙ方向にステップ移動する。更に、ウエハステージ８５には、ウエハＷのＺ方向の位置（フォーカス位置）、並びにＸ軸及びＹ軸の回りの傾斜角を制御するＺレベリング機構も組み込まれている。

ウエハステージ８５のＸ方向、Ｙ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の回りの回転角は駆動制御ユニット８７内のレーザ干渉計によってリアルタイムに計測されている。この計測結果及び主制御系７４からの制御情報に基づいて、駆動制御ユニット８７内の駆動モータ（リニアモータ等）は、ウエハステージ８５の走査速度、及び位置の制御を行う。また、ウエハステージ８５上の一端には、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の露光領域に照射される露光光ＩＬの照度（光量）を検出する照度センサ８８が固定されている。

この照度センサ８８は、例えばピンホールセンサが形成された筐体を有し、このピンホールの形成位置に受光素子の受光面が配置されたセンサであり、ピンホールを介して入射する露光光ＩＬの照度（光量）を検出する。照度センサ８８の検出信号は露光制御ユニット７３に供給されている。ウエハステージ８５上に露光光ＩＬが照射されている状態で、照度センサ８８を露光領域内で移動させることにより、露光光ＩＬの照度むら（光量むら）及び積算光量むらを計測することができる。更に、照度センサ８８をＺ方向に移動させつつ露光光ＩＬの照度を検出することで、投影光学系ＰＬの像面位置（ベストフォーカス位置）を求めることもできる。照度センサ８８を用いた照度、この照度むら、及び積算光量むらの測定、並びにベストフォーカス位置の測定は、定期的に又は不定期に実行される。

更に、ウエハステージ８５上の一端には、ウエハステージ８５の基準位置を定める基準部材８９が設けられている。この基準部材８９は、ウエハステージ８５の座標系に対するレチクルＲの相対的な位置及びベースライン量を計測するために用いられる。ここで、ベースライン量とは、例えばレチクルＲに形成されたパターンの投影光学系ＰＬによる投影像の中心位置と後述するウエハ・アライメントセンサ９２の計測視野中心との距離をいう。この基準部材８９には基準マークとして、例えば光透過性の５組のＬ字状パターンからなるスリットパターンと、光反射性のクロムで形成された２組の基準パターン（デューティ比は１：１）とが設けられている。

また、投影光学系ＰＬの側面に、ウエハＷの表面（被検面）の複数の計測点に斜めにスリット像を投影する投射光学系９０ａと、その被検面からの反射光を受光してそれらの複数の計測点のフォーカス位置に対応するフォ−カス信号を生成する受光光学系９０ｂとからなる多点のオートフォーカスセンサも設けられており、それらのフォ−カス信号が主制御系７４に供給されている。投影光学系ＰＬの像面に対するウエハＷの位置ずれであるフォーカス誤差は、上記の照度センサ８８を用いて測定したベストフォーカス位置と、オートフォーカスセンサによって計測される像面位置との差から求められる。

つまり、オートフォーカスセンサは投影光学系ＰＬの像面とウエハＷの表面とが一致している状態において得られる検出結果が零点に設定されている。このため、投影光学系ＰＬの像面の位置又はオートフォーカスセンサの内に設けられる光学部品又はこの部品を保持する機械的な機構が環境変動の影響を受けると、実際にはウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に配置されていても、オートフォーカスセンサの検出結果が零点に一致せず、計測誤差が生じた状態になる。ウエハＷのＺ方向の位置はオートフォーカスセンサの検出結果に基づいて制御されるため、オートフォーカスセンサの計測誤差が露光時におけるフォーカス誤差の原因となる。従って、照度センサ８８を用いて測定したベストフォーカス位置とオートフォーカスセンサによって計測される像面位置との差を求めればフォーカス誤差を求めることができる。

また、走査露光を行う際には、予めレチクルＲとウエハＷとのアライメントを行っておく必要がある。そのため、レチクルステージ８１の上方にはレチクルＲのアライメントマーク（レチクルマーク）の位置を計測するＶＲＡ（Ｖｉｓｕａｌ Ｒｅｔｉｃｌｅ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式のレチクル・アライメントセンサ９１が設置されている。更に、ウエハＷ上のアライメントマーク（ウエハマーク）の位置を計測するために、投影光学系ＰＬの側面にオフ・アクシスで画像処理方式（ＦＩＡ方式：Ｆｉｅｌｄ Ｉｍａｇｅ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ 方式）のウエハ・アライメントセンサ９２が設置されている。ウエハ・アライメントセンサ９２は、例えばハロゲンランプ等からの比較的広い波長域の照明光でウエハＷ上のアライメントマークを照明してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）等の撮像素子でその像を撮像するものである。ウエハ・アライメントセンサ９２で得られた画像信号は主制御系７４に供給されて画像処理が施され、位置情報が計測される。

主制御系７４は、図１に示した制御コンピュータ３２に設けられており、ウエハＷ上の各ショット領域のフォトレジストを適正露光量で走査露光するための各種露光条件を露光データファイルより読み出して、露光制御ユニット７３とも連携して最適な露光シーケンスを実行する。露光処理に先だって、主制御系７４はオートフォーカスセンサの検出結果に基づいてウエハＷの光軸ＡＸ方向の位置及び姿勢を調整した上で、ウエハ・アライメントセンサ９２を用いてウエハＷ上に形成されたアライメントマークの内から予め定めた所定数（３〜９個）のアライメントマークの位置情報を計測する。そして、計測された位置情報を用いてＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）演算といわれる統計演算を行ってウエハＷ上に設定された全てのショット領域の配列を求める。

露光処理が開始されると、主制御系７４は、レチクルステージ８１及びウエハステージ８５のそれぞれの移動位置、移動速度、移動加速度、位置オフセット等の各種情報を駆動制御ユニット８３，８７に送る。これにより、レチクルステージ８１及びウエハステージ８５の加速が開始される。また、主制御系７４は露光制御ユニット７３に対しても走査露光開始指令を発する。レチクルステージ８１及びウエハステージ８５の加速が終了して速度が一定になると、露光制御ユニット７３は露光光源５１の発光を開始すると共に、インテグレータセンサ７２を介してウエハＷに対する露光光ＩＬの照度（単位時間当たりのパルスエネルギーの和）の積分値を算出する。その積分値は走査露光開始時に０にリセットされている。

走査露光中は、レチクルステージ８１を介して露光光ＩＬの照明領域ＩＡに対してレチクルＲが＋Ｙ方向（又は−Ｙ方向）に速度Ｖｒで走査されるのに同期して、ウエハステージ８５を介してレチクルＲのパターン像の露光領域に対してウエハＷが−Ｙ方向（又は＋Ｙ方向）に速度α・Ｖｒ（αはレチクルＲからウエハＷへの投影倍率）で走査される。レチクルＲとウエハＷとの移動方向が逆であるのは、本例の投影光学系ＰＬが反転投影を行うためである。また、走査露光中においても、オートフォーカスセンサの検出結果に基づいて、ウエハＷの姿勢制御が行われる。

また、走査露光中は、露光制御ユニット７３において、露光光ＩＬの照度の積分値が逐次算出され、この結果に応じて、走査露光後のウエハＷ上のフォトレジストの各点で適正露光量が得られるように、露光光源５１の出力（発振周波数、及びパルスエネルギー）及び可変減光器５３の減光率を制御する。そして、当該ショット領域への走査露光の終了時に、露光光源５１の発光が停止される。この動作が繰り返されることにより、ウエハＷ上に設定された複数のショット領域に対して露光処理が行われる。

次に、基板処理装置１１に設けられた制御コンピュータ３２による処理について説明する。前述した通り、基板処理装置１１は、チャンバユニットに設けられたタイマーＴ１の計時結果とライセンスファイルに格納されている内容とを用いて基板処理装置１１の不正使用がなされているか否かを確認するのであるが、その確認方法として「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」がある。

ここで、「使用期限チェック」とは、契約により定められた使用開始日（基板処理装置１１を制御する制御プログラムの使用開始日）から契約により定められた使用許諾期間が経過したか否かを確認することで基板処理装置１１の使用状況を確認する処理である。また、「使用時間チェック」とは、契約により定められた使用開始日からの基板処理装置１１の稼働時間が、契約により定められた累積使用時間を経過したか否かを確認することで基板処理装置１１の使用状況を確認する処理である。以上の処理は、基板処理装置１１が契約通りに使用されているか否かを確認するものである。

また、「停止時間チェック」とは、基板処理装置１１が動作を停止している時間が、所定の閾値を超えているか否かを確認することで、基板処理装置１１の移設が行われたか否かを確認するものである。基板処理装置１１で生じた動作不良を回復する作業は通常２〜３日程度で完了するが、基板処理装置１１の移設作業は７〜１０日程度要する。このため、基板処理装置１１の移設が行われたか否かを判断するための閾値は４〜５日程度に設定される。

ここで、上記の確認を確実ならしめるためには現在時刻を正確に得る必要があり、時間管理を行わなければならない。基板処理装置１１の制御コンピュータ３２ａはネットワークＬＮ１に接続されているため、例えばＮＴＰ（Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｔｉｍｅ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）サーバを構築して基板処理装置１１に設けられた制御コンピュータ３２の各々がＮＴＰサーバを参照するようにすれば、時間管理を行うことができる。しかしながら、前述した通り、セキュリティーを確保するためにネットワークＬＮ１はインターネット等の外部のネットワークには接続されていないため、基板処理装置１１の製造メーカの管理の下での時間管理を行うことはできない。このため、本実施形態では工場内の閉じた環境下において時間管理を行う必要がある。

基板処理装置１１には様々なタイマーが設けられており、このタイマーの計時結果を用いれば時間管理を行うことができる。しかしながら、基板処理装置１１に設けられたタイマーの計時結果は改竄されるおそれがあり、タイマーの計時結果が改竄されてしまうと不正に基板処理装置１１が使用されてしまうことになる。ここで、チャンバユニットに対してオペレータがアクセスしようとするときにはパスワードが必要になるため、チャンバユニット内に設けられたタイマーＴ１の内容は改竄される可能性が低い。そこで、本実施形態では改竄される可能性が低いチャンバユニット内に設けられたタイマーＴ１の計時結果を用いて時間管理を行っている。

前述したライセンスファイルに格納されている内容とタイマーＴ１の計時結果とを用いて「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を定期的に行うことで、基板処理装置１１の不正使用がなされているか否かを確認することができる。これに加え、本実施形態では、ネットワーク接続カード３２ａの物理アドレス、制御コンピュータ３２に割り当てられたＩＰアドレス、及びゲートウェイアドレス等がライセンスファイルに含まれているものと一致するか否かにより移設の有無の確認を確実ならしめている。以下、その確認方法及び不正使用防止方法について詳細に説明する。

図３は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の使用状況確認方法及び不正使用防止方法を説明するための図である。尚、図３において、図１，図２に示した構成に相当する構成については同一の符号を付してあり、図３中のＣＮは露光装置３０に設けられたチャンバユニット（図１，図２では図示を省略）を表しており、ＮＭは制御コンピュータ３２内に設けられたネットワーク設定情報を格納するネットワーク設定情報ファイルを表している。ここで、ネットワーク設定情報とは、制御コンピュータ３２に割り当てられたＩＰアドレス及びゲートウェイアドレスを含む情報である。また、制御部１０１及び記憶部１０２は、制御コンピュータ３２に設けられている。

まず、基板処理装置１１の製造メーカと基板処理装置１１の使用者（基板処理装置１１の購入者（譲受人））との間で基板処理装置１１の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約を締約し、基板処理装置１１の製造メーカ側でライセンス情報Ｌを決定する。ここで、ライセンス情報Ｌとしては、基板処理装置１１の使用開始日（ライセンス付与日）、使用期限又は使用時間、及び停止時間、並びに制御コンピュータ３２に設けられたネットワーク接続カード３２ａの物理アドレス並びに制御コンピュータ３２に割り当てられたＩＰアドレス、ゲートウェイアドレス、及び制御コンピュータ３２の接続先ネットワークアドレス等が含まれる。また、ライセンス情報の漏洩及び改竄を防止するため、ライセンス情報に対するパスワードＰＷを設定する。このパスワードＰＷは基板処理装置１１の製造メーカで管理される。

上記のライセンス情報Ｌを決定するとともにパスワードＰＷを設定すると、次に基板処理装置１１の製造メーカ側に設けられた暗号化装置１００を用いてライセンス情報ＬをパスワードＰＷによって暗号化したライセンスファイルＬＦを作成する。尚、ここで用いる暗号化方法は、ＤＥＳ，ＲＣ４等の暗号化と復号化の鍵が同じ共通鍵方式及びＲＳＡ等の暗号化と復号化の鍵が異なる公開鍵方式の何れであっても良い。

また、後述するように、ＭＤ５、ＳＨＡ−１等のハッシュ関数（復号不能な関数）を用いて、ライセンス情報Ｌを暗号化せずに、改竄がないことの確認を行うことでもよい。

ここで、暗号化の処理時間の速い共通鍵方式、処理時間は遅いが暗号化強度の高い公開鍵方式、及び改竄防止チェックに優れたハッシュ関数方式のいずれか、または複数をデータごとに使い分けてもよい。

作成されたライセンスファイルＬＦは、基板処理装置１１の制御コンピュータ３２に設けられた記憶部１０２に記憶される。尚、図３においては、便宜的にライセンスファイルＬＦが制御コンピュータ３２に設けられた制御部１０１に直接入力されるように図示している。また、ライセンスファイルＬＦとともに、ライセンス情報Ｌを暗号化する際に用いたパスワードＰＷも記憶部１０２に記憶する。

以上の作業を終えて基板処理装置１１を起動すると、記憶部１０２に記憶されたライセンスファイルＬＦ及びパスワードＰＷが読み出され、制御部１０１に設けられた復号プログラムＰ１によりライセンスファイルＬＦが復号される。また、制御コンピュータ３２に設けられたネットワーク接続カード３２ａからイーサネット（登録商標）物理アドレスが読み出されるとともに、チャンバユニットＣＮからユニット識別子（ユニットＩＤ）が読み出され、これらが装置情報ＤＩとして記憶部１０２に記憶される。更に、ネットワーク設定情報ファイルＮＭから制御コンピュータ３２に割り当てられたＩＰアドレス及びゲートウェイアドレスが読み出されて、これらがネットワーク情報ＮＩとして記憶部１０２に記憶される。更に、チャンバユニットＣＮに設けられたタイマーＴ１から現在時刻ＣＴが読み出されて記憶部１０２に記憶される。

次に、制御部１０１に設けられた整合性確認プログラムＰ２は、復号プログラムＰ１により復号されたライセンスファイルＬＦの内容と、記憶部１０２に記憶された装置情報ＤＩ、ネットワーク情報ＮＩ、及び現在時刻ＣＴとの整合性を確認する。具体的には、装置情報ＤＩに含まれるイーサネット（登録商標）物理アドレス及びユニットＩＤ並びにネットワーク情報ＮＩに含まれるＩＰアドレス、ゲートウェイアドレス、及び制御コンピュータの接続先ネットワークアドレスの各々がライセンスファイルＬＦに格納されたものと一致するか否かを確認する。これによって、例えば移設によって基板処理装置１１の装置構成及びネットワーク環境が変化したか否かを確認することができる。

また、整合性確認プログラムＰ２は記憶部１０２に記憶された現在時刻ＣＴと、復号されたライセンスファイルＬＦに格納された基板処理装置１１の使用開始日（ライセンス付与日）、使用期限又は使用時間、及び停止時間とを用いて「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を行い、基板処理装置１１が契約通りに使用されているか否かを確認する。具体的には「使用期限チェック」では現在時刻ＣＴが使用期限内であるか否かを確認し、「使用時間チェック」では現在時刻ＣＴの経過時間を加算して求められる使用累積時間ＰＴが基板処理装置１１の契約で定められた使用時間以内であるか否かを確認する。

また、「停止時間チェック」では装置の運転終了時に現在時刻ＣＴを前回時刻ＰＴとしてチャンバユニットＣＮに設けられたメモリＭ１に書き込み、次に起動した時にメモリＭ１に書き込まれている前回時刻ＰＴを読み出し、前回時刻ＰＴから現在時刻ＣＴまでの経過時間が上記の停止時間内であるか否かの確認を行う。尚、「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」の実行の有無の設定は、記憶部１０２に記憶されているライセンスファイルＬＦに暗号化されて格納されており、メモリＭ１に書き込まれた内容はパスワードにより保護されている。

以上の確認の結果、基板処理装置１１が契約通りに使用されていない場合には、整合性確認プログラムＰ２から基板処理装置１１の各部の動作を制御する制御プログラムＰ３へその旨を示す情報が出力され、この情報に基づいて制御プログラムＰ３は基板処理装置１１の動作を停止させる。制御プログラムＰ３が整合性確認プログラムＰ２からの情報に基づいて基板処理装置１１の動作を停止させると、単に基板処理装置１１を再起動させるだけでは基板処理装置１１の動作を再開させることはできなくなり、所定の処置（例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置１１の動作が停止したままになる。

新たなライセンスの取得が行われると、新たなライセンスファイルＬＦが作成され、このライセンスファイルＬＦとライセンスファイルＬＦの作成時に用いたパスワードＰＷとを制御コンピュータ３２の記憶部１０２に記憶させた上で、基板処理装置１１を再起動させることにより、基板処理装置１１の動作が再開される。ここで、パスワードＰＷの変更は行わず、これまでと同じものを使用してもよい。尚、上記の確認によって基板処理装置１１が契約通りに使用されている場合には、基板処理装置１１の動作停止は行われず、通常通りの動作が継続される。

本実施形態によれば、基板処理装置の製造メーカと顧客との間で締結された基板処理装置１１の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約の内容の一部又は全部を含むライセンス情報を格納するファイルの内容とタイマーＴ１の計時結果とから「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」等の各種チェックを行っているため、基板処理装置１１が不正使用されているか否かを確認することができる。また、不正使用の事実がある場合には所定の処置がなされるまで基板処理装置１１の動作が停止されるため、基板処理装置１１の継続的な不正使用を防止することができる。

なお、上記説明では基板処理装置１１の起動時に基板処理装置１１が契約通りに使用されているかを確認していたが、確認を行うタイミングは、ウエハＷの交換時、ウエハＷ又はレチクルＲのアライメント時、露光開始時、及び露光終了時等、露光処理シーケンス中、所定のタイミングで行うようにしても良い。また、上記の「停止時間チェック」については、一定の時間間隔（例えば、１分毎）でチャンバユニットＣＮへ送信されるチャンバステータスチェック等のコマンド送出終了時に行うと、基板処理装置１１の停止を確実に確認することができるため効果的である。

また、上記実施形態におけるタイマーＴ１は、通常のマイクロコンピュータ等に用いられている現在時刻（年月日時分秒）をカウントするものを前提として説明しているが、これに限られるものではなく、例えば、ライセンス付与日からの経過日数をカウントする日数カウンタを用いてもよい。

また、基板処理装置１１が契約通りに使用されていないことが確認された場合の基板処理装置１１の動作を停止する方法は、上記の通りソフトウェア的に行う方法以外の方法を用いることができる。例えば、通常チャンバユニットＣＮには緊急停止用のボタンが設けられているがこの電気回路を利用して、不正使用が確認された時、内部的にこのボタンをオン状態にしてチャンバユニットＣＮを含めた基板処理装置１１の動作を停止させるようにしても良い。この方法で動作が停止した基板処理装置１１を復帰させるには、基板処理装置１１の製造メーカが所有する専用のキーを用いてオペレータが手動で復帰する方法以外の方法では復帰できないようにすることが望ましい。更に、その専用のキーは基板処理装置１１毎に異なっていることが望ましい。

また、図２に示す露光装置３０に設けられたウエハローダ系（図示省略）、レチクルステージ８１、ウエハステージ８５、及び照明光学系ＩＳに機械的なストッパを設け、基板処理装置１１が契約通りに使用されていないことが確認された場合にこれらのストッパによって露光装置３０の動作を機械的に停止させるようにしても良い。例えば、ローダ系は搬送アームのロック、ステージ系は干渉計光路の遮断、照明光学系はシャッタークローズなどが挙げられる。このストッパは、第三者が操作することができない箇所に設ければ効果的である。

上述した実施形態では、パスワードＰＷ及びライセンスファイルＬＦを制御コンピュータ３２に設けられた記憶部１０２に記憶させていた。ライセンス情報等を格納したライセンスファイルは暗号化されているため、ライセンス情報の漏洩及び改竄を防ぐことができる。しかしながら、暗号化されたライセンスファイル及びパスワードＰＷをライセンス付与後にバックアップしておき、必要なときにこのライセンスファイルを記憶部１０２に書き戻すようにすれば、「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を回避できるとも考えられる。このため、これらはパスワードにより保護されたチャンバユニットＣＮ内のメモリＭ１に記憶させ、復号プログラムＰ１がメモリＭ１からこれらを読み出すようにすることが望ましい。

［第２実施形態］
図４は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図４に示す本発明の第２実施形態に係る基板処理装置１１と図１に示す本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１１とは、基板処理装置１１を動作させる上で必要となる鍵の役割を果たすプロテクトキーＫ１を挿入するポート（図示省略）が制御コンピュータ３２に設けられている点が相違する。ここで、プロテクトキーとは、通称、ドングル（ｄｏｎｇｌｅ）とよばれるハードウエアプロテクトのことで、コンピュータのＵＳＢポート又はパラレルポートにさして使用する。また、前述した第１実施形態ではチャンバユニットに設けられたタイマーＴ１を用いて基板処理装置１１の使用状況を確認していたが、本実施形態ではタイマーＴ１を用いずに基板処理装置１１の使用状況を確認する点が相違する。尚、本実施形態においてもチャンバユニットにタイマーＴ１及びメモリＭ１が設けられた構成でも良いが、図４においては相違点を明確化するため、これらの図示を省略している。

本実施形態においては、制御コンピュータ３２に設けられたポートにプロテクトキーＫ１を挿入しない限り基板処理装置１１を動作させることはできない。このプロテクトキーＫ１はタイマー及びメモリを備えているとともに、外部からのアクセスがパスワードにより保護されている。このため、前述した第１実施形態におけるタイマーＴ１（図１，図３参照）に代えてプロテクトキーＫ１に設けられたタイマーを用いれば「使用期限チェック」、「使用時間チェック」、及び「停止時間チェック」を行うことができる。また、プロテクトキーＫ１はパスワードにより保護されるため、前述した第１実施形態におけるメモリＭ１（図１，図３参照）に代えてプロテクトキーＫ１内のメモリを用いることができる。

本実施形態では、図３においてチャンバユニットＣＮをプロテクトキーＫ１と読み替え、ユニットＩＤをプロテクトキーＩＤと読み替え、タイマーＴ１，メモリＭ１をそれぞれプロテクトキーＫ１内のタイマー，メモリとそれぞれ読み替えれば、第１実施形態と同様の方法で、基板処理装置１１の不正使用の確認及び不正使用の防止を行うことができる。また、上述した第１実施形態の構成に本実施形態の構成を加え、ライセンスファイルＬＦ及びパスワードＰＷ等をチャンバユニットＣＮ及びプロテクトキーＫ１の両方に記憶させても良い。かかる構成にすることで不慮のハードウェア故障に備えることができる。また、複数箇所に記憶させたライセンスファイルＬＦ等を定期的にあるいは必要に応じて相互に照合し、相違がないことを確認することにより、改竄の有無をチェックするようにしてもよい。

［第３実施形態］
図５は、本発明の第３実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す上面図である。図５に示す本発明の第３実施形態に係る基板処理装置１１と図１に示す本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１１とは、制御コンピュータ３２に設けられているタイマーＴ２を用いて基板処理装置１１の使用状況を確認する点が異なる。尚、本実施形態においてもチャンバユニットにタイマーＴ１及びメモリＭ１が設けられ、制御コンピュータ１１にプロテクトキーＫ１を挿入するポートが設けられていても良いが、相違点を明確化するために図５においては図示を省略している。

第１実施形態で説明したチャンバユニットＣＮ及び第２実施形態で説明したプロテクトキーＫ１には露光装置３０の動作が停止した場合でも、タイマーを動作させるためのバッテリが設けられており、これにより基板処理装置１１が停止した場合であっても数年程度はチャンバユニットＣＮのタイマーＴ１及びプロテクトキーＫ１のタイマーを継続動作させることができる。

しかしながら、バッテリによる継続動作可能時間は数年程度に限られ、バッテリが完全に使用されてタイマーが停止した場合には、その後に不正使用が行われる可能性が考えられ、これを防止するために長寿命のバッテリを実装するか、定期的なバッテリ交換管理を行う等の対策が必要になる。また、上述した第１実施形態、第２実施形態では、タイマーＴ１の計時結果又はプロテクトキーＫ１の計時結果を読み込むためのコマンドを新設する必要があり、制御コンピュータ３２の大幅な改変が必要になる可能性がある。

そこで、本実施形態では、制御コンピュータ３２に設けられているタイマーＴ２の計時結果を用いて基板処理装置１１の使用状況を確認している。このタイマーＴ２に対してもバックアップ用のバッテリが設けられているが、通常は主電源から電力が供給されるためこのバッテリは殆ど使用されない。このため、主電源からの電力供給が一時的に停止してしまってもタイマーＴ２はバッテリによって実質的に数十年程度継続動作が可能である。但し、制御コンピュータ３２に設けられるタイマーＴ２は、その計時結果が改竄されるおそれが高い。このため、本実施形態では以下の（１）〜（３）に示す改竄防止措置を講ずる手段（例えば、改竄防止プログラム）を制御コンピュータ３２に設けている。

（１）基板処理装置１１の使用開始日（ライセンス付与日）と日数カウンタとの情報を暗号化されたライセンスファイルＬＦに暗号化して記録しておき、これらの和で示される日時（以下、確認用日時という）がタイマーＴ２の計時結果の日時と一致するか否か、確認用日時がタイマーＴ２の計時結果の日時よりも前であるかを確認する。仮に、上記の確認用日時がタイマーＴ２の計時結果で示される日時よりも後である場合には、タイマーＴ２が前の日時を示すように改竄されていることになる。かかる場合には、タイマーＴ２の日時を確認用日時に修正し、その後に前述した基板処理装置１１の使用状況を確認することにより、基板処理装置１１が契約通りに使用されているか否かを確認することができる。

また、「使用期限チェック」を行う場合に、上記の確認用日時がタイマーＴ３の計時結果の日時よりも前であるときには、現在の日時と一致するように確認用日時を現在の日時と一致させる補正を自動的に行うことが好ましい。これは、メンテナンスによって基板処理装置１１の動作を数日間停止させた場合に、確認用日時が実際の日時と異なり、これを補正するために必要だからである。尚、「使用時間チェック」を行う場合には、この補正は行わない。

（２）整合性確認プログラムＰ２の起動時又は予め設定された時間間隔若しくは任意のタイミングで現在時刻を暗号化されたライセンスファイルＬＦに記録し、新たに現在時刻をライセンスファイルＬＦに記録する際に前回記録した時刻が現在時刻よりも前であることを確認する。仮に、前回記録した時刻が現在時刻よりも後であれば、タイマーＴ２が改竄されていることになる。

（３）制御部１０１に設けられた各種プログラムは、記憶部１０２にフォルダ及びファイルを作成しながら各種の処理を行っている。そこで、予め設定された時間間隔又は任意のタイミングで特定のフォルダ又はファイルの作成日時がタイマーＴ２の計時結果で示される現在時刻よりも前であることを確認する。仮に、フォルダ又はファイルの作成日時が現在時刻よりも後に作成されていたならば、タイマーＴ２が改竄されていることになる。

尚、上記（２），（３）の方法によりタイマーＴ２の改竄が確認された場合には、制御プログラムＰ３により基板処理装置１１の動作を停止させて、所定の処置（例えば、新たなライセンス取得）がなされるまで基板処理装置１１の動作を停止させることが望ましい。また、前述した第１実施形態で説明したタイマーＴ１又は第２実施形態で説明したプロテクトキーＫ１内に設けられているタイマーが使用可能な装置構成であれば、これらのタイマーの計時結果を用いてタイマーＴ２を補正するようにしてもよい。

タイマーＴ２の改竄を確認する方法は、上記の（１）〜（３）の何れかを単独で用いても良く、又は（１）と（３）とを組み合わせ、若しくは（２）と（３）とを組み合わせて用いても良い。また、上記（２）の改竄防止策において、タイマーＴ１及びプロテクトキーＫ１の少なくとも一方を備える構成であれば、現在時刻をライセンスファイルＬＦに記録するのではなく、これらに記録するようにしても良い。尚、本実施形態においては、図３において、タイマーＴ１をタイマーＴ２と読み替え、メモリＭ１を記憶部１０２に設けられたメモリとすれば、第１実施形態と同様の方法で、基板処理装置１１の不正使用の確認及び不正使用の防止を行うことができる。

［第４実施形態］
図６は、本発明の第４実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。図６に示す通り、本実施形態の基板処理装置１１１は、ＧＰＳ（Ｇｌｏｂａｌ Ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ：全地球測位システム）衛星１１０から発せられる電波を受信するアンテナ１１２、ＧＰＳ受信機１１３、及び制御コンピュータ１１４を含んで構成されている。尚、この基板処理装置１１１には、図１に示すコータ・デベロッパ部３１及び図２に示す露光装置３０も設けられている。

ＧＰＳ受信機１１３は、ＧＰＳ衛星１１０から発せられアンテナ１１２で受信した電波に基づいて基板処理装置１１１が設置されている位置を検出し、制御コンピュータ１１４に出力する。制御コンピュータ１１４は、図１に示す制御コンピュータ３２と同様に、基板処理装置１１１の各部を制御することでウエハＷの露光処理を行うのは勿論のこと、ＧＰＳ受信機１１３から出力される位置検出結果に基づいて、基板処理装置１１１の移設が行われたか否かを確認する。この確認によって基板処理装置１１１が移設されたと判断した場合には、制御コンピュータ１１４は前述した第１実施形態と同様の不正使用防止方法により基板処理装置１１１の動作を停止させて所定の処置（例えば、新たなライセンス取得）が行われるまで基板処理装置１１１の使用を不可能にする。

ここで、基板処理装置１１１の使用者（基板処理装置１１１の購入者（譲受人））は、レイアウト変更等により自ら有する工場内で基板処理装置１１１を移設する場合もあれば、基板処理装置１１１を自らの有する他の工場に移設する場合もある。これらの場合の基板処理装置１１１の移設は正当なものであるため、移設により基板処理装置１１１を動作不可能な状態に停止させるのは望ましくない。しかしながら、無制限に移設を認めるとすると、基板処理装置１１１の動作を制御する制御プログラムの不正な使用が行われるおそれも考えられる。

このため、基板処理装置１１１の製造メーカと基板処理装置１１１の使用者（基板処理装置１１１の購入者（譲受人））との間で基板処理装置１１１の動作を制御する制御プログラムの使用許諾契約を締結する際に、基板処理装置１１１の移設の有無を検討し、基板処理装置１１１の移設が行われたか否かを判断するための合理的な閾値（移動可能距離）を設定するのが望ましい。例えば、使用者が有する工場間の移設予定が無いのであれば、例えば閾値を数百メートルに設定して基板処理装置１１１が最初に設置された工場内のみでの移設を認めるようにするのが望ましい。このように閾値を設定することで、例えば日本国内での移設は認めるが、海外への移設は認めないといった制御を行うことができる。上記の閾値をライセンス情報の１つとしてライセンスファイルＬＦに含め、この閾値とＧＰＳ受信機１１３の検出結果とを比較すれば基板処理装置１１１の移設の有無を確認することができる。本実施形態においても、ライセンスファイルＬＦは暗号化されていることが望ましい。

［第５実施形態］
基板処理装置の不正な使用を防止するために、基板処理装置の製造メーカと基板処理装置の使用者（基板処理装置の購入者（譲受人））との間で締結された制御プログラムの使用許諾契約の内容の一部（例えば、使用期限）を、例えば基板処理装置が備える制御コンピュータに設けられた表示パネルに明示すると不正使用の予防になると考えられる。かかる表示をしておけば、その不正使用されている基板処理装置に出入りする業者（例えば、基板処理装置のメンテナンス業者）が不正使用の事実を容易に把握することができる。更には、上記の内容を明示することで、仮に訴訟に発展した場合であっても、基板処理装置の製造メーカは故意による不法行為であることを立証することが可能になると考えられる。

図７ａ〜図７ｃは、基板処理装置に使用される制御プログラムの使用許諾内容の表示例を示す図である。図７ａに示す例では、表示欄Ｄ１に基板処理装置の製造メーカである「Ｎｉｋｏｎ」と「○○○会社」との間で使用許諾が締結されている旨のメッセージｍ１が表示され、その契約内容として使用期限を示すメッセージｍ２と使用時間を示すメッセージｍ３とが表示されている。図７ａに示す例では、表示欄Ｄ１に表示されたメッセージｍ２の内容から基板処理装置を制御する制御プログラムの使用期限が「２００６年１２月３１日」に設定されており、使用時間が「２年」に設定されていることが一目で分かる。

また、図７ｂ及び図７ｃに示す例では、図７ａに示す表示欄Ｄ１よりも表示面積が小さい表示欄Ｄ２に、基板処理装置の製造メーカである「Ｎｉｋｏｎ」を示すメッセージｍ１１と現在時刻を示すメッセージｍ１２とが表示される第１表示（図７ｂ）がなされ、又は基板処理装置の使用者である「○○○会社」を示すメッセージｍ２１と契約内容の一部である使用期限を示すメッセージｍ２２とが表示される第２表示（図７ｃ）がなされる。これらの第１表示と第２表示とは所定の時間間隔（例えば、１０分又は３０分間隔）で交互に表示される。この表示によって、表示面積が小さくても基板処理装置の製造メーカ、基板処理装置の使用者、及び契約内容を表示することができる。

図７ａ〜図７ｃに示す表示は、前述した第１〜第４実施形態の何れにも適用することができる。このとき、図７ａ〜図７ｃに示す表示を制御コンピュータに設けられた表示パネルに常時表示しても良く、所定の時間間隔で表示しても良く、又は任意のタイミングで表示しても良い。尚、表示パネルへの表示は、図７ａ〜図７ｃに示す例に限られず任意の表示方法を用いることができる。例えば、表示欄の表示内容が基板処理装置の製造メーカのみ、基板処理装置の使用者のみ、及び契約内容のみと順次変わるようにしても良い。また、表示パネルがオペレータの指示内容を入力する入力パネルを兼ねている場合には、オペレータの操作を妨げない表示をすることが望ましい。

［その他］
尚、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

例えば、上述した実施形態においては、ライセンス情報Ｌを暗号化する際に基板処理装置１１の製造メーカが定めたパスワードＰＷを用いていたが、このパスワードＰＷの解読防止を図るとともに管理を容易にするために、基板処理装置１１１の号機毎に固有の情報、例えばライセンスファイルＬＦ内に登録されたネットワーク接続カード３２ａの物理アドレス、プロテクトキーＫ１毎に固有のプロテクトキーＩＤ、又はライセンス付与日時等の情報を組み合わせたパスワードＰＷを用いることが望ましい。

また、上記実施形態ではライセンスファイルＬＦの暗号化及び複合を行っていたが、これらの処理を行う代わりに前述したような改竄防止に優れた復号不能な関数（例えば、ハッシュ関数）を用いてライセンス情報から文字列（固有情報）を生成し、それをハッシュ化した内容（ハッシュ値）をライセンス情報と共に（組にして）ライセンスファイルＬＦに登録するようにしても良い。基板処理装置が契約通りに使用されているか否かの判断、または情報の改竄の有無の判断は、ライセンスファイルＬＦに登録されたハッシュ値と、装置情報ＤＩ及びネットワーク情報ＮＩ等をハッシュ化した値とを照合することにより行う。更に、図３に示す制御部１０１に設けられる復号プログラムＰ１、整合性確認プログラムＰ２、及び制御プログラムＰ３は、ソフトウェア的に実装されていても良くハードウェア的に実装されていても良い。

また、上記実施形態では、基板処理装置の使用時間を確認する際にタイマーの計時結果を用いていたが、これ以外に露光処理ショット数、露光処理ウエハ数、露光処理ロット数等の基板の処理量を表す基板処理量を計数する手段を備えておき、この基板処理量を用いて基板処理装置の使用状況を確認しても良い。尚、これらの改竄を防止するために、これらの情報を第１実施形態に示したチャンバユニットＣＮが備えるメモリＭ１若しくは第２実施形態に示したプロテクトキーＫ１が備えるメモリに記憶させ、又は暗号化した上で記憶部１０２に記憶させるのが望ましい。

次に、基板処理装置を用いたデバイスの製造について説明する。図８は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造工程の一例を示すフローチャートである。図８に示されるように、まず、ステップＳ１０（設計ステップ）において、デバイスの機能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１１（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップＳ１２（ウエハ製造ステップ）において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。

次に、ステップＳ１３（ウエハプロセスステップ）において、ステップＳ１０〜ステップＳ１２で用意したマスクとウエハを使用して、リソグラフィ技術によってマスクに形成されたパターンをウエハ上に転写する露光処理、露光処理を終えたウエハを現像する現像処理、現像処理を終えたウエハに対して、例えばエッチングを行う基板処理等の処理を行って、ウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１４（組立ステップ）において、ステップＳ１３において処理されたウエハを用いてチップ化する。このステップＳ１４には、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程が含まれる。最後に、ステップＳ１５（検査ステップ）において、ステップＳ１４で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。

また、上記実施形態では、露光装置３０が露光光ＩＬとしてＡｒＦエキシマレーザ等から射出されるレーザ光を用いていたが、レーザプラズマ光源、又はＳＯＲから発生する軟Ｘ線領域、例えば波長１３．４ｎｍ、又は１１．５ｎｍのＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光を用いるようにしてもよい。さらに、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いてもよい。また、投影光学系ＰＬは、反射光学系、屈折光学系、及び反射屈折光学系のいずれを用いてもよい。

また、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザを、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。

更に、基板処理装置１１，１１１は、半導体素子の製造に用いられるデバイスパターンをウエハＷ上に転写する露光装置だけでなく、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられるデバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミック露光光上に転写する露光装置、撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、及びＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置等を備えていても良い。

本開示は、２００４年８月１２日に提出された日本国特許出願第２００４−２３５２１６号に含まれた主題に関連し、その開示の全てはここに参照事項として明白に組み込まれる。

Claims (18)

1. 基板を処理する基板処理装置において、
   露光装置と、
   前記露光装置を収容するチャンバと、
   前記チャンバの動作を制御する制御ユニットであって、時間を計時するためのタイマー及びメモリを有し、アクセスがパスワードにより保護されたチャンバユニットと、
   前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、
   前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記チャンバユニットの前記タイマーからの計時情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備え、
   前記確認手段は、前記基板処理装置の運転終了時に、前記タイマーで計時された現在時刻を前回時刻として前記チャンバユニットに設けられた前記メモリに書き込み、次に前記基板処理装置を起動した時に、前記メモリに書き込まれている前記前回時刻を読み出し、前記前回時刻から前記タイマーで計時された現在時刻までの経過時間を前記基板処理装置が停止している時間として算出し、当該基板処理装置が停止している時間が前記停止期間を超えたか否かにより、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする基板処理装置。
2. 前記ライセンス情報は更に、前記基板処理装置の使用期限と使用時間とのうちの少なくとも１つと、前記基板処理装置の使用開始日とを含み、
   前記確認手段は更に、前記基板処理装置の前記使用開始日からの使用期間が前記使用期限を経過したか否か、及び前記基板処理装置の前記使用開始日からの累積使用時間が前記使用時間を経過したか否かの少なくとも１つにより、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記ライセンス情報は、前記基板処理装置に関する装置情報及び前記基板処理装置が接続されるネットワークに関するネットワーク情報の少なくとも１つを含み、
   前記確認手段は、前記基板処理装置から得られる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも１つと、前記ライセンス情報に含まれる装置情報及びネットワーク情報の少なくとも１つとの照合を行って前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記ライセンス情報は、該ライセンス情報に基づいて復号不能な関数を用いて生成された固有情報と組になって前記ライセンス情報記憶手段に記憶されているか、或いは暗号化されて該ライセンス情報記憶手段に記憶されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の基板処理装置。
5. 前記タイマーによる計時情報は、前記メモリに暗号化されて記憶されることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記メモリに記憶された計時情報の改竄の有無を判定する改竄判定手段を更に備えることを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記改竄判定手段は、前記ライセンス情報に含まれる前記基板処理装置の使用開始日と当該使用開始からの経過日数との和で示される確認用日時が前記タイマーの計時情報で示される日時と一致するか否か、又は前記確認用日時が前記タイマーの計時情報で示される日時よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
8. 前記改竄判定手段は、前記確認用日時が前記タイマーの計時情報で示される日時よりも前である場合には、前記確認用日時を前記計時情報で示される日時に補正することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
9. 前記タイマーによる計時情報の前記メモリに対する記憶を、予め決められた所定のタイミングで周期的に行い、
   前記改竄判定手段は、前記メモリに記憶された計時情報が前記タイマーによる現在の計時情報よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
10. 前記改竄判定手段は、自動的に作成される特定情報の作成日時が前記タイマーによる現在の計時情報よりも前であるか否かにより、前記改竄の有無を判定することを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
11. 基板を処理する基板処理装置において、
    露光装置と、
    前記露光装置を収容するチャンバと、
    前記チャンバの動作を制御する制御ユニットであって、時間を計時するためのタイマー及びメモリを有し、アクセスがパスワードにより保護されたチャンバユニットと、
    前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報を記憶するライセンス情報記憶手段と、
    前記基板処理装置の前記露光装置における露光処理ショット数、露光処理ウエハ数及び露光処理ロット数の少なくともいずれかを基板処理量として計数する計数手段と、
    前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記計数手段からの計数情報とに基づいて基板処理装置の使用状況を確認する確認手段と、を備え、
    前記確認手段は、前記計数手段で計数された計数情報を前記チャンバユニットに設けられた前記メモリに書き込み、前記ライセンス情報と前記メモリに書き込まれている前記計数情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認する
    ことを特徴とする基板処理装置。
12. 前記ライセンス情報は、前記基板処理装置の移動距離を含み、
    全地球測位システム衛星から発せられる電波を受信して前記基板処理装置の位置を示す位置情報を検出する位置検出手段を更に備え、
    前記確認手段は、前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記移動距離と、前記位置検出手段の検出結果とに基づいて、前記基板処理装置の使用状況を確認することを特徴とする請求項１〜１１のうちの何れか一項に記載の基板処理装置。
13. 前記確認手段によって確認された前記基板処理装置の使用状況が予め定められた前記使用条件に反するものである場合に、所定の処置がなされるまで前記基板処理装置の動作を停止させる停止手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜１２のうちの何れか一項に記載の基板処理装置。
14. 前記所定の処置は、前記基板処理装置の使用条件を新たに定めたライセンス情報を前記ライセンス情報記憶手段に記憶させる処置であることを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
15. 前記復号不能な関数は、ハッシュ関数を含むことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
16. 前記基板処理装置の製造者、前記ライセンス情報を付与されている使用者、及び前記ライセンス情報を付与するにあたって前記使用者との間で結ばれている契約内容の少なくとも一部の何れかを少なくとも表示する表示手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜１５の何れか一項に記載の基板処理装置。
17. 基板を処理する基板処理装置であって、露光装置と、前記露光装置を収容するチャンバと、前記チャンバの動作を制御する制御ユニットであって時間を計時するためのタイマー及びメモリを有しアクセスがパスワードにより保護されたチャンバユニットと、を有する基板処理装置において、当該基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、
    前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件としての、前記基板処理装置の停止時間を含むライセンス情報を格納するライセンスファイルを作成するステップと、
    前記基板処理装置の運転終了時に、前記タイマーで計時された現在時刻を前回時刻として前記チャンバユニットに設けられた前記メモリに書き込むステップと、
    次に前記基板処理装置を起動した時に、前記メモリに書き込まれている前記前回時刻を読み出すステップと、
    前記前回時刻から前記タイマーで計時された現在時刻までの経過時間を前記基板処理装置が停止している時間として算出するステップと、
    前記算出した前記基板処理装置が停止している時間が前記停止時間を超えたか否かを判別することにより、前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、
    を含むことを特徴とする使用状況確認方法。
18. 基板を処理する基板処理装置であって、露光装置と、前記露光装置を収容するチャンバと、前記チャンバの動作を制御する制御ユニットであって時間を計時するためのタイマー及びメモリを有しアクセスがパスワードにより保護されたチャンバユニットと、を有する基板処理装置において、当該基板処理装置の使用状況を確認する使用状況確認方法であって、
    前記基板処理装置の特定使用者に対する使用条件を含むライセンス情報を記憶するステップと、
    前記基板処理装置の前記露光装置における露光処理ショット数、露光処理ウエハ数及び露光処理ロット数の少なくともいずれかを基板処理量として計数するステップと、
    前記計数された計数情報を前記チャンバユニットに設けられた前記メモリに書き込むステップと、
    前記ライセンス情報記憶手段に記憶された前記ライセンス情報と前記メモリに書き込まれている前記計数情報とに基づいて前記基板処理装置の使用状況を確認するステップと、
    を含むことを特徴とする使用状況確認方法。

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