JP4701674B2 - 電子線照射処理方法 - Google Patents
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Description
以下、本実施形態の電子線照射処理方法について図1(a)を参照しながら説明するが、まず、被処理体20へ電子線を照射する電子放出部として用いる平面型の電子源10について説明する。
5 下部電極
6 強電界ドリフト層
7 表面電極
10 電子源
10a 電子源素子
20 被処理体
Claims (2)
- 電子を放出可能な電子放出部から固体もしくは液体もしくは生物よりなる被処理体へ電子線を照射することにより被処理体に物理的作用もしくは化学的作用もしくは生物的作用を生じさせる処理を行う電子線照射処理方法であって、電子放出部として、表面が平面状である表面電極と下部電極との間に表面電極を高電位側とする駆動電圧が印加されたときに電子が通過する電子通過層を有し表面電極を通して電子を放出する平面型の電子源を用い、電子源の表面電極の表面に被処理体を接するようにして電子源から被処理体へ電子線を直接照射するようにし、電子源として、電子通過層が多数のナノメータオーダの半導体微結晶および各半導体微結晶それぞれの表面に形成され半導体微結晶の結晶粒径よりも小さな膜厚の多数の絶縁膜を有する弾道電子面放出型電子源を用いることを特徴とする電子線照射処理方法。
- 前記被処理体は、前記表面電極の法線方向において前記電子源からの電子が前記被処理体中を通過可能な厚さ寸法内に設けることを特徴とする請求項1記載の電子線照射処理方法。
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