JP4687250B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP4687250B2
JP4687250B2 JP2005162359A JP2005162359A JP4687250B2 JP 4687250 B2 JP4687250 B2 JP 4687250B2 JP 2005162359 A JP2005162359 A JP 2005162359A JP 2005162359 A JP2005162359 A JP 2005162359A JP 4687250 B2 JP4687250 B2 JP 4687250B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
group
composition according
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005162359A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2006018249A (ja
JP2006018249A5 (xx
Inventor
健典 藤原
真佐夫 富川
充史 諏訪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2005162359A priority Critical patent/JP4687250B2/ja
Publication of JP2006018249A publication Critical patent/JP2006018249A/ja
Publication of JP2006018249A5 publication Critical patent/JP2006018249A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4687250B2 publication Critical patent/JP4687250B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
JP2005162359A 2004-06-02 2005-06-02 感光性樹脂組成物 Expired - Fee Related JP4687250B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005162359A JP4687250B2 (ja) 2004-06-02 2005-06-02 感光性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004164281 2004-06-02
JP2004164281 2004-06-02
JP2005162359A JP4687250B2 (ja) 2004-06-02 2005-06-02 感光性樹脂組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006018249A JP2006018249A (ja) 2006-01-19
JP2006018249A5 JP2006018249A5 (xx) 2008-07-17
JP4687250B2 true JP4687250B2 (ja) 2011-05-25

Family

ID=35792552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005162359A Expired - Fee Related JP4687250B2 (ja) 2004-06-02 2005-06-02 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4687250B2 (xx)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4725160B2 (ja) * 2005-03-30 2011-07-13 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR100769232B1 (ko) 2006-05-08 2007-10-22 유영선 감광성 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법
JP5169027B2 (ja) * 2006-05-29 2013-03-27 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR101428718B1 (ko) 2007-02-02 2014-09-24 삼성디스플레이 주식회사 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치
JP5343649B2 (ja) * 2008-06-23 2013-11-13 東レ株式会社 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5179972B2 (ja) * 2008-06-27 2013-04-10 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性ポリオルガノシロキサン組成物、ポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法
WO2010067906A1 (en) * 2008-12-08 2010-06-17 Apm Inc. Composition for patterning on thermostable transparent insulator thin film and patterning method of thin film
JP2012082248A (ja) * 2010-10-07 2012-04-26 Autonetworks Technologies Ltd 湿気硬化性液状組成物およびこれを用いた硬化物
CN103959168B (zh) 2011-11-29 2017-07-04 默克专利有限公司 负型感光性硅氧烷组合物
JP5997041B2 (ja) * 2012-12-26 2016-09-21 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物
JP6137862B2 (ja) * 2013-02-20 2017-05-31 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ ネガ型感光性シロキサン組成物
JP6199811B2 (ja) 2014-06-18 2017-09-20 信越化学工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、光硬化性ドライフィルム並びにその製造方法、積層体、及びパターン形成方法
TWI606302B (zh) * 2016-10-18 2017-11-21 臺灣永光化學工業股份有限公司 負型感光性樹脂組成物及其用途
US11119409B2 (en) * 2018-11-22 2021-09-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polysiloxane skeleton polymer, photosensitive resin composition, pattern forming process, and fabrication of opto-semiconductor device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2543122B2 (ja) * 1988-02-09 1996-10-16 松下電器産業株式会社 感光性重合体とその製造方法及びパタ―ン形成方法
JP2597163B2 (ja) * 1988-09-22 1997-04-02 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP3207688B2 (ja) * 1994-10-20 2001-09-10 沖電気工業株式会社 ケイ酸ガラス系無機膜の形成方法
JP3499032B2 (ja) * 1995-02-02 2004-02-23 ダウ コーニング アジア株式会社 放射線硬化性組成物、その硬化方法及びパターン形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006018249A (ja) 2006-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4687250B2 (ja) 感光性樹脂組成物
US7374856B2 (en) Positive type photo-sensitive siloxane composition, cured film formed from the composition and device incorporating the cured film
JP6323225B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた膜の製造方法および電子部品
TWI393746B (zh) 矽氧烷樹脂組成物及其製法
JP4655914B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4784283B2 (ja) ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4687315B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4586655B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4725160B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR102157030B1 (ko) 네거티브형 감광성 실록산 조성물
JPWO2011078106A1 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP6318634B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、硬化膜及び素子
JP2006293337A (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5929679B2 (ja) シラン系組成物およびその硬化膜、並びにそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法
TW201802594A (zh) 感光性矽氧烷組成物
TW201921115A (zh) 正型感光性矽氧烷組成物及使用其之硬化膜
JP5659561B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4556639B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物、それから形成された透明硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5494725B2 (ja) レンズの形成方法、レンズおよびネガ型感光性組成物
TW201905589A (zh) 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、光阻圖案及其形成方法以及電子裝置
WO2021187324A1 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物、パターン構造、及びパターン硬化膜の製造方法
KR101590862B1 (ko) 렌즈의 형성 방법 및 네거티브형 감광성 조성물
WO2023181812A1 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、その硬化物およびそれを具備する表示装置
JPWO2021187324A5 (xx)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080602

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080602

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110131

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4687250

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees