JP4675388B2 - 被処理体の処理装置 - Google Patents
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Description
処理対象の半導体基板は、ウエハボートに載置されて反応管にロードされ、加熱下で、反応管に処理ガスが供給され、半導体基板と処理ガスが反応して又は処理ガス同士が反応して、半導体基板表面に成膜処理がなされる。成膜処理終了後、ウエハボードが反応管からアンロードされ、半導体基板がウエハボートから引き出され、この半導体基板は、次の工程に搬送される。
このため、高品質の半導体装置を高歩留まり率で製造することが困難な場合がある。
従来の縦型熱処理装置の構成では、反応管内での反応副生成物の生成を完全に防止する事は困難であり、その改善が望まれている。
複数の被処理体を収納し、処理を施すための反応管と、
前記反応管内に、被処理体をロードし、処理済みの被処理体をアンロードするローディング機構と、
前記反応管に接続され、該反応管内のガスを排出するための排気通路と、
前記排気通路に接続され、前記反応管内のガスを排気するための排気手段と、
前記排気通路中に配置され、この排気通路を開閉するメインバルブと、
前記メインバルブを跨いで、排気通路同士を接続すると共に上記排気通路のガス流量よりも少ない流量で、前記反応管内のガスを排気するためのバイパス路と、
前記バイパス路中に配置されて、該バイパス路を開閉するバイパスバルブと、
前記排気通路の前記反応管と前記メインバルブとの間に接続され、被処理体のロードの動作中に、前記バイパス路のガス流量よりも少ない流量で前記反応管内のガスを排気するための排気ラインと、
前記排気ライン中に配置され、該排気ラインを開閉する排気ラインバルブと、
前記排気ライン中の前記排気ラインバルブの下流側に配置されたダンパと、
装置の各部を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、被処理体のロード動作時に、前記排気ラインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、該開いた状態の排気ラインバルブを介して、大気圧に対して−5〜−70mmH2Oの圧力差で前記反応管内のガスを排気する、
ことを特徴とする。
前記排気ラインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して前記反応管内のガスを排気しながら、前記ローディング機構を制御して被処理体をローディングし、
ローディング完了後、前記反応管内が第1の圧力に達するまで、前記排気手段を制御して、前記排気ラインバルブを介して、前記反応管内のガスを排気し、
前記反応管内が前記第1の圧力に達した後、前記バイパスバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、前記バイパスバルブを介して、前記反応管内のガスを排気し、
前記反応管内が前記第1の圧力よりも低い第2の圧力に達した後、前記メインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、前記メインバルブを介して、前記反応管内のガスを排気してもよい。
前記制御手段は、例えば、被処理体のロード動作時に、前記バイパスバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、反応副生成物であるNH4Clの昇華ガスが前記被処理体に流れることを防止する。
また、スロー排気用に設けられているスロー排気管と並列にさらに細い配管を配置して排気を行うので、設備の負担を大きくする必要がない。
図1は、この発明の実施の形態にかかる縦型熱処理装置の構成を示す。
この縦型熱処理装置は、図1に示すごとく長手方向が垂直方向に向けられた円筒状の反応管11を備えている。反応管11は、耐熱材料、例えば、石英よりなる下端開口の外筒12と、外筒12内にその内壁に適宜離間されて同心円状に収容された上下端開口の内筒13とから構成された二重管構造を有する。
マニホールド17の上端部には、フランジ18が環状に形成されており、外筒12の下端部に形成されたフランジ19と、弾性部材よりなるOリング20を介して、気密封止可能に構成されている。また、内筒13の下端部はマニホールド17の内壁より内方に突出して形成された支持部21に載置されている。
排気配管63(63a,63b,63c)は、メインバルブMVとトラップTRPを順次介して真空ポンプVPに接続されている。
トラップTRPは、ディスクトラップ、水トラップ等からなり、排気ガス中の粒子を吸着する。
真空ポンプVPは、15000〜20000リットル/分程度の排気容量を有する。
サブバイパス管65は、管路の一部をバイパス管64と共用している。このサブバイパス管65は、ステンレス等からなり、その流量(流量面積)はバイパス管64の排気流量(流量面積)よりも小さく、例えば、径が3mm〜10mm程度に形成されており、ニードルバルブNVと、このニードルバルブNVに直列に設けられたサブバルブSSVとを備える。
ニードルバルブNVは、バルブの両端の圧力差が予め定められた値、例えば、大気圧に対して−5〜−70mmH2O(−0.05〜−0.7kPa)となるように、その開度が予め調整されている。また、サブバルブSSVは、サブバイパス管65を開閉する。
このとき、加熱用ヒータ16を約700〜800℃程度に加熱しておく。
このとき、反応管11の内部と排気配管63内(又はニードルバルブの流入側と流出側)との圧力の差が大気圧に対して−5〜−70mmH2O、望ましくは、−10〜−50mmH2O(−0.1〜−0.5kPa)程度となるように、サブバルブSSVを開けてニードルバルブの開度を調整する。
この圧力差により、反応管11内のガスが排気され、図4に概念的に示すように、反応副生成物の昇華ガス、昇華ガスと雰囲気中の水分とが反応して形成された粒子、その他の浮遊粒子が排気配管63を介して排気される。
また、圧力差が小さく、排気が比較的穏やかであるため、反応管11内のガスが乱れることがなく、付着物を巻き上げることもない。このため、これらの昇華ガスや粒子は、ローディング中の半導体基板15に吸着されることなく、排気配管63を介してトラップTRPに捕捉される。
反応管11内の圧力が20Torr程度まで低下すると、バイパスバルブSVを開き(この時点で、サブバルブSSVを閉じてもよい)、さらに、排気を継続する。
反応管11内の圧力が5Torr程度まで低下すると、メインバルブMVを開き(この時点で、バイパスバルブSVとサブバルブSSVとを閉じてもよい)、反応管11内を所定圧力、例えば、4〜5×10−3Torrまで減圧する。
この間、メインバルブMVを開いたまま排気を続け、オートプレッシャーコントロールにより、反応管内の圧力を0.2〜0.4Torrに制御した状態で、所定時間、例えば、2時間維持して半導体基板15にSi3N4を成膜処理する。
ここで、全てのバルブVB1〜VB4、MV,SV,SSVを閉じた状態とし、所定の時間、例えば、15分間放置して冷却する。
例えば、上記実施の形態においては、バイパス管64とサブバイパス管65の一部を共通にしたが、バイパス管64とサブバイパス管65を完全に別体の構成としてもよい。
また、上記実施の形態においては、サブバイパス管65に開閉バルブSSVとニードルバルブNVとを直列に配置したが、開閉及び開度をフィードバック制御等により適当に制御できるならば、ニードルバルブNVだけを配置してもよい。
例えば、図6に概略を示すように、反応管11とメインバルブMVとの間に、バルブVB5とダンパーDAMを配置し、いわゆる工場排気72につながる、排気ライン71を配置してもよい。この排気ライン71は、バルブVB5がオンされたとき、ダンパーDAMにより緩和されて、大気圧に対して−5〜−70mmH2Oの圧力差で反応管11内を排気する。
被処理対象も半導体基板又はウエハに限定されず、ガラス基板、サファイア基板等、任意の物体を被処理対象とできる。
12 外筒
13 内筒
14 ウエハボート
15 半導体基板
16 加熱用ヒータ
17 マニホールド
31、41 ガス供給管
35,45 ガス源
51 蓋体
54 昇降機構
61 排気管
63 排気配管
64 バイパス管
65 サブバイパス管
Claims (3)
- 複数の被処理体を収納し、処理を施すための反応管と、
前記反応管内に、被処理体をロードし、処理済みの被処理体をアンロードするローディング機構と、
前記反応管に接続され、該反応管内のガスを排出するための排気通路と、
前記排気通路に接続され、前記反応管内のガスを排気するための排気手段と、
前記排気通路中に配置され、この排気通路を開閉するメインバルブと、
前記メインバルブを跨いで、排気通路同士を接続すると共に上記排気通路のガス流量よりも少ない流量で、前記反応管内のガスを排気するためのバイパス路と、
前記バイパス路中に配置されて、該バイパス路を開閉するバイパスバルブと、
前記排気通路の前記反応管と前記メインバルブとの間に接続され、被処理体のロードの動作中に、前記バイパス路のガス流量よりも少ない流量で前記反応管内のガスを排気するための排気ラインと、
前記排気ライン中に配置され、該排気ラインを開閉する排気ラインバルブと、
前記排気ライン中の前記排気ラインバルブの下流側に配置されたダンパと、
装置の各部を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、被処理体のロード動作時に、前記排気ラインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、該開いた状態の排気ラインバルブを介して、大気圧に対して−5〜−70mmH2Oの圧力差で前記反応管内のガスを排気する、
ことを特徴とする被処理体の処理装置。 - 前記制御手段は、
前記排気ラインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して前記反応管内のガスを排気しながら、前記ローディング機構を制御して被処理体をローディングし、
ローディング完了後、前記反応管内が第1の圧力に達するまで、前記排気手段を制御して、前記排気ラインバルブを介して、前記反応管内のガスを排気し、
前記反応管内が前記第1の圧力に達した後、前記バイパスバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、前記バイパスバルブを介して、前記反応管内のガスを排気し、
前記反応管内が前記第1の圧力よりも低い第2の圧力に達した後、前記メインバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、前記メインバルブを介して、前記反応管内のガスを排気する、
ことを特徴とする請求項1に記載の被処理体の処理装置。 - 前記被処理体の処理装置は、前記反応管内にNH3ガスとSiH2Cl2ガスとを供給して、被処理体にSiN膜を形成する装置であり、
前記制御手段は、被処理体のロード動作時に、前記バイパスバルブを開くとともに、前記排気手段を制御して、反応副生成物であるNH4Clの昇華ガスが前記被処理体に流れることを防止する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の被処理体の処理装置。
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