JP4654811B2 - エッチングマスクおよびドライエッチング方法 - Google Patents
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また、前記工程は、被エッチング基材へのドライエッチングが有する加工寸法変動要因に加えて、エッチングマスクの形成におけるパターン形成の寸法変動要因が加わることで、被エッチング基材へのドライエッチング後の加工寸法の変動が大きくなるという問題がある。加えて、レジストやハードマスクの剥離工程に酸素プラズマや酸性溶液、アルカリ性溶液等を用いるため、被エッチング基材にダメージを与え、且つ異物汚染を拡大するという問題がある(特許文献1参照)。
エッチングマスクのうちエッチングマスクパターンが存在する領域は、マスクパターンが形成されたパターン形成薄膜層に、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆されてなり、
エッチングマスクのうち前記エッチングマスクパターンが形成されたパターン形成薄膜層を保持する支持基材が設けられた領域は、
(a)被エッチング基材との距離合わせのための距離合わせの位置合わせ構造体パターンと、
(b)前記パターン形成薄膜層と、
(c)エッチング停止層と、
(d)支持基材がこの順に積層されてなり、
積層された前記(a)位置合わせ構造体パターンと前記(b)パターン形成薄膜層と前記(c)エッチング停止層と前記(d)支持基材を貫通するように、被エッチング基材との位置合わせのための位置合わせパターンの貫通口が形成され、
積層された前記(a)位置合わせ構造体パターンと前記(b)パターン形成薄膜層と前記(c)エッチング停止層と前記(d)支持基材の全体に、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆されており、
かつ、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆された支持基材上に、前記位置合わせパターンの貫通口をふさぐように、前記位置合わせの貫通口を介して被エッチング基材がエッチングされることを防止するためのエッチング保護層が形成されており、
前記エッチング選択性を向上するための薄膜層は、前記パターン形成薄膜層と異なる材質でアルミニウム、シリコン、チタン、クロム、ニッケル、銅、ガリウム、ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデン、パラジウム、銀、インジウム、タンタル、タングステン、白金、金またはこれらの合金または酸化物、窒化物、炭化物であることを特徴とするエッチングマスクである。
例えば被エッチング基材がシリコンの場合はCF4、SF6ガスといったフッ素系ガスを主体とした混合ガス、Cl2ガス、SiCL4ガスといった塩素系ガスを主体とした混合ガス、HBrガスといった臭素系ガスを主体とした混合ガス等が挙げられる。導入されたガスは排気手段15によりチャンバから排気され、チャンバ内は一定の圧力に保たれる。次いでプラズマ発生手段1に電力を供給し、チャンバ内にプラズマを発生してエッチングを行い、被エッチング基材にエッチングマスクの貫通口パターンが転写される。
2…電極
3…被エッチング基材
4…エッチングプラズマ
5…エッチングマスク
6…エッチングマスクと被エッチング基材表面の距離
10…高周波電源
11…高周波整合器
12…ブロッキングコンデンサ
13…エッチング反応器
14…エッチングガス
15…ガス排気手段
16…位置合わせマーク観察手段
17…エッチングマスク保持手段
18…エッチングマスクと被エッチング基材の位置合わせ手段
303…層構造基板
30a…マスクパターンを形成した3層構造基板
30b…エッチングマスクと被エッチング基材との距離合わせの構造体を形成した3層構造基板
31…パターン形成薄膜層(薄膜基材)
32…支持基材
33…エッチング停止層
35…レジスト
36…レジストに形成されたエッチングマスクパターン
36a…パターン形成薄膜層に形成されたエッチングマスクパターン
37…レジストに形成された位置合わせマークパターン
37a…パターン形成薄膜層に形成された位置合わせマークパターン
38…レジスト
39…エッチングマスクと被エッチング基材との距離合わせの構造体パターン(構造体)
39a…エッチングマスクと被エッチング基材との距離合わせの構造体
40…レジスト
41…レジストに形成された支持基材開口パターン
41a…支持基材開口
41b…エッチングストッパー層を除去した支持基材開口
42…レジストに形成された位置合わせマーク部の支持基材開口パターン
42a…位置合わせマーク部の支持基材開口
42b…エッチングストッパー層を除去した位置合わせマーク部の支持基材開口
43…本発明によるエッチングマスク
44…エッチング選択性を向上するための薄膜層(薄膜基材の薄膜)
45…エッチング選択性を向上するための薄膜層を形成したエッチングマスクパターン
46…エッチング選択性を向上するための薄膜層を形成した位置合わせパターン
47…エッチング選択性を向上するための薄膜層を形成したエッチングマスク
48…位置合わせマーク部を介してのエッチングを防止するための保護層(エッチング保護層)
49…エッチングを防止するための保護層を形成したエッチングマスク
50…被エッチング基材
50b…エッチングでパターンが形成された被エッチング基材
51…被エッチング基材に形成された位置合わせマーク
52…エッチングマスクと被エッチング基材の位置合わせ軸
53…エッチングマスクと被エッチング基材表面の距離
54…エッチングマスクと被エッチング基材表面の距離
55…エッチングプラズマ
60…本発明によって被エッチング基材に形成されたパターン
Claims (2)
- パターン形成薄膜層にエッチングパターンの貫通口を形成した構造物をエッチングマスクとして、被エッチング基材上に前記エッチングマスクを非接触で保持してドライエッチングするためのエッチングマスクであって、
エッチングマスクのうちエッチングマスクパターンが存在する領域は、マスクパターンが形成されたパターン形成薄膜層に、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆されてなり、
エッチングマスクのうち前記エッチングマスクパターンが形成されたパターン形成薄膜層を保持する支持基材が設けられた領域は、
(a)被エッチング基材との距離合わせのための距離合わせの位置合わせ構造体パターンと、
(b)前記パターン形成薄膜層と、
(c)エッチング停止層と、
(d)支持基材がこの順に積層されてなり、
積層された前記(a)位置合わせ構造体パターンと前記(b)パターン形成薄膜層と前記(c)エッチング停止層と前記(d)支持基材を貫通するように、被エッチング基材との位置合わせのための位置合わせパターンの貫通口が形成され、
積層された前記(a)位置合わせ構造体パターンと前記(b)パターン形成薄膜層と前記(c)エッチング停止層と前記(d)支持基材の全体に、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆されており、
かつ、エッチング選択性を向上するための薄膜層が被覆された支持基材上に、前記位置合わせパターンの貫通口をふさぐように、前記位置合わせの貫通口を介して被エッチング基材がエッチングされることを防止するためのエッチング保護層が形成されており、
前記エッチング選択性を向上するための薄膜層は、前記パターン形成薄膜層と異なる材質でアルミニウム、シリコン、チタン、クロム、ニッケル、銅、ガリウム、ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデン、パラジウム、銀、インジウム、タンタル、タングステン、白金、金またはこれらの合金または酸化物、窒化物、炭化物であることを特徴とするエッチングマスク。 - エッチングパターンの貫通口を形成したエッチングマスクを用いて、被エッチング基材上に前記エッチングマスクを非接触で保持してエッチングするエッチング方法において、前記請求項1記載のエッチングマスクを用いたエッチング方法であって、エッチング時に、前記距離合わせの構造体と、被エッチング基材表面とを接触させ、エッチングマスクと被エッチング基材の距離を一定に保ってエッチングを実施することを特徴とするドライエッチング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005212363A JP4654811B2 (ja) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | エッチングマスクおよびドライエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005212363A JP4654811B2 (ja) | 2005-07-22 | 2005-07-22 | エッチングマスクおよびドライエッチング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007035679A JP2007035679A (ja) | 2007-02-08 |
JP4654811B2 true JP4654811B2 (ja) | 2011-03-23 |
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ID=37794616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4654811B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5696418B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2015-04-08 | 凸版印刷株式会社 | フォトマスク製造方法 |
JPWO2016132583A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2017-11-30 | コニカミノルタ株式会社 | 薄膜電子デバイスの製造方法、エッチング装置および薄膜電子デバイスの製造装置 |
US9754793B2 (en) | 2015-06-12 | 2017-09-05 | Toshiba Memory Corporation | Method for manufacturing semiconductor device |
JP6489951B2 (ja) | 2015-06-12 | 2019-03-27 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05326466A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-12-10 | Sanyo Electric Co Ltd | ドライエッチング方法 |
JPH07209856A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Sanyo Electric Co Ltd | ステンシルマスク及びその製造方法 |
JP2004349367A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Ulvac Japan Ltd | イオンビームエッチング方法及びイオンビームエッチング装置 |
-
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---|---|---|---|---|
JPH05326466A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-12-10 | Sanyo Electric Co Ltd | ドライエッチング方法 |
JPH07209856A (ja) * | 1994-01-25 | 1995-08-11 | Sanyo Electric Co Ltd | ステンシルマスク及びその製造方法 |
JP2004349367A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Ulvac Japan Ltd | イオンビームエッチング方法及びイオンビームエッチング装置 |
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JP2007035679A (ja) | 2007-02-08 |
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A521 | Written amendment |
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