JP4651717B2 - ククルビツリルを結合されたシリカゲルを用いた静止相およびカラム、そして該カラムを用いたタキソールの分離方法 - Google Patents
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Description
本発明は、ククルビツリルを結合されたシリカゲルを用いた静止相およびカラム、そして前記カラムを用いたタキサンの分離方法に係り、具体的には、精製コストを節減してタキサンの高純度精製を可能にする静止相およびカラム、そして前記カラムを用いたタキサンの分離方法に関する。
パクリタキセル(paclitaxel)は、これまでの15年間で最も重要な抗ガン剤の一つとして知られている。パクリタキセルを含むタキサン(taxane)と呼ばれる天然産物の部類は、ガン関連疾患の治療剤として知られており、多くの他の薬剤に拡大適用される。パクリタキセルは、イチイ科であるタイヘイヨウイチイ(Taxus Brevifolia)の樹皮から抽出された天然産物であるタキサンに含まれている。タキサンのソースとしては、それ以外にも、セイヨウイチイ(Taxus baccata)、カナダイチイ(Taxus canadensis)、ヒマラヤイチチ(Taxus wallichiana)、タキサス・ユンナネンシス(Taxus yunnanensis)、Taxus densiformis、Taxus hicksii、タキサス・ワルディ(Taxus wardii)、イチイ(Taxus cuspidata)、スズメノヤリ(Taxus capitata)、およびTaxus brownieなどがある(Miller et al. J. Org. Chem., 46: 1469(1981)(非特許文献1); McLaughlin et al. J. Nat. Prod., 44: 321(1981)(非特許文献2); Kingston et al. J. Nat. Prod., 45: 466(1982)(非特許文献3))。
発明の技術的目標
本発明がなそうとする技術的課題は、精製コストが節減され、かつタキサンの高純度精製の可能なククルビツリルを結合されたシリカゲルを採用したタキサン分離用の静止相を提供することである。
本発明によれば、下記化学式1または2で表示されるククルビツリルと、化学式3で表示される変形されたシリカゲルとが共有結合されたククルビツリル結合シリカゲルを含むタキサン分離用の静止相が提供される:
式中、R1のうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは4から20までの整数であり、
式中、Rのうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは3から19までの整数であり、
式中、R2は、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルチオール基、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルアミン基、C2−C10のアルキル部分を有するエポキシアルキルオキシアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するイソシアナートアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するハロゲン処理されたアルキル基、またはヒドロキシ基である。
式中、Yは、チオール基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル化されたハロゲン、アジド基、アルケニルオキシ基、カルボニルアルキルオキシ基、チオアルキルオキシ基、アルキルチオールオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アルキルシリルオキシ基、アミノアルキルオキシ基、アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、ヘテロシクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、カルボニルアルキルチオ基、チオアルキルチオ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルキルシリルチオ基、アミノアルキルチオ基、アミノアルキルチオールアルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、ヘテロシクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、アルキルアミン基、アルケニルアミン基、アルキニルアミン基、カルボニルアルキルアミン基、チオアルキルアミン基、ヒドロキシアルキルアミン基、アルキルシリルアミン基、アミノアルキルアミン基、アミノアルキルチオールアルキルアミン基、シクロアルキルアミン基、ヘテロシクロアルキルアミン基、アリールアミン基、アリールアルキルアミン基、ヘテロアリールアミン基、およびヘテロアリールアルキルアミン基からなる群より選択され、aは1から10までの整数であり、R3は、水素、ハロゲン原子、アリル基、C1−C20アルキル基、C1−C20ハロゲン処理されたアルキル基、およびC1−C20アルキルオキシ基からなる群より選択される。
式中、R1のうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは4から20までの整数であり、
式中、Rのうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは3から19まで間の整数であり、
式中、R2は、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルチオール基、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルアミン基、C2−C10のアルキル部分を有するエポキシアルキルオキシアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するイソシアナートアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するハロゲン処理されたアルキル基、またはヒドロキシ基である。
式中、Yは、チオール基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル化されたハロゲン、アジド基、アルケニルオキシ基、カルボニルアルキルオキシ基、チオアルキルオキシ基、アルキルチオールオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アルキルシリルオキシ基、アミノアルキルオキシ基、アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、ヘテロシクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、カルボニルアルキルチオ基、チオアルキルチオ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルキルシリルチオ基、アミノアルキルチオ基、アミノアルキルチオールアルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、ヘテロシクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、アルキルアミン基、アルケニルアミン基、アルキニルアミン基、カルボニルアルキルアミン基、チオアルキルアミン基、ヒドロキシアルキルアミン基、アルキルシリルアミン基、アミノアルキルアミン基、アミノアルキルチオールアルキルアミン基、シクロアルキルアミン基、ヘテロシクロアルキルアミン基、アリールアミン基、アリールアルキルアミン基、ヘテロアリールアミン基、およびヘテロアリールアルキルアミン基からなる群より選択され、aは1から10までの整数であり、R3は、水素、ハロゲン原子、アリル基、C1−C20アルキル基、C1−C20ハロゲン処理されたアルキル基、およびC1−C20アルキルオキシ基からなる群より選択される。
本発明によれば、精製コストが節減され、かつタキサンの高純度精製の可能なククルビツリルを結合されたシリカゲルを採用したタキサン分離用の静止相が提供されうる。
本発明は、ここで添付の図面を参照して、本発明による実施例についてさらに具体的に説明をする。
式中、R1のうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは4から20までの整数である。
式中、Rのうち少なくとも一つは、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XはO、S、またはNHであり、前記nは3から19までの整数である。
式中、R2は、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルチオール基、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルアミン基、C2−C10のアルキル部分を有するエポキシアルキルオキシアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するイソシアナートアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するハロゲン処理されたアルキル基、またはヒドロキシ基である。
式中、Yは、チオール基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル化されたハロゲン、アジド基、アルケニルオキシ基、カルボニルアルキルオキシ基、チオアルキルオキシ基、アルキルチオールオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アルキルシリルオキシ基、アミノアルキルオキシ基、アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、ヘテロシクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、カルボニルアルキルチオ基、チオアルキルチオ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルキルシリルチオ基、アミノアルキルチオ基、アミノアルキルチオールアルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、ヘテロシクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、アルキルアミン基、アルケニルアミン基、アルキニルアミン基、カルボニルアルキルアミン基、チオアルキルアミン基、ヒドロキシアルキルアミン基、アルキルシリルアミン基、アミノアルキルアミン基、アミノアルキルチオールアルキルアミン基、シクロアルキルアミン基、ヘテロシクロアルキルアミン基、アリールアミン基、アリールアルキルアミン基、ヘテロアリールアミン基、およびヘテロアリールアルキルアミン基からなる群より選択され、aは1から10までの整数であり、R3は水素、ハロゲン原子、アリル基、C1−C20アルキル基、C1−C20ハロゲン処理されたアルキル基、およびC1−C20アルキルオキシ基からなる群より選択される。
パクリタキセル:式中、R1=Ph、R2=OH、R3=H、R4=CH3CO
10−デアセチルタキソール:式中、R1=Ph、R2=OH、R3=H、R4=H
7−エピタキソール:式中、R1=Ph、R2=H、R3=OH、R4=CH3CO
セファロマニン:式中、R1=CH3−CH=C(CH3)、R2=OH、R3=H、R4=CH3CO
タキソールC:式中、R1=C5H11、R2=OH、R3=H、R4=CH3CO
7−エピ−10−デアセチルタキソール:式中、R1=Ph、R2=H、R3=OH、R4=H
7−シロキシルタキソール:式中、R1=Ph、R2=H、R3=CH3CO
7−シロキシル−10−デアセチルタキソール:式中、R1=Ph、R2=H、R3=H
7−シロキシル−10−デアセチルタキソールC:式中、R1=C5H11、R2=H、R3=H
7−シロキシル−10−デアセチルセファロマニン:式中、R1=CH3−CH=C(CH3)、R2=H、R3=H
バッカチンIII:式中、R=CH3CO
10−デアセチルバッカチンIII:式中、R=H
タキシニンM
以下、本発明について下記実施例を挙げて説明するが、本発明が下記実施例のみに限定されるものではない。
下記化学式5(n=3)のククルビツリルを結合されたシリカゲルは、前記化学式1のククルビツリルと前記化学式3のシリカゲルとが、前記化学式4のシランリンカーを介して結合させることにより合成された。この場合、化学式1で、XはOであり、R1はいずれもOHであり、nは7であり、化学式3で、R2はOHであり、化学式4で、R3は(OC2H5)3であり、YはNCOであり、aは3である。
13C−CP MAS:δ(ppm):162.3、155.1、98.6、44.4、28.6、23.5、14.8。
FT−IR(KBr):3485、3150、2969、1737、1467、1120−1095cm−1。
下記化学式6(n=3)で表示されるククルビツリルを結合されたシリカゲルは、前記化学式2のククルビツリルと前記化学式3のシリカゲルとが、前記化学式4のシランリンカーを介して結合させることにより合成された。この場合、化学式2で、XはOであり、RはいずれもC6H5−NH2であり、nは6であり、化学式3で、R2はOHであり、化学式4で、R3は(OC2H5)3であり、YはNCOであり、aは3である。
式中、nは3である。
13C−CP MAS:δ(ppm):161.8、152.5、133.3、131.6、128.9、121.4、97.3、49.6、27.5、25.2、15.3。
FT−IR(KBr):3450、3025、2978、1737、1530、1471、1100−1090cm−1。
前記化学式5(n=3)のククルビツリルを結合されたシリカゲル(2.5g)を、メタノール溶媒(50ml)でスラリにした後、前記スラリを長さ15cm、内径0.46cmのHPLC鋼鉄カラム(米国・SUPELCO社製)に充填した。次に、スラリパックキング器具を利用し、前記スラリを鋼鉄カラムの中に押入れ、化学式5のヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされた鋼鉄カラムを得た。次に、前記カラム物質をHPLC機器を使用する分析前に、800psiの圧力下で3時間メタノールで洗浄した。このように準備した鋼鉄カラムをHPLC機器に装着し、HPLC分析のための静止相カラムとして使用した。
イチイの木から得られた原料抽出物からのパクリタキセルの分離を、前記化学式5(n=3)のヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った(純度62.9wt%)。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解してカラムに注入した(10μl)。このとき、抽出液(アセトニトリル:水=35:65v/v)を0.4ml/分の流速で流れるように調節し、パクリタキセル分子の分離がなされるようにし、分離プロセスをUV検出器によって227nmでモニタリングした(図1)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピークと明確に区別することによって明らかに示す。
イチイの木から得られた原料抽出物からのパクリタキセルの分離を、前記化学式5(n=3)の部分置換されたヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った(純度26.6wt%)。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解し、実施例2の条件で、HPLC分析のためにカラムに注入した(10μl)。結果的に、クロマトグラムを得た(図2)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピーク等と明確に区別することによって明らかに示す。
イチイの木から得られた原料抽出物からのパクリタキセルの分離を、前記化学式5(n=3)の部分置換されたヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った(純度7.1wt%)。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解し、実施例2の条件で、HPLC分析のためにカラムに注入した(10μl)。結果的にクロマトグラムを得た(図3)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピーク等と明確に区別することによって明らかに示す。
細胞培養から得られた原料抽出物からのパクリタキセルの分離を、前記化学式5(n=3)の部分置換されたヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った(純度51.6wt%)。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解し、実施例2の条件で、HPLC分析のためにカラムに注入した(10μl)。結果的にクロマトグラムを得た(図4)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピーク等と明確に区別することによって明らかに示す。
細胞培養から得られた原料抽出物からのパクリタキセルの分離を、前記化学式5(n=3)の部分置換されたヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った(純度19.3wt%)。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解し、実施例2の条件で、HPLC分析のためにカラムに注入した(10μl)。結果的にクロマトグラムを得た(図5)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピーク等と明確に区別することによって明らかに示す。
パクリタキセル分子(純度99.9wt%)の分析を、前記化学式5(n=3)の部分置換されたヒドロキシククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされたHPLC機器を使用して行った。純粋なパクリタキセルをアセトニトリル/水の混合物に溶解し、実施例2の条件で、HPLC分析のためにカラムに注入した(10μl)。結果的にクロマトグラムを得た(図6)。前記クロマトグラム上に示されたパクリタキセルのピーク位置に対応するものとして、本発明の他の実施例によるクロマトグラム上のパクリタキセルピーク位置を確認することができた。
実施例2で製造されたジアミノフェニルククルビツリルを結合されたシリカゲル(2.6g)をメタノール溶媒(55ml)でスラリにした後、前記スラリを長さ15cm、内径0.46cmのHPLC鋼鉄カラム(米国・SUPELCO社製)に充填した。次に、スラリパックキング器具を利用し、前記スラリを鋼鉄カラムの中に押入れ、化学式6のジアミノフェニルククルビット[7]ウリルの結合されたシリカゲルでパックキングされた鋼鉄カラムを得た。次に、前記カラム物質をHPLC機器を使用する分析前に、800psiの圧力下で3時間メタノールで洗浄した。このように準備された鋼鉄カラムをHPLC機器に装着し、HPLC分析のための静止相カラムとして使用した。
細胞培養から得られた原料抽出物(純度19.3wt%)からのパクリタキセル分子の分離を、実施例9で製造されたHPLCカラムを用いて行った。原料抽出物試料をアセトニトリル/水の混合物に溶解し、得られた溶液の10μlの一定分量をHPLCカラムに入れた。HPLC分析は実施例4と同じ条件下で行った。結果的にクロマトグラムを得た(図7)。前記クロマトグラムは、前記逆相HPLC精製プロセスから由来する高純度のパクリタキセルを、他の不純物ピークと明確に区別することによって明らかに示す。
純粋なパクリタキセル(4mg)をD2O(1ml)に溶解し、この溶液にククルビット[7]ウリル(10mg)を添加し、室温でパクリタキセル分子の一部分がククルビット[7])ウリルに内包された形態の複合体の1H−NMR分析を記録した。ククルビット[7]ウリルとパクリタキセルとのホスト−ゲスト相互作用を1H−NMRスペクトロスコピによって研究した(図8)。図8で、上側に記録された1H−NMRスペクトルは、パクリタキセル溶液に係るものであり、下側に記録された1H−NMRスペクトルは、パクリタキセル−ククルビット[7]ウリル溶液に係るものである。パクリタキセル溶液中のパクリタキセル内のC6H5−COの芳香族環プロトンのピークは、1H−NMRスペクトル上で、7.45〜8.15ppm間で示される。かような芳香族環プロトンは、ククルビット[7]ウリルとの相互作用後に6.35〜7.05ppm間の範囲にあるアップフィールド(upfield)にシフトされるが、これは、パクリタキセル分子の部分がククルビット[7]ウリルに含まれているという事実を明らかに示す。ククルビット[7]ウリルとパクリタキセルとの相互作用による複合体の形成後に、パクリタキセルの脂肪族プロトンに相応するnmrピークが0.4−1.0ppmで示され、これは、パクリタキセルの脂肪族基がククルビット[7]ウリルと相互作用するという事実を示している。
Claims (27)
- 下記化学式1または2で表示されるククルビツリルと、下記化学式3で表示される変形されたシリカゲルとが共有結合されたククルビツリル結合シリカゲルを含む、タキサン分離用の静止相:
式中、R1のうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、XがO、S、またはNHであり、nが4から20までの整数であり、
式中、Rのうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、XがO、S、またはNHであり、nが3から19までの整数であり、
式中、R2が、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルチオール基、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルアミン基、C2−C10のアルキル部分を有するエポキシアルキルオキシアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するイソシアナートアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するハロゲン処理されたアルキル基、またはヒドロキシ基である。 - 前記ククルビツリル結合シリカゲルが、下記化学式4で表示されるシランリンカーを介して化学式1または2のククルビツリルと化学式3の変形されたシリカゲルとを結合させることにより合成される、請求項1に記載の静止相:
式中、Yが、チオール基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル化されたハロゲン、アジド基、アルケニルオキシ基、カルボニルアルキルオキシ基、チオアルキルオキシ基、アルキルチオールオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アルキルシリルオキシ基、アミノアルキルオキシ基、アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、ヘテロシクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、カルボニルアルキルチオ基、チオアルキルチオ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルキルシリルチオ基、アミノアルキルチオ基、アミノアルキルチオールアルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、ヘテロシクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、アルキルアミン基、アルケニルアミン基、アルキニルアミン基、カルボニルアルキルアミン基、チオアルキルアミン基、ヒドロキシアルキルアミン基、アルキルシリルアミン基、アミノアルキルアミン基、アミノアルキルチオールアルキルアミン基、シクロアルキルアミン基、ヘテロシクロアルキルアミン基、アリールアミン基、アリールアルキルアミン基、ヘテロアリールアミン基、およびヘテロアリールアルキルアミン基からなる群より選択され、aが1から10までの整数であり、R3が、水素、ハロゲン原子、アリル基、C1−C20アルキル基、C1−C20ハロゲン処理されたアルキル基、およびC1−C20アルキルオキシ基からなる群より選択される。 - 前記化学式4のR3が−OC2H5であり、YがNCOであり、aが3である、請求項2に記載の静止相。
- 前記化学式5および6のnが、3である、請求項4に記載の静止相。
- 前記化学式1のR1のうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、アミノフェニル基、アリルオキシ基、ハロゲンメチル基、およびC1−C10アミノアルキル基からなる群より選択され、XがOであり、nが7である、請求項1に記載の静止相。
- 前記ハロゲンメチル基が、ブロモメチル基、フルオロメチル基、またはヨードメチル基である、請求項6に記載の静止相。
- 前記化学式1のR1が、いずれもヒドロキシ基である、請求項1に記載の静止相。
- 前記化学式2のRのうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、アミノフェニル基、アリルオキシ基、ハロゲンメチル基、およびC1−C10アミノアルキル基からなる群より選択され、XがOであり、nが6である、請求項1に記載の静止相。
- 前記ハロゲンメチル基が、ブロモメチル基、フルオロメチル基、またはヨードメチル基である、請求項9に記載の静止相。
- 前記化学式2のRが、いずれもC6H5−NH2である、請求項1に記載の静止相。
- 前記化学式3のR2が、ヒドロキシ基である、請求項1に記載の静止相。
- 請求項1から請求項12までのうちいずれか1項に記載の静止相を充填したタキサン分離用カラム。
- (a)下記化学式1または2で表示されるククルビツリルと、下記化学式3で表示される変形されたシリカゲルとが共有結合されたククルビツリル結合シリカゲルを含む静止相を充填し、タキサン分離用カラムを準備する段階と、
(b)タキサン粉末を所定の溶媒に溶かしてタキサン含有溶液を製造する段階と、
(c)段階(b)で得られたタキサン含有溶液を段階(a)で得られたカラムに適用する段階と、
(d)移動相溶媒を前記カラムに提供し、カラムからタキサン抽出物を抽出する段階と、
(e)段階(d)で得られたタキサン抽出物からタキサンを精製する段階とを含むタキサン分離方法:
式中、R1のうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XがO、S、またはNHであり、前記nが4から20までの整数であり、
式中、Rのうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルオキシ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルチオールオキシ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシロキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルオキシ基、置換または非置換のC6−C30アリールオキシ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルオキシ基;置換または非置換のC1−C30アルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルケニルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキニルチオ基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルチオ基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルチオ基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルチオ基、置換または非置換のC6−C30アリールチオ基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールチオ基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルチオ基;置換または非置換のC1−C30アルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルケニルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキニルアミン基、置換または非置換のC2−C30カルボニルアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30チオアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30ヒドロキシアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルシリルアミン基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−チオカルバメート基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルアルキル−カルボニルオキシ基、置換または非置換のC1−C30トリアルキルオキシシリルヘテロアルキル−アルキルオキシ基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アミノアルキルチオールアルキルアミン基、置換または非置換のC5−C30シクロアルキルアミン基、置換または非置換のC2−C30ヘテロシクロアルキルアミン基、置換または非置換のC6−C30アリールアミン基、置換または非置換のC6−C20アリールアルキルアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアミン基、置換または非置換のC4−C30ヘテロアリールアルキルアミン基、置換または非置換のC1−C30アルキルアジド基、置換または非置換のC1−C30アリールアジド基、置換または非置換のC1−C30アルキルカルボキシルアジド基、および置換または非置換のC1−C30アリールカルボキシルアジド基からなる群より選択され、前記XがO、S、またはNHであり、前記nが3から19までの整数であり、
式中、R2が、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルチオール基、C2−C10のアルキル部分を有するアルキルアミン基、C2−C10のアルキル部分を有するエポキシアルキルオキシアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するイソシアナートアルキル基、C2−C10のアルキル部分を有するハロゲン処理されたアルキル基、またはヒドロキシ基である。 - タキサン分離用カラムの準備において、前記ククルビツリル結合シリカゲルが、下記化学式4で表示されるシランリンカーを介して化学式1または2のククルビツリルと化学式3の変形されたシリカゲルとを結合させることにより合成される、請求項14に記載の方法:
式中、Yが、チオール基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル化されたハロゲン、アジド基、アルケニルオキシ基、カルボニルアルキルオキシ基、チオアルキルオキシ基、アルキルチオールオキシ基、ヒドロキシアルキルオキシ基、アルキルシリルオキシ基、アミノアルキルオキシ基、アミノアルキルチオールアルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、ヘテロシクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールアルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、カルボニルアルキルチオ基、チオアルキルチオ基、ヒドロキシアルキルチオ基、アルキルシリルチオ基、アミノアルキルチオ基、アミノアルキルチオールアルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、ヘテロシクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アリールアルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、アルキルアミン基、アルケニルアミン基、アルキニルアミン基、カルボニルアルキルアミン基、チオアルキルアミン基、ヒドロキシアルキルアミン基、アルキルシリルアミン基、アミノアルキルアミン基、アミノアルキルチオールアルキルアミン基、シクロアルキルアミン基、ヘテロシクロアルキルアミン基、アリールアミン基、アリールアルキルアミン基、ヘテロアリールアミン基、およびヘテロアリールアルキルアミン基からなる群より選択され、aが1から10までの整数であり、R3が、水素、ハロゲン原子、アリル基、C1−C20アルキル基、C1−C20ハロゲン処理されたアルキル基、およびC1−C20アルキルオキシ基からなる群より選択される。 - 前記化学式4のR3が−OC2H5であり、YがNCOであり、aが3である、請求項14に記載の方法。
- 前記化学式5および6のnが、3である、請求項17に記載の方法。
- タキサン抽出物からのタキサン精製が、
有機溶媒を除去するために前記タキサン抽出物を真空蒸留し、タキサン濃縮物を得る段階と、
前記タキサン濃縮物を結晶化させる段階とを含む、
請求項14に記載の方法。 - タキサン抽出物からのタキサン精製が、前記タキサン濃縮物を結晶化させる段階後に、前記タキサン濃縮物を凍結乾燥させる段階をさらに含む、請求項19に記載の方法。
- 前記化学式1のR1のうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、アミノフェニル基、アリルオキシ基、ハロゲンメチル基、およびC1−C10アミノアルキル基からなる群より選択され、XがOであり、nが7である、請求項14に記載の方法。
- 前記ハロゲンメチル基が、ブロモメチル基、フルオロメチル基、またはヨードメチル基である、請求項21に記載の方法。
- 前記化学式1のR1が、いずれもヒドロキシ基である、請求項14に記載の方法。
- 前記化学式2のRのうち少なくとも一つが、水素、ヒドロキシ基、アミノフェニル基、アリルオキシ基、ハロゲンメチル基、およびC1−C10アミノアルキル基からなる群より選択され、XがOであり、nが6である、請求項14に記載の方法。
- 前記ハロゲンメチル基が、ブロモメチル基、フルオロメチル基、またはヨードメチル基である、請求項24に記載の方法。
- 前記化学式2のRが、いずれもC6H5−NH2である、請求項14に記載の方法。
- 前記化学式3のR2が、ヒドロキシ基である、請求項14に記載の方法。
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CN108276412B (zh) * | 2013-11-25 | 2021-02-02 | 四国化成工业株式会社 | 具有缩水甘油基的甘脲类及其利用 |
CN103920477B (zh) * | 2014-04-29 | 2016-03-30 | 河南中医学院 | 一种葫芦[6]脲键合硅胶固定相、制备方法及应用 |
CN105067744B (zh) * | 2015-07-31 | 2017-04-26 | 中国检验检疫科学研究院 | 一种采用葫芦脲固相萃取测定玩具中塑化剂迁移量的方法 |
CN108383197A (zh) * | 2018-04-09 | 2018-08-10 | 山东冬瑞高新技术开发有限公司 | 一种绿色印染废水处理剂及其制备方法 |
CN110078756A (zh) * | 2018-10-27 | 2019-08-02 | 西北大学 | 一种葫芦脲[6]修饰的硅胶载体及其制备方法和在高压液相色谱中的应用 |
CN111896670B (zh) * | 2020-07-24 | 2022-05-17 | 杭州师范大学 | 一种郁金的微提取方法 |
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KR20230156643A (ko) * | 2021-03-17 | 2023-11-14 | 가부시키가이샤 닛스이 | 정제 방법 및 정제된 제품 |
CN113917060A (zh) * | 2021-10-08 | 2022-01-11 | 苏州圣苏新药开发有限公司 | 一种人血浆中紫杉醇的定量分析方法 |
CN115626930B (zh) * | 2022-10-20 | 2024-04-09 | 贵州大学 | 一种七元瓜环-三聚茚衍生物的合成方法及应用 |
CN115651098B (zh) * | 2022-11-15 | 2023-07-25 | 吉林大学 | 一种葫芦脲[7]/二硫代氨基甲酸酯超分子结合的raft链转移试剂及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001122877A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-05-08 | Pohang Univ Of Science & Technology | ククルビツリル誘導体、その製造方法及び用途 |
JP2004521949A (ja) * | 2001-07-04 | 2004-07-22 | ポステック・ファウンデーション | 水溶性及び有機溶解性ククルビツリル誘導体、その調製方法、その分離方法ならびに用途 |
JP2005526708A (ja) * | 2002-01-03 | 2005-09-08 | ポステック ファンデーション | ヒドロキシククルビツリル誘導体、その製造方法及び用途 |
JP2006520789A (ja) * | 2003-03-17 | 2006-09-14 | ナチュラル・ファーマシューティカルズ,インコーポレイテッド | ポリエチレンイミン−結合樹脂を使用するタキサンおよびタキサン混合物の精製 |
JP2006521263A (ja) * | 2003-02-11 | 2006-09-21 | ポステック ファンデーション | ククルビツリルが結合したシリカゲル |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4539399A (en) | 1984-07-27 | 1985-09-03 | Advanced Separation Technologies Inc. | Bonded phase material for chromatographic separations |
US5475120A (en) | 1990-11-02 | 1995-12-12 | University Of Florida | Method for the isolation and purification of taxol and its natural analogues |
WO1992018492A1 (en) * | 1991-04-19 | 1992-10-29 | The University Of Mississippi | Methods and compositions for isolating taxanes |
CA2126698A1 (en) * | 1992-12-07 | 1994-06-23 | Muraleedharan G. Nair | Process for the isolation and purification of taxol and taxanes from taxus spp. |
US5279949A (en) * | 1992-12-07 | 1994-01-18 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Process for the isolation and purification of taxol and taxanes from Taxus spp |
KR100390808B1 (ko) | 1998-11-19 | 2003-11-15 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 안정화된 포커스 오케이신호 발생회로 |
US5969165A (en) * | 1999-01-07 | 1999-10-19 | 508037 (Nb) Inc. | Isolation and purification of paclitaxel and other related taxanes by industrial preparative low pressure chromatography on a polymeric resin column |
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US6878832B2 (en) * | 2000-11-13 | 2005-04-12 | Lahu Saiji | Isolation of taxanes |
US7745620B2 (en) * | 2004-03-13 | 2010-06-29 | Postech Foundation | Disubstituted cucurbiturils and preparing method thereof |
US20060074254A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Zisheng Zhang | Process for extracting taxanes |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001122877A (ja) * | 1999-10-21 | 2001-05-08 | Pohang Univ Of Science & Technology | ククルビツリル誘導体、その製造方法及び用途 |
JP2004521949A (ja) * | 2001-07-04 | 2004-07-22 | ポステック・ファウンデーション | 水溶性及び有機溶解性ククルビツリル誘導体、その調製方法、その分離方法ならびに用途 |
JP2005526708A (ja) * | 2002-01-03 | 2005-09-08 | ポステック ファンデーション | ヒドロキシククルビツリル誘導体、その製造方法及び用途 |
JP2006521263A (ja) * | 2003-02-11 | 2006-09-21 | ポステック ファンデーション | ククルビツリルが結合したシリカゲル |
JP2006520789A (ja) * | 2003-03-17 | 2006-09-14 | ナチュラル・ファーマシューティカルズ,インコーポレイテッド | ポリエチレンイミン−結合樹脂を使用するタキサンおよびタキサン混合物の精製 |
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