JP4642610B2 - Substrate alignment device and substrate accommodation unit - Google Patents

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Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ(FPD)用のガラス基板等の基板を処理する際に、この基板を位置合わせする基板位置合わせ装置、およびこの基板位置合わせ装置を具備した基板収容ユニットに関する。   The present invention relates to a substrate alignment apparatus that aligns a substrate when processing a substrate such as a glass substrate for a flat panel display (FPD), and a substrate accommodation unit that includes the substrate alignment apparatus.

FPDの製造過程において、ガラス基板に対して真空状態でエッチングやアッシング、成膜などの処理を行なう真空処理装置として、前記処理を行なうための複数の真空処理室が配備された、いわゆるマルチチャンバタイプの真空処理装置が用いられている。   A so-called multi-chamber type in which a plurality of vacuum processing chambers for performing the above-described processing are provided as a vacuum processing apparatus that performs processing such as etching, ashing, and film formation on a glass substrate in a vacuum state in the manufacturing process of an FPD. The vacuum processing apparatus is used.

このような真空処理装置においては、真空処理室内の基板のロード/アンロードを行うたびに真空処理室内を常圧に戻す必要がないように、ゲートバルブにより開閉自在な開口を介して、真空処理室に予備真空室であるロードロック室が接続されている。前記処理前の基板は、搬送ピック等の搬送機構により、真空処理室への搬送前に一旦ロードロック室に搬送され、ロードロック室内が真空処理室と同様の真空状態になった後に真空処理室へと搬送される。このため、ロードロック室では、搬送機構による基板の真空処理室内の処理位置への搬送が正確に行われるように、基板を所定の位置に位置合わせするといったことが行われている。   In such a vacuum processing apparatus, vacuum processing is performed through an opening that can be opened and closed by a gate valve so that it is not necessary to return the vacuum processing chamber to normal pressure each time a substrate in the vacuum processing chamber is loaded / unloaded. A load lock chamber, which is a preliminary vacuum chamber, is connected to the chamber. The substrate before processing is once transported to the load lock chamber by a transport mechanism such as a transport pick before being transported to the vacuum processing chamber, and after the load lock chamber is in a vacuum state similar to the vacuum processing chamber, the vacuum processing chamber It is conveyed to. For this reason, in the load lock chamber, the substrate is aligned at a predetermined position so that the substrate is accurately transported to the processing position in the vacuum processing chamber by the transport mechanism.

このような基板の位置合わせに用いられる位置合わせ装置としては、ロードロック室内のバッファ上に支持された基板の対向する角部をそれぞれ押圧可能な一対のポジショナーを備えたものが提案されている(例えば特許文献1参照)。この技術においては、各ポジショナーは、一対のローラーとこれらのローラーを支持する支持体とを有し、基板の対角線方向に移動して、基板の角部を一対のローラーで挟んだ状態で基板を押圧することにより、基板の位置合わせを行う。また、各ポジショナーは、基板の搬送の妨げとならないように下方に退避可能である。
特開2000−306980号公報
As an alignment apparatus used for alignment of such a substrate, a device including a pair of positioners capable of pressing opposite corner portions of a substrate supported on a buffer in a load lock chamber has been proposed ( For example, see Patent Document 1). In this technique, each positioner has a pair of rollers and a support that supports these rollers, moves in the diagonal direction of the substrate, and holds the substrate in a state where the corner of the substrate is sandwiched between the pair of rollers. The substrate is aligned by pressing. Each positioner can be retracted downward so as not to hinder the conveyance of the substrate.
JP 2000-306980 A

ところで、近時、LCD基板は大型化傾向にあり、一辺が2mもの巨大なものが出現するに至っており、基板の巨大化に合わせて従来のままロードロック室等のチャンバを大型化させると、装置自体が著しく巨大化してしまうため、チャンバ内の基板周りのスペースを小さく抑えて、チャンバを極力小型化することが指向されている。しかしながら、上記特許文献1の技術では、ポジショナーは、一対のローラーが支持体に支持されて構成されているため、それ自体が比較的大きなものにならざるを得ず、しかも、それが対角線方向および上下方向に移動するため、その分のスペースが必要であり、ロードロック室の小型化に限界がある。   By the way, the LCD substrate has recently been increasing in size, and a huge one having a side of 2 m has appeared. When the chamber such as the load lock chamber is increased in size as the substrate increases, Since the apparatus itself becomes extremely large, it is directed to miniaturize the chamber as much as possible while keeping the space around the substrate in the chamber small. However, in the technique of Patent Document 1 described above, the positioner is configured by a pair of rollers supported by a support, and thus the positioner itself has to be relatively large. Since it moves in the vertical direction, the space for that is required, and there is a limit to downsizing the load lock chamber.

本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、ロードロック室等の基板を収容する容器内において、基板周りのスペースを極力小さくして基板の位置合わせを行うことができる基板位置合わせ装置、およびこの基板位置合わせ装置を具備した基板収容ユニットを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a substrate alignment apparatus capable of aligning a substrate by reducing a space around the substrate as much as possible in a container that accommodates the substrate, such as a load lock chamber. Another object of the present invention is to provide a substrate accommodation unit including the substrate alignment apparatus.

上記課題を解決するため、本発明は、容器の側壁に設けられた開口から水平方向に搬送され、前記容器内で基板載置部に載置される矩形状の基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置であって、基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構とを具備し、前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であるとともに、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有し、前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする基板位置合わせ装置を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention provides a rectangular substrate that is transported in a horizontal direction from an opening provided on a side wall of a container and is placed on the substrate platform in the container. And a pair of second end surfaces along the substrate transport direction, and a pair of first pressing mechanisms that press the pair of first end surfaces orthogonal to the substrate transport direction. A pair of second pressing mechanisms for pressing the first pressing mechanism, the first pressing mechanism and the second pressing mechanism are respectively a driving mechanism, and the first end surface and the second end surface driven by the driving mechanism. And at least one of the pair of first pressing mechanisms is a cylinder mechanism having a piston in which the drive mechanism moves back and forth horizontally and in a direction perpendicular to the substrate transport direction. with some, driving of the driving mechanism Thus, the driving force conversion mechanism unit moves the pressing element between a retracted position for retracting the substrate out of the conveyance path of the substrate and a pressable position where the substrate can be pressed, and moves the pressing element in the pressing direction at the pressable position. The driving force conversion mechanism section moves the pressing element at the retracted position to the pressable position when the piston of the cylinder mechanism advances to a predetermined stroke, and the piston of the cylinder mechanism further increases the predetermined pressure. When the stroke advances, the pressing element at the pressable position is moved in the pressing direction so that the first end surface is pressed, and in this state, when the piston of the cylinder mechanism is retracted by a predetermined stroke, the first When the pressing element in the pressing state of the end surface is moved to the pressable position and the piston of the cylinder mechanism is further retracted by a predetermined stroke, The serial said pushing element for pushing possible position to provide a substrate alignment apparatus characterized by moving to the retracted position.

本発明の基板位置合わせ装置において、前記駆動機構は前記容器外に設けられていることが好ましい。また、前記駆動力変換機構部は、基板の搬送経路の上方または下方に設けられ、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路の上方または下方に前記搬送経路と平行な状態で退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させることが好ましい。さらに、前記駆動力変換機構部は、前記容器内に固定されたガイド部材と、前記シリンダ機構の前記ピストンの進退とともに、前記ガイド部材に沿って前記ピストンの進退方向にスライド移動する主動スライド部材と、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記ガイド部材に沿って、水平に、かつ主動スライド部材の移動方向と直交する方向にスライド移動する従動スライド部材と、一端部が前記従動スライド部材に回動可能に設けられるとともに、他端部に前記押圧子が回動可能に設けられ、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記一端部を中心として倒伏および起立するように回動するリンク部材とを有し、前記リンク部材が倒伏および起立するように回動することにより、前記押圧子を前記退避位置と前記押圧可能位置との間で移動させ、前記従動スライド部材がスライド移動することにより、前記押圧子を、前記押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させることが好ましい。 In the substrate alignment apparatus of the present invention, it is preferable that the drive mechanism is provided outside the container. The driving force conversion mechanism is provided above or below the substrate transport path, and is driven by the drive mechanism so that the pressing element is parallel to the transport path above or below the substrate transport path. It is preferable to move between a retracted position where the substrate is retracted and a pressable position where the substrate can be pressed, and to move in the pressing direction at the pressable position. Furthermore, before Symbol driving force conversion mechanism includes a guide member fixed to said container, together with advancing and retracting of the piston of the cylinder mechanism, the driving sliding member that slides in forward and backward direction of the piston along the guide member And a driven slide member that slides horizontally along the guide member in a direction perpendicular to the moving direction of the main slide member along with the slide movement of the main slide member by a predetermined stroke, and one end portion of the driven slide member The slide member is rotatably provided, and the pressing member is rotatably provided at the other end, so that the main slide member slides and rises about the one end as the main slide member slides for a predetermined stroke. A link member that rotates, and the link member rotates so as to fall down and stand up. A child is moved between the retracted position and the pressable position, and the driven slide member is slid to move the presser in a pressing direction and a direction opposite to the pressing direction with the pressable position as a start point and an end point. It is preferable to move to.

以上の本発明に係る基板位置合わせ装置において、前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、前記押圧子が前記第1の端面および第2の端面を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段をさらに有することが好ましい。   In the substrate alignment apparatus according to the present invention described above, the first pressing mechanism and the second pressing mechanism alleviate an impact when the pressing element presses the first end face and the second end face, respectively. It is preferable to further have a buffer means.

また、本発明は、側壁に開口が設けられ、前記開口から水平方向に搬送された矩形状の基板を収容する基板収容部を有する容器と、前記基板収容部に設けられ、前記基板収容部に収容された基板を載置する基板載置部と、前記基板載置部に載置された基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置と
を具備した基板収容ユニットであって、前記基板位置合わせ装置は、基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構とを備え、前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であるとともに、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有し、前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする基板収容ユニットを提供する。
According to another aspect of the present invention, there is provided a container having a substrate accommodating portion that accommodates a rectangular substrate that is provided with an opening in a side wall and is transported in a horizontal direction from the opening; and the substrate accommodating portion. A substrate housing unit comprising: a substrate platform for placing a contained substrate; and a substrate alignment device for aligning the substrate placed on the substrate platform on the substrate platform. The substrate alignment apparatus includes a pair of first pressing mechanisms that press a pair of first end surfaces orthogonal to the substrate transport direction, and a pair that presses a pair of second end surfaces along the substrate transport direction. The first pressing mechanism and the second pressing mechanism are respectively a driving mechanism and a pressing element that presses the first end surface and the second end surface by driving the driving mechanism. Of the pair of first pressing mechanisms At least one Chino, the drive mechanism, as well as a cylinder mechanism having a piston that moves back and forth in a direction perpendicular to the horizontal, and the transport direction of the substrate, by the driving of the drive mechanism, the pressing element, the transport path of the substrate the retracted position and the substrate is retracted outside moved between depressible depressible position and further comprising a driving force conversion mechanism that moves in the pressing direction by the pressing can position, the driving force converting mechanism When the piston of the cylinder mechanism advances a predetermined stroke, the pusher in the retracted position is moved to the pressable position, and when the piston of the cylinder mechanism further advances a predetermined stroke, the press of the pressable position The child is moved in the pressing direction so that the first end face is pressed, and in this state, the piston of the cylinder mechanism When the retraction is performed, the pressing member in a state of pressing the first end surface is moved to the pressable position, and when the piston of the cylinder mechanism is further retracted by a predetermined stroke, the pressing member at the pressable position is moved to the retracting position. A substrate housing unit is provided that is moved to the position.

本発明の基板収容ユニットにおいて、前記基板載置部は、搬送された基板の裏面に当接する回転可能な球状コロを有することが好ましい。また、前記容器は、前記基板収容部を上下に2段以上有していることが好ましい。さらに、前記容器は、前記開口が互いに対向する側壁にそれぞれ開閉可能に設けられ、それぞれの前記開口を介して、真空状態で基板に所定の処理を施す真空処理チャンバ内と大気側とに内部が連通可能であり、大気側との基板の受け渡しの際には内部が大気圧近傍に保持されるとともに、前記真空処理チャンバとの基板の受け渡しの際には内部が真空状態に保持されるロードロックチャンバであることが好適である。   In the substrate accommodation unit of the present invention, it is preferable that the substrate platform has a rotatable spherical roller that abuts against the back surface of the conveyed substrate. Moreover, it is preferable that the said container has the said board | substrate accommodating part two or more steps up and down. Further, the container is provided such that the opening is openable and closable on the side walls facing each other, and the interior of the container is provided in a vacuum processing chamber for performing a predetermined process on the substrate in a vacuum state and the atmosphere side through the opening. A load lock that can communicate with each other, and that the interior is held near atmospheric pressure when the substrate is transferred to the atmosphere side, and that the interior is maintained in a vacuum state when the substrate is transferred to and from the vacuum processing chamber. A chamber is preferred.

本発明によれば、各一対の第1および第2の押圧機構により基板の各端面を押圧するため、基板の位置合わせを正確に行うことができるとともに、第1および第2の押圧機構を、それぞれ別個の駆動機構の駆動により、押圧子が基板の端面を押圧するように構成し、さらに、基板の搬送経路にあたる、基板の搬送方向に直交する第1の端面を押圧する少なくとも一方の第1の押圧機構について、押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部を設けて、押圧子が基板の搬送経路から回避移動するようにしたので、容器内における位置合わせのための部材の設置スペースおよび基板の搬送経路から回避移動するためのスペースを著しく小さくすることができる。したがって、容器内の基板周りのスペースを極力小さくすることができ、容器を極力小型化することが可能となる。   According to the present invention, each end face of the substrate is pressed by each pair of first and second pressing mechanisms, so that the substrate can be accurately aligned, and the first and second pressing mechanisms are The pusher presses the end face of the substrate by driving each separate drive mechanism, and at least one of the first end faces perpendicular to the substrate transport direction, which corresponds to the substrate transport path. As for the pressing mechanism, a driving force conversion mechanism that moves the pressing element between a retracted position for retracting the substrate out of the conveyance path of the substrate and a pressable position where the substrate can be pressed, and moves the pressing element in the pressing direction at the pressable position. Since the presser is moved away from the substrate transfer path, the space for positioning the member in the container and the space for moving away from the substrate transfer path are provided. It can be significantly reduced. Therefore, the space around the substrate in the container can be minimized, and the container can be miniaturized as much as possible.

特に、本発明を、マルチチャンバタイプの真空処理装置に用いられるロードロックチャンバに適用する場合には、ロードロックチャンバを極力小型化することが可能となり、基板の大型化に伴って真空処理装置自体が著しく巨大化してしまうといったことを回避することができる。   In particular, when the present invention is applied to a load lock chamber used in a multi-chamber type vacuum processing apparatus, the load lock chamber can be miniaturized as much as possible, and the vacuum processing apparatus itself as the substrate becomes larger. Can be avoided.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい形態について説明する。ここでは、本発明の基板位置合わせ装置をFPD用ガラス基板(以下、単に「基板」と記す)Sに対してプラズマ処理を行なうためのマルチチャンバタイプのプラズマ処理装置を構成するロードロック装置に用いた例について説明する。ここで、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、発光ダイオード(LED)ディスプレイ、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、蛍光表示管(Vacuum Fluorescent Display;VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Here, the substrate alignment apparatus of the present invention is used for a load lock apparatus constituting a multi-chamber type plasma processing apparatus for performing plasma processing on an FPD glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) S. An example will be described. Here, as the FPD, a liquid crystal display (LCD), a light emitting diode (LED) display, an electro luminescence (EL) display, a fluorescent display tube (VFD), a plasma display panel (PDP), and the like. Illustrated.

図1は本発明の一実施形態に係る基板位置合わせ装置がロードロックチャンバに適用されたプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図であり、図2はその内部を概略的に示す水平断面図である。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a plasma processing apparatus in which a substrate alignment apparatus according to an embodiment of the present invention is applied to a load lock chamber, and FIG. 2 is a horizontal sectional view schematically showing the inside thereof. is there.

このプラズマ処理装置1は、その中央部に搬送室20とロードロックチャンバ30とが連設されている。搬送室20の周囲には、3つのプロセスチャンバ10a,10b,10cが配設されている。   The plasma processing apparatus 1 has a transfer chamber 20 and a load lock chamber 30 connected to each other at the center. Around the transfer chamber 20, three process chambers 10a, 10b, 10c are arranged.

搬送室20と各プロセスチャンバ10a,10b,10cとの間、搬送室20とロードロックチャンバ30との間、およびロードロックチャンバ30と外側の大気雰囲気とを連通する開口には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブ22がそれぞれ介挿されている(搬送室20と各プロセスチャンバ10a,10b,10cとの間、搬送室20とロードロックチャンバ30との間のもののみ図示)。   Between the transfer chamber 20 and each of the process chambers 10a, 10b, and 10c, between the transfer chamber 20 and the load lock chamber 30, and in the opening that communicates the load lock chamber 30 with the outside air atmosphere, there is a space between them. Gate valves 22 that are hermetically sealed and configured to be openable and closable are respectively inserted (between the transfer chamber 20 and the process chambers 10a, 10b, and 10c, and between the transfer chamber 20 and the load lock chamber 30). Only the one shown).

ロードロックチャンバ30の外側には、2つのカセットインデクサ41が設けられており、その上にそれぞれ基板Sを収容するカセット40が載置されている。これらカセット40の一方には、例えば未処理基板を収容し、他方には処理済み基板を収容できる。   Two cassette indexers 41 are provided outside the load lock chamber 30, and cassettes 40 for accommodating the substrates S are placed thereon. One of these cassettes 40 can store, for example, an unprocessed substrate, and the other can store a processed substrate.

これら2つのカセット40の間には、支持台44上に搬送機構43が設けられており、この搬送機構43は、上下2段に設けられたピック45,45と、これらのピック45,45を、個別的に進退可能に、かつ、まとめて回転および昇降可能に支持するベース47とを具備している。   Between these two cassettes 40, a transport mechanism 43 is provided on a support base 44. The transport mechanism 43 includes picks 45, 45 provided in two upper and lower stages, and these picks 45, 45. And a base 47 that can be individually moved forward and backward, and can be rotated and raised and lowered together.

前記プロセスチャンバ10a,10b,10cは、その内部空間が所定の減圧雰囲気に保持されることが可能であり、その内部でプラズマ処理、例えばエッチング処理やアッシング処理が行なわれる。このように3つのプロセスチャンバを有しているため、例えばそのうち2つのプロセスチャンバをエッチング処理室として構成し、残りの1つのプロセスチャンバをアッシング処理室として構成したり、3つのプロセスチャンバ全てを、同一の処理を行なうエッチング処理室やアッシグ処理室として構成することができる。なお、プロセスチャンバの数は3つに限らず、4つ以上であってもよい。   The process chambers 10a, 10b, and 10c can have their internal spaces held in a predetermined reduced-pressure atmosphere, and plasma processing, for example, etching processing or ashing processing is performed therein. Since it has three process chambers in this way, for example, two of the process chambers are configured as an etching process chamber, and the remaining one process chamber is configured as an ashing process chamber. It can be configured as an etching chamber or an ashing chamber that performs the same processing. The number of process chambers is not limited to three and may be four or more.

搬送室20は、真空処理室と同様に所定の減圧雰囲気に保持することが可能であり、その中には、図2に示すように、搬送装置50が配設されている。そして、この搬送装置50により、ロードロックチャンバ30および3つのプロセスチャンバ10a,10b,10cの間で基板Sが搬送される。搬送機構50は、上下2段に設けられたピック51、51(図2では上段のみ図示)と、これらのピック51,51を、個別的に進退可能に、かつ、まとめて回転および昇降可能に支持するベース52とを具備している。   Similarly to the vacuum processing chamber, the transfer chamber 20 can be maintained in a predetermined reduced pressure atmosphere, and a transfer device 50 is disposed therein as shown in FIG. The transfer device 50 transfers the substrate S between the load lock chamber 30 and the three process chambers 10a, 10b, and 10c. The transport mechanism 50 has picks 51 and 51 (only the upper stage is shown in FIG. 2) provided in two upper and lower stages, and these picks 51 and 51 can be moved forward and backward individually, and can be rotated and lifted together. And a supporting base 52.

ロードロックチャンバ30は、各プロセスチャンバ10および搬送室20と同様に、所定の減圧雰囲気に保持されることが可能である。また、ロードロックチャンバ30は、大気雰囲気にあるカセット40と減圧雰囲気のプロセスチャンバ10a,10b,10cとの間で基板Sの授受を行うためのものであり、大気雰囲気と減圧雰囲気とを繰り返す関係上、極力その内容積が小さく構成されている。   The load lock chamber 30 can be maintained in a predetermined reduced-pressure atmosphere, like the process chambers 10 and the transfer chamber 20. The load lock chamber 30 is for transferring the substrate S between the cassette 40 in the air atmosphere and the process chambers 10a, 10b, and 10c in the reduced pressure atmosphere, and the relationship between the air atmosphere and the reduced pressure atmosphere is repeated. In addition, the internal volume is made as small as possible.

ロードロックチャンバ30は、基板収容部31が上下2段に設けられており(図2では上段のみ図示)、各基板収容部31には、基板Sを載置して支持する複数のバッファ(基板載置部)32が設けられている。これらバッファ32の間には、基板Sを搬送した際のピック45、51の逃げ溝32aが形成されている。また、各基板収容部31に対応するようにロードロックチャンバ30には、矩形状の基板Sの互いに対向する角部付近において位置合わせを行なう第1および第2のポジショナー(第1および第2の押圧機構)7,8が設けられている。ロードロックチャンバ30ならびに第1および第2のポジショナー7,8については後に詳細に説明する。   The load lock chamber 30 is provided with substrate accommodation portions 31 in two upper and lower stages (only the upper stage is shown in FIG. 2), and each substrate accommodation portion 31 has a plurality of buffers (substrates) on which the substrate S is placed and supported. (Placing part) 32 is provided. Between these buffers 32, relief grooves 32 a for picks 45 and 51 when the substrate S is transported are formed. Further, in the load lock chamber 30 so as to correspond to the respective substrate accommodating portions 31, first and second positioners (first and second positioners) that perform alignment in the vicinity of opposite corner portions of the rectangular substrate S are provided. (Pressing mechanism) 7 and 8 are provided. The load lock chamber 30 and the first and second positioners 7 and 8 will be described in detail later.

プラズマ処理装置1の各構成部は、制御部60に接続されて制御される構成となっている(図1では図示を省略)。制御部60の概要を図3に示す。制御部60は、CPUを備えたプロセスコントローラ61を備え、このプロセスコントローラ61には、工程管理者がプラズマ処理装置1を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、プラズマ処理装置1の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース62が接続されている。   Each component of the plasma processing apparatus 1 is connected to and controlled by the controller 60 (not shown in FIG. 1). An outline of the control unit 60 is shown in FIG. The control unit 60 includes a process controller 61 having a CPU. The process controller 61 includes a keyboard on which a process administrator inputs a command to manage the plasma processing apparatus 1, and the plasma processing apparatus 1. A user interface 62 composed of a display for visualizing and displaying the operating status is connected.

また、制御部60は、プラズマ処理装置1で実行される各種処理をプロセスコントローラ61の制御にて実現するための制御プログラム(ソフトウエア)や処理条件データ等が記録されたレシピが格納された記憶部63を有しており、この記憶部63はプロセスコントローラ61に接続されている。   In addition, the control unit 60 stores a recipe in which a control program (software) for realizing various processes executed by the plasma processing apparatus 1 under the control of the process controller 61 and processing condition data are stored. The storage unit 63 is connected to the process controller 61.

そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース62からの指示等にて任意のレシピを記憶部63から呼び出してプロセスコントローラ61に実行させることで、プロセスコントローラ61の制御下で、プラズマ処理装置1での所望の処理が行われる。   Then, if necessary, an arbitrary recipe is called from the storage unit 63 by an instruction from the user interface 62 and is executed by the process controller 61, so that a desired process in the plasma processing apparatus 1 is performed under the control of the process controller 61. Is performed.

前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、例えばCD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用したり、あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。   Recipes such as the control program and processing condition data may be stored in a computer-readable storage medium, such as a CD-ROM, hard disk, flexible disk, flash memory, or from another device. For example, it is possible to transmit the data as needed via a dedicated line and use it online.

次に、本実施形態に係る基板位置合わせ装置、および基板位置合わせ装置を備えたロードロックチャンバ30について詳細に説明する。   Next, the substrate alignment apparatus according to this embodiment and the load lock chamber 30 including the substrate alignment apparatus will be described in detail.

図4は、ロードロックチャンバ30の一部を切り欠いて示す斜視図である。   FIG. 4 is a perspective view showing the load lock chamber 30 with a part cut away.

ロードロックチャンバ30の各基板収容部31は、基板Sの搬送方向(Y方向)に対向する側壁にそれぞれ、ゲートバルブ22によって、搬送室20とを連通可能な開口33、および外側の大気雰囲気とを連通する開口34を有し、少なくとも開口34の閉塞時には内部が所定の減圧雰囲気、例えば真空状態まで減圧可能である。各基板収容部31では、搬送機構43または50により水平または略水平に搬送された基板Sが、開口34または33を介して各基板収容部31内に収容され、複数のバッファ32上に跨って載置されるように構成されている。   Each substrate accommodating portion 31 of the load lock chamber 30 has an opening 33 that can communicate with the transfer chamber 20 by a gate valve 22 on the side wall facing the transfer direction (Y direction) of the substrate S, and an outside air atmosphere. And at least when the opening 34 is closed, the inside can be depressurized to a predetermined reduced pressure atmosphere, for example, a vacuum state. In each substrate housing portion 31, the substrate S transported horizontally or substantially horizontally by the transport mechanism 43 or 50 is housed in each substrate housing portion 31 through the opening 34 or 33 and straddles over the plurality of buffers 32. It is comprised so that it may be mounted.

複数のバッファ32のうち、例えば、基板の搬送方向と直交する水平方向(X方向)の中央部に設けられたバッファ32の上端部には、搬送された基板Sの裏面に当接する回転可能な球状コロ35が所定の間隔を有して複数設けられ、例えばX方向外側のバッファ32の上端部には、搬送された基板Sの角部の裏面に当接する支持ピン36がY方向両端部に設けられている。これにより、複数のバッファ32上に載置された基板は、球状コロ35の回転によりバッファ32上を移動することができるとともに、支持ピン36との摩擦によりバッファ32上で静止することができる。   Among the plurality of buffers 32, for example, the upper end portion of the buffer 32 provided at the central portion in the horizontal direction (X direction) orthogonal to the substrate transport direction is rotatable to contact the back surface of the transported substrate S. A plurality of spherical rollers 35 are provided with a predetermined interval. For example, support pins 36 that contact the back surface of the corner of the transported substrate S are provided at both ends in the Y direction at the upper end of the buffer 32 outside the X direction. Is provided. Thus, the substrates placed on the plurality of buffers 32 can move on the buffer 32 by the rotation of the spherical roller 35 and can be stationary on the buffer 32 by friction with the support pins 36.

第1のポジショナー7は、基板収容部31内に収容された基板SのY方向に直交または略直交する端面S1を押圧するためのものであり、端面S1を押圧する押圧子70と、押圧子70を移動させるためのシリンダ機構(駆動機構)71と、押圧子70とシリンダ機構71との間に介在され、シリンダ機構71の駆動力を方向変換して押圧子70に伝達する駆動力変換機構部72とを備えている。第2のポジショナー8は、基板収容部31内に収容された基板SのX方向に直交または略直交する端面S2を押圧するためのものであり、端面S2を押圧する押圧子80と、押圧子80を移動させるためのシリンダ機構(駆動機構)81とを備えている。第1のポジショナー7および第2のポジショナー8は、基板収容部31の対向する2つの角部近傍にそれぞれ設置されており、かつ、上下の基板収容部31,31間において異なる角部近傍に設置されている。第1および第2のポジショナー7,8は基板位置合わせ装置を構成し、ロードロックチャンバ30、ロードロックチャンバ30内の基板収容部31に設けられたバッファ32、および基板位置合わせ装置は基板収容ユニットを構成する。   The first positioner 7 is for pressing an end surface S1 orthogonal or substantially orthogonal to the Y direction of the substrate S accommodated in the substrate accommodating portion 31, and includes a presser 70 that presses the end surface S1, and a presser A cylinder mechanism (driving mechanism) 71 for moving 70, and a driving force conversion mechanism that is interposed between the pressing element 70 and the cylinder mechanism 71, and changes the direction of the driving force of the cylinder mechanism 71 and transmits it to the pressing element 70. Part 72. The second positioner 8 is for pressing the end surface S2 orthogonal to or substantially orthogonal to the X direction of the substrate S accommodated in the substrate accommodating portion 31, and includes a presser 80 that presses the end surface S2, and a presser And a cylinder mechanism (drive mechanism) 81 for moving 80. The first positioner 7 and the second positioner 8 are respectively installed in the vicinity of two opposing corners of the substrate housing 31 and installed in the vicinity of different corners between the upper and lower substrate housings 31, 31. Has been. The first and second positioners 7 and 8 constitute a substrate alignment apparatus. The load lock chamber 30, the buffer 32 provided in the substrate accommodation portion 31 in the load lock chamber 30, and the substrate alignment apparatus are substrate accommodation units. Configure.

シリンダ機構71は、ロードロックチャンバ30の基板収容部31外に設置された、より具体的には、バッファ32上に載置された基板Sと略同じ高さとなるように、ロードロックチャンバ30または基板収容部31のX方向と直交する側壁からロードロックチャンバ30外に突出して設置された、X方向に延びるシリンダ本体73と、このシリンダ本体73に進退可能に設けられたピストン74とを有する電動シリンダにより構成されており(図5〜8、10〜12も参照)、ステッピングモータにより電気エネルギーを力学エネルギーに変換して、シリンダ本体73に対してピストン74を所定量進退させるものである。   The cylinder mechanism 71 is installed outside the substrate housing portion 31 of the load lock chamber 30, more specifically, the load lock chamber 30 or so as to be substantially the same height as the substrate S placed on the buffer 32. An electric motor having a cylinder main body 73 extending from the side wall orthogonal to the X direction of the substrate housing portion 31 and extending outside the load lock chamber 30 and extending in the X direction, and a piston 74 provided in the cylinder main body 73 so as to advance and retreat. It is constituted by a cylinder (see also FIGS. 5 to 8 and 10 to 12), and converts the electric energy into mechanical energy by a stepping motor and moves the piston 74 forward and backward with respect to the cylinder body 73.

図5〜9に示すように(図5は駆動力変換機構部72を示す分解斜視図であり、図6は駆動力変換機構部72の作動の第1段階を説明するための斜視図であり、図7は駆動力変換機構部72の作動の第2段階を説明するための斜視図であり、図8は駆動力変換機構部72の作動の第3段階を説明するための斜視図であり、図9は駆動力変換機構部72の一部を切り欠いて示す平面図)、駆動力変換機構部72は、基板収容部31内の底面に固定された板状のガイド部材75と、X方向にスライド移動可能にガイド部材75に取り付けられた主動スライド部材76と、Y方向にスライド移動可能にガイド部材75に取り付けられた従動スライド部材77と、一端部が従動スライド部材77にY方向を軸として回動可能に設けられて、他端部に押圧子70が回動可能に設けられた一対のリンク部材78、79とを備えている。   As shown in FIGS. 5 to 9 (FIG. 5 is an exploded perspective view showing the driving force converting mechanism 72, and FIG. 6 is a perspective view for explaining the first stage of the operation of the driving force converting mechanism 72. 7 is a perspective view for explaining a second stage of the operation of the driving force converting mechanism 72, and FIG. 8 is a perspective view for explaining a third stage of the operation of the driving force converting mechanism 72. FIG. 9 is a plan view showing a part of the driving force conversion mechanism 72 cut away), and the driving force conversion mechanism 72 includes a plate-shaped guide member 75 fixed to the bottom surface in the substrate housing 31, and X A driven slide member 76 attached to the guide member 75 so as to be slidable in the direction, a driven slide member 77 attached to the guide member 75 so as to be slidable in the Y direction, and one end portion of the driven slide member 77 in the Y direction. It is pivotally provided as a shaft, and is Child 70 and a pair of link members 78 and 79 rotatably provided.

主動スライド部材76は、X方向に延びる形状を有し、Y方向に間隔を有して一対のスライド部760がX方向中間部に設けられている。スライド部760の底面にはそれぞれ、X方向に延びるスライド溝761が形成されており(一方のみ図示)、スライド溝761が、ガイド部材75に形成されたX方向に延びるX方向ガイド部751にスライド可能に嵌め込まれることにより、主動スライド部材76は、X方向にスライド移動可能にガイド部材75に取り付けられる。スライド部760は、X方向ガイド部751に沿ってスライドしやすいように、少なくともスライド溝761部分が低摩擦材料で形成されている。X方向ガイド部751の両端部にはそれぞれ、スライド部760のスライドを規制するストッパ部753が設けられている。   The main slide member 76 has a shape extending in the X direction, and a pair of slide portions 760 are provided in the intermediate portion in the X direction with an interval in the Y direction. A slide groove 761 extending in the X direction is formed on each bottom surface of the slide portion 760 (only one is shown), and the slide groove 761 slides on the X direction guide portion 751 formed in the guide member 75 and extending in the X direction. The main sliding member 76 is attached to the guide member 75 so as to be slidable in the X direction by being fitted. At least the slide groove 761 portion is formed of a low friction material so that the slide portion 760 can easily slide along the X direction guide portion 751. Stopper portions 753 for restricting sliding of the slide portion 760 are provided at both ends of the X direction guide portion 751.

主動スライド部材76のX方向一端部には係合凹部765が形成され、この係合凹部765がピストン74の先端部に形成された係合溝740とX方向に係合することにより、主動スライド部材76がシリンダ機構71のピストン74に接続されており、これにより、主動スライド部材76は、ピストン74の進退動作に伴ってX方向にスライド移動する。   An engagement recess 765 is formed at one end of the main slide member 76 in the X direction, and this engagement recess 765 engages with an engagement groove 740 formed at the tip of the piston 74 in the X direction. The member 76 is connected to the piston 74 of the cylinder mechanism 71, so that the main slide member 76 slides in the X direction as the piston 74 advances and retracts.

従動スライド部材77は、X方向に延びる形状を有し、X方向に間隔を有して一対のスライド部770が設けられている。スライド部770の底面にはそれぞれ、Y方向に延びるスライド溝771が形成されており、スライド溝771が、ガイド部材75のX方向ガイド部751よりも基板収容部31のY方向中央寄りに形成された、Y方向に延びるY方向ガイド部752にスライド可能に嵌め込まれることにより、従動スライド部材77は、主動スライド部材76よりも基板収容部31のY方向中央寄りに設けられ、Y方向にスライド移動可能にガイド部材75に取り付けられる。スライド部770は、Y方向ガイド部752に沿ってスライドしやすいように、少なくともスライド溝771部分が低摩擦材料で形成されている。Y方向ガイド部752の両端部にはそれぞれ、スライド部770のスライドを規制するストッパ部753が設けられている。   The driven slide member 77 has a shape extending in the X direction, and a pair of slide portions 770 are provided at intervals in the X direction. A slide groove 771 extending in the Y direction is formed on each bottom surface of the slide portion 770, and the slide groove 771 is formed closer to the center in the Y direction of the substrate housing portion 31 than the X direction guide portion 751 of the guide member 75. In addition, by being slidably fitted into the Y direction guide portion 752 extending in the Y direction, the driven slide member 77 is provided closer to the center in the Y direction of the substrate housing portion 31 than the main slide member 76, and slides in the Y direction. It is attached to the guide member 75 as possible. At least the slide groove 771 portion is formed of a low friction material so that the slide portion 770 can easily slide along the Y-direction guide portion 752. Stopper portions 753 for restricting sliding of the slide portion 770 are provided at both ends of the Y-direction guide portion 752.

主動スライド部材76は、基板収容部31のY方向中央寄りのスライド部760に、X方向およびY方向と略45度の角度をなすように基板収容部31の外側に向かって延びる押圧ブレード部762が一体的に設けられており、従動スライド部材77は、上面に例えば高さ方向に延びる円柱状の被押圧部772が設けられている。そして、ピストン74の所定ストロークの進出により主動スライド部材76がX方向中央寄りに向かってスライド移動した際に、押圧ブレード部762が被押圧部772に当接して被押圧部772を押圧することにより、従動スライド部材77がY方向中央寄りに向かってスライド移動するように構成されている(特に図7、8参照)。   The main slide member 76 has a pressing blade portion 762 that extends toward the outside of the substrate housing portion 31 so as to form an angle of about 45 degrees with the X direction and the Y direction on the slide portion 760 near the center in the Y direction of the substrate housing portion 31. Are integrally provided, and the driven slide member 77 is provided with a column-shaped pressed portion 772 extending in the height direction, for example, on the upper surface. Then, when the main slide member 76 slides toward the center in the X direction due to advancement of the piston 74 by a predetermined stroke, the pressing blade portion 762 contacts the pressed portion 772 and presses the pressed portion 772. The driven slide member 77 is configured to slide toward the center in the Y direction (see particularly FIGS. 7 and 8).

従動スライド部材77とガイド部材75とのX方向両端部にはそれぞれ、引張コイルばね754が接続されており、従動スライド部材77は、引張コイルばね754によって基板収容部31のY方向外側に向かって付勢されている。これにより、基板収容部31のY方向中央寄りに向かってスライド移動した従動スライド部材77は、ピストン74の所定ストロークの退避により主動スライド部材76が基板収容部31のX方向外側に向かってスライド移動した際に、基板収容部31のY方向外側に向かってスライド移動するように構成されている。   A tension coil spring 754 is connected to both ends of the driven slide member 77 and the guide member 75 in the X direction, and the driven slide member 77 is moved outward in the Y direction of the substrate housing portion 31 by the tension coil spring 754. It is energized. As a result, the driven slide member 77 slid and moved toward the center in the Y direction of the substrate housing portion 31 is slid and moved toward the outside in the X direction of the substrate housing portion 31 by retraction of a predetermined stroke of the piston 74. In this case, the substrate housing 31 is configured to slide and move outward in the Y direction.

一対のリンク部材78、79は、一端部の回動軸がX方向に並列するように、従動スライド部材77の被押圧部772よりも基板収容部31のX方向中央寄りに設けられており、一方が他方に向かってV字状に屈曲して平行四辺形状をなしている。リンク部材78には、基板収容部31のY方向外側に向かって延びる円柱または円筒状のカム部780が設けられており、カム部780は、主動スライド部材76のX方向他端部に形成されたカム孔763に入り込んでいる。カム孔763は、Y方向断面が上下に延びる形状を有しており、一対のリンク部材78、79は、主動スライド部材76がスライド移動した際に、カム部780がカム孔763に沿って上下に変位することにより、回動して起立およびリンク部材78を下側に倒伏するように構成されている(特に図6、7参照)。また、カム孔763は、Y方向断面が、上端部から基板収容部31のX方向外側に向かって延びる形状を有しており、主動スライド部材76および従動スライド部材77がそれぞれ、X方向およびY方向にスライド移動した際に、カム部780がカム孔763に入り込んだまま、起立した一対のリンク部材78、79も従動スライド部材77とともにY方向に移動できるように構成されている(特に図7、8参照)。これにより、一対のリンク部材78、79を起立した状態で確実に支持することができる。   The pair of link members 78 and 79 are provided closer to the center in the X direction of the substrate housing portion 31 than the pressed portion 772 of the driven slide member 77 so that the rotation shaft of one end portion is parallel to the X direction. One is bent in a V shape toward the other to form a parallelogram. The link member 78 is provided with a columnar or cylindrical cam portion 780 extending toward the outside in the Y direction of the substrate housing portion 31, and the cam portion 780 is formed at the other end portion of the main slide member 76 in the X direction. The cam hole 763 enters. The cam hole 763 has a shape in which the cross section in the Y direction extends vertically, and the pair of link members 78 and 79 has the cam portion 780 vertically moved along the cam hole 763 when the main slide member 76 slides. By displacing to the position, it is configured to rotate and stand up and lie down on the link member 78 (particularly, see FIGS. 6 and 7). Further, the cam hole 763 has a shape in which the Y-direction cross section extends from the upper end portion toward the outer side in the X direction of the substrate housing portion 31, and the main slide member 76 and the driven slide member 77 are respectively in the X direction and Y direction. The pair of standing link members 78 and 79 can be moved in the Y direction together with the driven slide member 77 while the cam portion 780 is inserted into the cam hole 763 (see FIG. 7 in particular). , 8). As a result, the pair of link members 78 and 79 can be reliably supported in an upright state.

カム部780は、複数のボールベアリング781により回転可能であり(図9参照)、これにより、カム孔763内をスムーズに相対変位することができる。なお、カム部カム部をリンク部材78に代えてリンク部材79に設けてもよく、あるいは、カム部を主動スライド部材76に設け、カム孔をリンク部材78または79に設けてもよい。カム部780およびカム孔763はカム機構を構成し、一対のリンク部材78、79は、主動スライド部材76がスライド移動した際に、カム機構により回動して起立および倒伏するように構成されている。   The cam portion 780 can be rotated by a plurality of ball bearings 781 (see FIG. 9), and thereby the inside of the cam hole 763 can be smoothly displaced relatively. The cam portion cam portion may be provided in the link member 79 instead of the link member 78, or the cam portion may be provided in the main slide member 76 and the cam hole may be provided in the link member 78 or 79. The cam portion 780 and the cam hole 763 constitute a cam mechanism, and the pair of link members 78 and 79 are configured to stand up and fall by rotating by the cam mechanism when the main slide member 76 slides. Yes.

リンク部材79と従動スライド部材77とには、引張コイルばね755が接続されており、一対のリンク部材78、79は、引張コイルばね755によって起立するように付勢されている。これにより、倒伏した一対のリンク部材78、79は、ピストン74の所定ストロークの進出により主動スライド部材76が基板収容部31のX方向中央寄りに向かってスライド移動した際に、引張コイルばね755によって起立がアシストされる。なお、引張コイルばね755に代えて圧縮コイルばねを用い、圧縮コイルばねによって起立した一対のリンク部材78、79の倒伏をアシストするように構成してもよい。   A tension coil spring 755 is connected to the link member 79 and the driven slide member 77, and the pair of link members 78, 79 are urged to stand up by the tension coil spring 755. As a result, the pair of link members 78 and 79 that have fallen down are moved by the tension coil spring 755 when the main slide member 76 slides toward the center in the X direction of the substrate housing portion 31 by the advance of the piston 74 by a predetermined stroke. Standing up is assisted. Note that a compression coil spring may be used instead of the tension coil spring 755, and the pair of link members 78 and 79 standing by the compression coil spring may be assisted.

押圧子70は、基板Sの端面S1に当接して端面S1を押圧する押圧本体700と、リンク部材78、79の他端部がそれぞれ回動可能に取り付けられた回動プレート701と、押圧本体700および回動プレート701を連結する、Y方向に延びる連結部702とを有している。押圧子70は、一対のリンク部材78、79の起立時に、バッファ32上に載置された基板Sと略等しい高さに位置し(押圧可能位置)、一対のリンク部材78、79の倒伏時に、基板Sと平行な状態を保ったまま、バッファ32上に載置された基板Sよりも下方に位置する(退避位置)ように構成されている。   The pressing element 70 includes a pressing body 700 that contacts the end surface S1 of the substrate S and presses the end surface S1, a rotating plate 701 to which the other ends of the link members 78 and 79 are rotatably attached, and a pressing body. 700 and a rotating plate 701, and a connecting portion 702 extending in the Y direction. When the pair of link members 78 and 79 stand up, the pressing element 70 is positioned at a height substantially equal to the substrate S placed on the buffer 32 (pressable position), and when the pair of link members 78 and 79 fall down. The substrate S is configured to be positioned below the substrate S placed on the buffer 32 (retracted position) while maintaining a state parallel to the substrate S.

押圧本体700は、当接した基板Sの端面S1に傷や破損を生じさせず、かつ基板Sとの接触による微粒子の発生などが起こりにくい材質で形成されている。例えば、一定の弾性を有する合成樹脂などの材質のものを使用することができ、好適には、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂を用いることができる。また、押圧本体700は、位置合わせの精度を高める観点から、水平方向において基板Sの端面S1に点接触できるように、押圧面が円弧状に形成されている。なお、押圧本体700は、高さ方向を軸とする例えば円柱状の回転体としてもよい。   The pressing body 700 is made of a material that does not cause scratches or breakage on the end surface S1 of the substrate S that is in contact with the substrate and that hardly generates fine particles due to contact with the substrate S. For example, a material such as a synthetic resin having a certain elasticity can be used, and a fluorine-based resin such as polytetrafluoroethylene can be preferably used. In addition, the pressing body 700 has a pressing surface formed in an arc shape so as to be able to make point contact with the end surface S1 of the substrate S in the horizontal direction from the viewpoint of improving the alignment accuracy. The pressing body 700 may be, for example, a columnar rotating body with the height direction as an axis.

連結部702は、外筒部材703内に内筒部材704が挿入されて抜け止めされ、外筒部材703および内筒部材704内には圧縮コイルばね705が配置されて構成されている。すなわち、連結部702は、伸縮可能であるとともに、圧縮コイルばね705によって伸張方向に付勢されており、押圧本体700が基板Sの端面S1を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段として機能する。   The connecting portion 702 is configured such that an inner cylinder member 704 is inserted into the outer cylinder member 703 and is prevented from coming off, and a compression coil spring 705 is disposed in the outer cylinder member 703 and the inner cylinder member 704. That is, the connecting portion 702 can be expanded and contracted, and is biased in the extension direction by the compression coil spring 705, and functions as a buffering means for reducing the impact when the pressing body 700 presses the end surface S1 of the substrate S. .

なお、駆動力変換機構部72は、例えば、ガイド部材75を基板収容部31の上面に固定して、上下反対に設けられていてもよい。この場合に、押圧子70は、一対のリンク部材78、79の起立時に、バッファ32上に載置された基板Sと略等しい高さに位置し(押圧可能位置)、一対のリンク部材78、79の倒伏時に、基板Sと平行な状態を保ったまま、バッファ32上に載置された基板Sよりも上方に位置する(退避位置)ように構成される。   The driving force conversion mechanism 72 may be provided upside down by fixing the guide member 75 to the upper surface of the substrate housing 31, for example. In this case, when the pair of link members 78 and 79 are erected, the pressing element 70 is positioned at a height substantially equal to the substrate S placed on the buffer 32 (pressable position), and the pair of link members 78 and 78 At the time of lying down 79, it is configured to be positioned above the substrate S placed on the buffer 32 (retracted position) while maintaining a state parallel to the substrate S.

第2のポジショナー8は、図10〜12に示すように、シリンダ機構81が、ロードロックチャンバ30の基板収容部31外に設置された、より具体的には、バッファ32の下端部と略同じ高さとなるように、ロードロックチャンバ30または基板収容部31のX方向と直交する側壁からロードロックチャンバ30外に突出して設置された、X方向に延びるシリンダ本体83と、このシリンダ本体83に進退可能に設けられたピストン84とを有する電動シリンダ機構により構成されており、押圧子80がピストン84の先端部に設けられている。   As shown in FIGS. 10 to 12, in the second positioner 8, the cylinder mechanism 81 is installed outside the substrate housing portion 31 of the load lock chamber 30. More specifically, the second positioner 8 is substantially the same as the lower end portion of the buffer 32. A cylinder main body 83 extending in the X direction and protruding from the side wall perpendicular to the X direction of the load lock chamber 30 or the substrate housing 31 so as to extend in the X direction, and the cylinder main body 83 is advanced and retracted. It is comprised by the electric cylinder mechanism which has the piston 84 provided so that the presser 80 is provided in the front-end | tip part of the piston 84. FIG.

なお、一対のシリンダ機構71のうちの一方、および一対のシリンダ機構81のうちの一方はそれぞれ、電動シリンダに代えてエアシリンダ等の他のシリンダとしてもよい。また、押圧子70,80を移動させる駆動機構としては、シリンダ機構71,81の他に、X方向に進退駆動するとともに、任意のX方向位置で停止することができるものであれば、その作動原理や種類を問わず、例えば、電磁石モータ、ソレノイド、圧電素子等とすることも可能である。   Note that one of the pair of cylinder mechanisms 71 and one of the pair of cylinder mechanisms 81 may be other cylinders such as an air cylinder instead of the electric cylinder. In addition to the cylinder mechanisms 71 and 81, the drive mechanism for moving the pressers 70 and 80 can be operated as long as it can be advanced and retracted in the X direction and stopped at any X position. Regardless of the principle or type, for example, an electromagnet motor, a solenoid, a piezoelectric element, or the like can be used.

押圧子80は、押圧子70の押圧本体700と同様に、当接した基板Sの端面S2に傷や破損を生じさせず、かつ基板Sとの接触による微粒子の発生などが起こりにくい材質で形成されており、水平方向において基板Sの端面S2に点接触できるように、押圧面が円弧状に形成されている。なお、押圧子80は、高さ方向を軸とする例えば円柱状の回転体としてもよい。また、押圧子80が基板Sの端面S2を押圧した際の衝撃を緩和できるように、押圧子80とピストン84とを連結部702のような緩衝手段を介して連結することが好ましい。   Like the pressing body 700 of the pressing element 70, the pressing element 80 is formed of a material that does not cause scratches or breakage on the end surface S2 of the substrate S that is in contact with the pressing element 80 and that is unlikely to generate fine particles due to contact with the substrate S. The pressing surface is formed in an arc shape so as to make point contact with the end surface S2 of the substrate S in the horizontal direction. The pressing element 80 may be, for example, a cylindrical rotating body whose axis is the height direction. Further, it is preferable that the pressing member 80 and the piston 84 are connected via a buffering means such as the connecting portion 702 so that the impact when the pressing member 80 presses the end surface S2 of the substrate S can be reduced.

このような構成により、第2のポジショナー8は、シリンダ機構81のピストン84が進出することにより、押圧子80を基板収容部31のX方向中央寄りに移動させ、シリンダ機構81のピストン84が退避することにより、押圧子80を基板収容部31のX方向外側に移動させる。   With such a configuration, the second positioner 8 moves the presser 80 toward the center in the X direction of the substrate housing portion 31 when the piston 84 of the cylinder mechanism 81 advances, and the piston 84 of the cylinder mechanism 81 retracts. By doing so, the presser 80 is moved to the X direction outer side of the board | substrate accommodating part 31. FIG.

次に、基板位置合わせ装置による基板の位置合わせ方法について、図10〜12を参照しながら説明を行なう。図10は基板位置合わせ装置の作動の第1段階を説明するための図であり、図11は基板位置合わせ装置の作動の第2段階を説明するための図であり、図12は基板位置合わせ装置の作動の第3段階を説明するための図である。   Next, a substrate alignment method using the substrate alignment apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a diagram for explaining the first stage of the operation of the substrate alignment apparatus, FIG. 11 is a diagram for explaining the second stage of the operation of the substrate alignment apparatus, and FIG. It is a figure for demonstrating the 3rd step of operation | movement of an apparatus.

まず、第1および第2のボジショナー7、8に設けられたシリンダ機構71,81のピストン74,84を完全に退避させた状態で、基板Sを基板収容部31内に搬送してバッファ32上に載置したら、シリンダ機構71,81のピストン74,84をそれぞれ進出させる(図10参照)。   First, with the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 provided in the first and second positioners 7 and 8 being completely retracted, the substrate S is transported into the substrate accommodating portion 31 and placed on the buffer 32. Then, the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 are advanced (see FIG. 10).

シリンダ機構71のピストン74を所定ストローク進出させると、主動スライド部材76が基板収容部31のX方向中央寄りに向かってスライド移動する。この際に、カム孔763内に沿ってカム部780が上昇し、引張コイルばね755も作用して、一対のリンク部材78,79が起立するように回動することにより、退避位置の押圧子70が押圧可能位置まで上昇する(図11参照)。   When the piston 74 of the cylinder mechanism 71 is advanced by a predetermined stroke, the main slide member 76 slides toward the center of the substrate housing 31 in the X direction. At this time, the cam portion 780 is raised along the cam hole 763 and the tension coil spring 755 is also actuated so that the pair of link members 78 and 79 are rotated so that the pusher is in the retracted position. 70 rises to a pressable position (see FIG. 11).

シリンダ機構71のピストン74をさらに所定ストローク進出させると、主動スライド部材76がさらに基板収容部31のX方向中央寄りに向かってスライド移動する。この際に、押圧ブレード部762が被押圧部772に当接して被押圧部772を押圧し、引張コイルばね754の付勢に反して、従動スライド部材77が基板収容部31のY方向中央寄りに向かってスライド移動することにより、押圧可能位置の押圧子70が、基板収容部31のY方向中央寄りに向かって移動し、基板Sの端面S1に当接して端面S1を押圧する(図12参照)。   When the piston 74 of the cylinder mechanism 71 is further advanced by a predetermined stroke, the main driving slide member 76 further slides toward the center of the substrate housing portion 31 in the X direction. At this time, the pressing blade portion 762 abuts against the pressed portion 772 to press the pressed portion 772, and the driven slide member 77 moves closer to the center in the Y direction of the substrate housing portion 31 against the bias of the tension coil spring 754. Is moved toward the center in the Y direction of the substrate housing portion 31, and abuts against the end surface S1 of the substrate S to press the end surface S1 (FIG. 12). reference).

一方、シリンダ機構81のピストン84を所定ストローク進出させると、押圧子80が、基板収容部31のX方向中央寄りに向かって移動し、基板Sの端面S2に当接して端面S2を押圧する。   On the other hand, when the piston 84 of the cylinder mechanism 81 is advanced by a predetermined stroke, the presser 80 moves toward the center in the X direction of the substrate housing portion 31 and contacts the end surface S2 of the substrate S to press the end surface S2.

こうして、第1および第2のボジショナー7、8により、基板Sの各端面S1、S2を押圧することにより、基板Sがバッファ32上で所定の位置に位置合わせされる。なお、一対のシリンダ機構71,81の進出駆動は、同時に行ってもよく、一対のシリンダ機構71,81のうちの一方のシリンダ機構71,81を進出駆動させた後に、他方のシリンダ機構71,81を進出駆動させてもよい。   Thus, the substrate S is aligned at a predetermined position on the buffer 32 by pressing the end surfaces S 1 and S 2 of the substrate S by the first and second positioners 7 and 8. The advancing drive of the pair of cylinder mechanisms 71, 81 may be performed at the same time. After driving one cylinder mechanism 71, 81 out of the pair of cylinder mechanisms 71, 81, the other cylinder mechanism 71, 81 is driven. 81 may be driven to advance.

基板Sの位置合わせが終了したら、シリンダ機構71,81のピストン74,84をそれぞれ退避させる。ピストン74を所定ストローク退避させると、主動スライド部材76が基板収容部31のX方向外側に向かってスライド移動する。この際に、引張コイルばね754に付勢された従動スライド部材77が、基板収容部31のY方向外側に向かってスライド移動することにより、基板Sの端面S1に当接した押圧子70が、基板収容部31のY方向外側に向かって移動し、端面S1と離間して押圧可能位置まで移動する。   When the alignment of the substrate S is completed, the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 are retracted, respectively. When the piston 74 is retracted by a predetermined stroke, the main slide member 76 slides toward the outside in the X direction of the substrate housing portion 31. At this time, the follower slide member 77 urged by the tension coil spring 754 slides toward the outer side in the Y direction of the substrate housing portion 31, so that the presser 70 in contact with the end surface S <b> 1 of the substrate S is It moves toward the outer side in the Y direction of the substrate housing part 31, moves away from the end surface S <b> 1, and moves to a pressable position.

ピストン74をさらに所定ストローク、例えば完全に退避させると、主動スライド部材76がさらに基板収容部31のX方向外側に向かってスライド移動する。この際に、カム孔763内に沿ってカム部780が下降し、引張コイルばね755の付勢に反して、一対のリンク部材78,79が倒伏するように回動することにより、押圧可能位置の押圧子70が退避位置まで下降する。   When the piston 74 is further retracted for a predetermined stroke, for example, completely, the main slide member 76 slides further toward the outside in the X direction of the substrate housing portion 31. At this time, the cam portion 780 descends along the cam hole 763 and rotates so that the pair of link members 78 and 79 fall down against the urging force of the tension coil spring 755, thereby pressing the position. The presser 70 is lowered to the retracted position.

一方、シリンダ機構81のピストン84を所定ストローク、例えば完全に退避させると、押圧子80が、基板収容部31のX方向外側に向かって移動して基板Sの端面S2と離間する。   On the other hand, when the piston 84 of the cylinder mechanism 81 is fully retracted, for example, completely retracted, the pressing member 80 moves toward the outside in the X direction of the substrate housing portion 31 and is separated from the end surface S2 of the substrate S.

こうして、押圧子70,80を基板Sの搬送経路上から退避させたら、基板Sがプロセスチャンバ10a,10b,10cのいずれかに搬送されることとなる。第1および第2のポジショナー7,8により位置合わせされた基板Sは、プロセスチャンバ10a,10b,10c内で正規の処理位置に搬送されるため、処理ムラなどが生じない高精度なプロセスが実現可能になる。   Thus, when the pressing members 70 and 80 are retracted from the transport path of the substrate S, the substrate S is transported to one of the process chambers 10a, 10b, and 10c. Since the substrate S aligned by the first and second positioners 7 and 8 is transported to a regular processing position in the process chambers 10a, 10b, and 10c, a highly accurate process that does not cause uneven processing is realized. It becomes possible.

本実施形態では、第1および第2のポジショナー7,8をそれぞれ、個別に設けたシリンダ機構71,81のピストン74、84の進出により、押圧子70,80が基板Sの第1および第2の端面S1,S2を押圧するように構成し、基板Sの搬送経路にあたる第1の端面S1を押圧する第1のポジショナー7について、押圧子70を、退避位置と押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部72を設けて、押圧子70が基板Sの搬送経路から回避移動するようにしたため、基板収容部31における位置合わせのための部材の設置スペースおよび基板Sの搬送経路から回避移動するためのスペースを著しく小さくすることができる。したがって、基板収容部31の基板S周りのスペースを極力小さくすることができ、ロードロックチャンバ30を極力小型化することが可能となる。   In this embodiment, the pushers 70 and 80 are moved into the first and second positions of the substrate S by the advancement of the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 provided with the first and second positioners 7 and 8 respectively. For the first positioner 7 that presses the first end surface S1 corresponding to the transport path of the substrate S, the presser 70 is moved between the retracted position and the pressable position. In addition, since the driving force converting mechanism 72 that moves in the pressing direction at the pressable position is provided so that the pressing element 70 moves away from the transport path of the substrate S, the positioning for the positioning in the substrate accommodating portion 31 is performed. A space for avoiding the installation space of the members and the transport path of the substrate S can be significantly reduced. Therefore, the space around the substrate S in the substrate accommodating portion 31 can be made as small as possible, and the load lock chamber 30 can be miniaturized as much as possible.

また、本実施形態では、押圧子70,80を移動させるためのシリンダ機構71,81がロードロックチャンバ30の基板収容部31外に設けられているため、基板収容部31における位置合わせのための部材の設置スペースをより小さくすることができる。   Further, in the present embodiment, cylinder mechanisms 71 and 81 for moving the pressers 70 and 80 are provided outside the substrate housing portion 31 of the load lock chamber 30, so that alignment for the substrate housing portion 31 is performed. The installation space for the member can be further reduced.

また、本実施形態では、第1のポジショナー7において、駆動力変換機構部72が、シリンダ機構71のピストン74によるX方向の駆動力を、Y方向および高さ方向の駆動力に変換して、押圧子70を、退避位置と押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させるため、第1および第2のポジショナー7、8を構成するシリンダ機構71、81を、ロードロックチャンバ30の同じ側壁に設けることができ、これにより、ロードロックチャンバ30の上側および下側のスペースを有効利用することができる。さらに、駆動力変換機構部72が、ピストン74の1ストロークの進出および退避により、押圧子70を、退避位置と押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させるため、基板Sの位置合わせ操作が容易となる。   In the present embodiment, in the first positioner 7, the driving force conversion mechanism 72 converts the driving force in the X direction by the piston 74 of the cylinder mechanism 71 into driving force in the Y direction and the height direction, In order to move the pressing element 70 between the retracted position and the pressable position, and to move the pressing position in the direction opposite to the pressing direction and the pressing direction using the pressable position as a start point and an end point, the first and second positioners 7, 8 can be provided on the same side wall of the load lock chamber 30, whereby the space above and below the load lock chamber 30 can be used effectively. Further, the driving force conversion mechanism 72 moves the presser 70 between the retracted position and the pressable position by the advance and retreat of the piston 74 by one stroke, and presses the pressable position as the start point and the end point. Since it is moved in the direction opposite to the direction and the pressing direction, the positioning operation of the substrate S is facilitated.

なお、第1および第2のポジショナー7,8の基板収容部31への配置位置は、互いに対向する角部付近に限らない。図13に示すように(図13は基板位置合わせ装置を構成する第1および第2のポジショナーの配置位置の変更例を示す図)、第1のポジショナー7を、基板収容部31のY方向に隣り合う角部付近に、互いにY方向に対向するように一対配置するとともに、第2のポジショナー8を、基板収容部31の各角部付近に、互いにX方向に対向するように二対配置してもよい。この場合には、例えば、一方の第1のポジショナー7のシリンダ機構71を、電動シリンダに代えてエアシリンダにより構成するとともに、一対の第1のポジショナー7が設けられた側のY方向に隣り合う第2のポジショナー8のシリンダ機構81(81a,81b)を、電動シリンダに代えてエアシリンダにより構成することができる。これにより、電動シリンダの個数を減らすことができるので、装置の低コスト化が図れる。基板Sを位置合わせする際には、例えば、エアシリンダで構成したシリンダ機構71,81のピストン74、84を進出させた後に、電動シリンダで構成したシリンダ機構71,81のピストン74、84を進出させる。   In addition, the arrangement position of the first and second positioners 7 and 8 in the substrate housing portion 31 is not limited to the vicinity of the corners facing each other. As shown in FIG. 13 (FIG. 13 is a diagram showing an example of a change in the arrangement position of the first and second positioners constituting the substrate alignment apparatus), the first positioner 7 is moved in the Y direction of the substrate accommodating portion 31. In the vicinity of adjacent corners, a pair is arranged so as to face each other in the Y direction, and two pairs of the second positioners 8 are arranged near each corner of the substrate housing portion 31 so as to face each other in the X direction. May be. In this case, for example, the cylinder mechanism 71 of one of the first positioners 7 is constituted by an air cylinder instead of the electric cylinder, and is adjacent to the Y direction on the side where the pair of first positioners 7 is provided. The cylinder mechanism 81 (81a, 81b) of the second positioner 8 can be constituted by an air cylinder instead of the electric cylinder. Thereby, since the number of electric cylinders can be reduced, the cost of the apparatus can be reduced. When aligning the substrate S, for example, after the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 configured by air cylinders are advanced, the pistons 74 and 84 of the cylinder mechanisms 71 and 81 configured by electric cylinders are advanced. Let

本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。基板を収容する容器は、ロードロックチャンバ30に限らず、プロセスチャンバ10a,10b,10cや搬送室20等であってもよく、基板は、FPD用のガラス基板に限らず、半導体ウエハ等の他の基板であってもよい。また、基板収容部を容器に3段以上設けてもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible. The container that accommodates the substrate is not limited to the load lock chamber 30, but may be the process chambers 10a, 10b, 10c, the transfer chamber 20, and the like. The substrate is not limited to a glass substrate for FPD, but may be a semiconductor wafer or the like. It may be a substrate. Moreover, you may provide three or more steps | paragraphs of board | substrate accommodating parts in a container.

本発明の一実施形態に係る基板位置合わせ装置がロードロックチャンバに適用されたプラズマ処理装置を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a plasma processing apparatus in which a substrate alignment apparatus according to an embodiment of the present invention is applied to a load lock chamber. プラズマ処理装置の内部を概略的に示す水平断面図である。It is a horizontal sectional view which shows the inside of a plasma processing apparatus roughly. 制御部の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of a control part. ロードロックチャンバの一部を切り欠いて示す斜視図である。It is a perspective view which cuts and shows a part of load lock chamber. 駆動力変換機構部を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows a driving force conversion mechanism part. 駆動力変換機構部の作動の第1段階を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the 1st step of the action | operation of a driving force conversion mechanism part. 駆動力変換機構部の作動の第2段階を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the 2nd step of the action | operation of a driving force conversion mechanism part. 駆動力変換機構部の作動の第3段階を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the 3rd step of the action | operation of a driving force conversion mechanism part. 駆動力変換機構部の一部を切り欠いて示す平面図である。It is a top view which notches and shows a part of driving force conversion mechanism part. 基板位置合わせ装置の作動の第1段階を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st step | paragraph of the action | operation of a board | substrate alignment apparatus. 基板位置合わせ装置の作動の第2段階を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd step of operation | movement of a board | substrate alignment apparatus. 基板位置合わせ装置の作動の第3段階を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 3rd step of the action | operation of a board | substrate alignment apparatus. 基板位置合わせ装置を構成する第1および第2のポジショナーの配置位置の変更例を示す図である。It is a figure which shows the example of a change of the arrangement position of the 1st and 2nd positioner which comprises a board | substrate position alignment apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

7…第1のポジショナー(第1の押圧機構)
8…第2のポジショナー(第2の押圧機構)
30…ロードロックチャンバ(容器)
31…基板収容部
32…バッファ(基板載置部)
33,34…開口
35…球状コロ
70,80…押圧子
71,81…シリンダ機構(駆動機構)
72…駆動力変換機構部
74,84…ピストン
75…ガイド部材
76…主動スライド部材
77…従動スライド部材
78,79…リンク部材
S…基板
S1…第1の端面
S2…第2の端面
7: First positioner (first pressing mechanism)
8: Second positioner (second pressing mechanism)
30 ... Load lock chamber (container)
31 ... Substrate housing part 32 ... Buffer (substrate mounting part)
33, 34 ... opening 35 ... spherical roller 70, 80 ... presser 71, 81 ... cylinder mechanism (drive mechanism)
72 ... Driving force conversion mechanism 74, 84 ... Piston 75 ... Guide member 76 ... Main drive slide member 77 ... Driven slide member 78, 79 ... Link member S ... Substrate S1 ... First end surface S2 ... Second end surface

Claims (13)

容器の側壁に設けられた開口から水平方向に搬送され、前記容器内で基板載置部に載置される矩形状の基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置であって、
基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、
基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構と
を具備し、
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、
前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であるとともに、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有し、
前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする基板位置合わせ装置。
A substrate alignment apparatus for aligning a rectangular substrate, which is transported in a horizontal direction from an opening provided on a side wall of a container and placed on a substrate platform in the container, on the substrate platform. ,
A pair of first pressing mechanisms that press a pair of first end faces perpendicular to the substrate transport direction;
A pair of second pressing mechanisms for pressing a pair of second end faces along the substrate transport direction,
Each of the first pressing mechanism and the second pressing mechanism includes a driving mechanism and a pressing element that presses the first end surface and the second end surface by driving the driving mechanism,
At least one of the pair of first pressing mechanisms is a cylinder mechanism in which the drive mechanism has a piston that advances and retreats in a direction that is horizontal and orthogonal to the substrate transport direction, and is driven by the drive mechanism. A driving force conversion mechanism that moves the pressing element between a retracted position for retracting the substrate out of the conveyance path of the substrate and a pressable position where the substrate can be pressed, and moves the pressing element in the pressing direction at the pressable position. further Yes,
When the piston of the cylinder mechanism advances a predetermined stroke, the driving force conversion mechanism moves the pressing element at the retracted position to the pressable position, and when the piston of the cylinder mechanism further advances a predetermined stroke, The first end face is pushed by moving the pusher at the pushable position in the pushing direction, and when the piston of the cylinder mechanism is retracted by a predetermined stroke in that state, the first end face is pushed. The substrate alignment apparatus according to claim 1, wherein the pressing element is moved to the pressing position, and when the piston of the cylinder mechanism is further retracted by a predetermined stroke, the pressing element at the pressing position is moved to the retracting position.
前記駆動機構は前記容器外に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板位置合わせ装置。   The substrate alignment apparatus according to claim 1, wherein the driving mechanism is provided outside the container. 前記駆動力変換機構部は、基板の搬送経路の上方または下方に設けられ、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路の上方または下方に前記搬送経路と平行な状態で退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板位置合わせ装置。   The driving force conversion mechanism is provided above or below the substrate transport path, and the drive mechanism is driven to retract the pressing element above or below the substrate transport path in a state parallel to the transport path. 3. The substrate alignment apparatus according to claim 1, wherein the substrate alignment apparatus moves between a retracted position to be moved and a pressable position where the substrate can be pressed and moves in the pressing direction at the pressable position. . 前記駆動力変換機構部は、
前記容器内に固定されたガイド部材と、
前記シリンダ機構の前記ピストンの進退とともに、前記ガイド部材に沿って前記ピストンの進退方向にスライド移動する主動スライド部材と、
前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記ガイド部材に沿って、水平に、かつ主動スライド部材の移動方向と直交する方向にスライド移動する従動スライド部材と、
一端部が前記従動スライド部材に回動可能に設けられるとともに、他端部に前記押圧子が回動可能に設けられ、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記一端部を中心として倒伏および起立するように回動するリンク部材と
を有し、
前記リンク部材が倒伏および起立するように回動することにより、前記押圧子を前記退避位置と前記押圧可能位置との間で移動させ、前記従動スライド部材がスライド移動することにより、前記押圧子を、前記押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板位置合わせ装置。
The driving force conversion mechanism is
A guide member fixed in the container;
A main slide member that slides in the forward / backward direction of the piston along the guide member with the advance / retreat of the piston of the cylinder mechanism;
A driven slide member that slides horizontally along the guide member and in a direction perpendicular to the direction of movement of the main slide member as the main slide member slides for a predetermined stroke;
One end portion is rotatably provided on the driven slide member, and the pressing member is rotatably provided on the other end portion, and the one end portion is centered as the main slide member slides for a predetermined stroke. A link member that rotates so as to fall and stand,
By rotating the link member so as to fall and stand, the pressing element is moved between the retracted position and the pressable position, and the driven slide member is slid to move the pressing element. The substrate alignment apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the pressable position is moved in a pressing direction and a direction opposite to the pressing direction with a start point and an end point as a start point and an end point.
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、前記押圧子が前記第1の端面および第2の端面を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段をさらに有することを特徴とする請求項1から請求項のいずれか1項に基板位置合わせ装置。 The said 1st press mechanism and the 2nd press mechanism further have a buffer means which relieve | moderates the impact when said presser presses said 1st end surface and 2nd end surface, respectively. The substrate alignment apparatus according to any one of claims 1 to 4 . 側壁に開口が設けられ、前記開口から水平方向に搬送された矩形状の基板を収容する基板収容部を有する容器と、
前記基板収容部に設けられ、前記基板収容部に収容された基板を載置する基板載置部と、
前記基板載置部に載置された基板を前記基板載置部上で位置合わせする基板位置合わせ装置と
を具備した基板収容ユニットであって、
前記基板位置合わせ装置は、
基板の搬送方向に直交する一対の第1の端面を押圧する一対の第1の押圧機構と、
基板の搬送方向に沿った一対の第2の端面を押圧する一対の第2の押圧機構と
を備え、
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、駆動機構、および前記駆動機構の駆動により前記第1の端面および第2の端面を押圧する押圧子を有し、
前記一対の第1の押圧機構のうちの少なくとも一方は、前記駆動機構が、水平に、かつ基板の搬送方向と直交する方向に進退するピストンを有するシリンダ機構であるとともに、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路外に退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部をさらに有し、
前記駆動力変換機構部は、前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク進出すると、前記退避位置の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク進出すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を押圧方向に移動させて前記第1の端面が押圧されるようにし、その状態で前記シリンダ機構の前記ピストンが所定ストローク退避すると、前記第1の端面を押圧状態の前記押圧子を前記押圧可能位置に移動させ、前記シリンダ機構の前記ピストンがさらに所定ストローク退避すると、前記押圧可能位置の前記押圧子を前記退避位置に移動させることを特徴とする基板収容ユニット。
An opening provided on the side wall, and a container having a substrate accommodating portion for accommodating a rectangular substrate conveyed in the horizontal direction from the opening;
A substrate mounting portion that is provided in the substrate storage portion and for mounting the substrate stored in the substrate storage portion;
A substrate housing unit comprising a substrate alignment device for aligning the substrate placed on the substrate platform on the substrate platform;
The substrate alignment apparatus includes:
A pair of first pressing mechanisms that press a pair of first end faces perpendicular to the substrate transport direction;
A pair of second pressing mechanisms that press a pair of second end faces along the substrate transport direction,
Each of the first pressing mechanism and the second pressing mechanism includes a driving mechanism and a pressing element that presses the first end surface and the second end surface by driving the driving mechanism,
At least one of the pair of first pressing mechanisms is a cylinder mechanism in which the drive mechanism has a piston that advances and retreats in a direction that is horizontal and orthogonal to the substrate transport direction, and is driven by the drive mechanism. A driving force conversion mechanism that moves the pressing element between a retracted position for retracting the substrate out of the conveyance path of the substrate and a pressable position where the substrate can be pressed, and moves the pressing element in the pressing direction at the pressable position. In addition,
When the piston of the cylinder mechanism advances a predetermined stroke, the driving force conversion mechanism moves the pressing element at the retracted position to the pressable position, and when the piston of the cylinder mechanism further advances a predetermined stroke, The first end face is pushed by moving the pusher at the pushable position in the pushing direction, and when the piston of the cylinder mechanism is retracted by a predetermined stroke in that state, the first end face is pushed. The substrate accommodating unit , wherein the pressing element is moved to the pressing position, and when the piston of the cylinder mechanism is further retracted by a predetermined stroke, the pressing element at the pressing position is moved to the retracting position .
前記駆動機構は前記容器の前記基板収容部外に設けられていることを特徴とする請求項に記載の基板収容ユニット。 The substrate storage unit according to claim 6 , wherein the drive mechanism is provided outside the substrate storage portion of the container. 前記駆動力変換機構部は、基板の搬送経路の上方または下方に設けられ、前記駆動機構の駆動により、前記押圧子を、基板の搬送経路の上方または下方に前記搬送経路と平行な状態で退避させる退避位置と基板を押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、前記押圧可能位置で押圧方向に移動させることを特徴とする請求項または請求項に記載の基板収容ユニット。 The driving force conversion mechanism is provided above or below the substrate transport path, and the drive mechanism is driven to retract the pressing element above or below the substrate transport path in a state parallel to the transport path. The substrate accommodation unit according to claim 6 or 7 , wherein the substrate accommodation unit is moved between a retracted position to be moved and a pressable position where the substrate can be pressed, and moved in the pressing direction at the pressable position. 前記駆動力変換機構部は、
前記基板収容部に固定されたガイド部材と、
前記シリンダ機構の前記ピストンの進退とともに、前記ガイド部材に沿って前記ピストンの進退方向にスライド移動する主動スライド部材と、
前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記ガイド部材に沿って、水平に、かつ主動スライド部材の移動方向と直交する方向にスライド移動する従動スライド部材と、
一端部が前記従動スライド部材に回動可能に設けられるとともに、他端部に前記押圧子が回動可能に設けられ、前記主動スライド部材の所定ストロークのスライド移動に伴い、前記一端部を中心として倒伏および起立するように回動するリンク部材と
を有し、
前記リンク部材が倒伏および起立するように回動することにより、前記押圧子を前記退避位置と前記押圧可能位置との間で移動させ、前記従動スライド部材がスライド移動することにより、前記押圧子を、前記押圧可能位置を始点および終点として押圧方向および押圧方向と反対方向に移動させることを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。
The driving force conversion mechanism is
A guide member fixed to the substrate housing portion;
A main slide member that slides in the forward / backward direction of the piston along the guide member with the advance / retreat of the piston of the cylinder mechanism;
A driven slide member that slides horizontally along the guide member and in a direction perpendicular to the direction of movement of the main slide member as the main slide member slides for a predetermined stroke;
One end portion is rotatably provided on the driven slide member, and the pressing member is rotatably provided on the other end portion, and the one end portion is centered as the main slide member slides for a predetermined stroke. A link member that rotates so as to fall and stand,
By rotating the link member so as to fall and stand, the pressing element is moved between the retracted position and the pressable position, and the driven slide member is slid to move the pressing element. The substrate accommodation unit according to any one of claims 6 to 8, wherein the substrate housing unit is moved in a pressing direction and a direction opposite to the pressing direction with the pressable position as a start point and an end point.
前記第1の押圧機構および第2の押圧機構はそれぞれ、前記押圧子が前記第1の端面および第2の端面を押圧した際の衝撃を緩和する緩衝手段をさらに有することを特徴とする請求項から請求項のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。 The said 1st press mechanism and the 2nd press mechanism further have a buffer means which relieve | moderates the impact when said presser presses said 1st end surface and 2nd end surface, respectively. substrate housing unit according to any one of claims 9 to 6. 前記基板載置部は、搬送された基板の裏面に当接する回転可能な球状コロを有することを特徴とする請求項から請求項10のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。 The substrate platform is a substrate accommodating unit according to any one of claims 10 claim 6, characterized in that it comprises a rotatable spherical roller abutting the back surface of the conveyed substrate. 前記容器は、前記基板収容部を上下に2段以上有していることを特徴とする請求項から請求項11のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。 The substrate container unit according to any one of claims 6 to 11 , wherein the container includes two or more stages of the substrate container portion in the vertical direction. 前記容器は、前記開口が互いに対向する側壁にそれぞれ開閉可能に設けられ、それぞれの前記開口を介して、真空状態で基板に所定の処理を施す真空処理チャンバ内と大気側とに内部が連通可能であり、大気側との基板の受け渡しの際には内部が大気圧近傍に保持されるとともに、前記真空処理チャンバとの基板の受け渡しの際には内部が真空状態に保持されるロードロックチャンバであることを特徴とする請求項から請求項12のいずれか1項に記載の基板収容ユニット。 The container is provided such that the opening can be opened and closed on the side walls facing each other, and the inside can communicate with the atmosphere inside the vacuum processing chamber for performing predetermined processing on the substrate in a vacuum state via the opening. In the load lock chamber, the interior is held near atmospheric pressure when the substrate is transferred to the atmosphere side, and the interior is held in a vacuum state when the substrate is transferred to the vacuum processing chamber. substrate housing unit according to claims 6 to any one of claims 12, characterized in that.
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