JP4479881B2 - Substrate spin processing apparatus and substrate spin processing method - Google Patents

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Description

本発明は、例えば液晶パネルやプラズマディスプレイその他の製造工程等において、ガラス基板等、薄い四角形状とした基板を所定の処理乃至操作を行うために、高速で回転させるための基板スピン処理装置及び基板スピン処理方法に関するものであり、さらに基板スピン処理方法によりスピン処理が行われた液晶パネルに関する。   The present invention relates to a substrate spin processing apparatus and substrate for rotating a thin rectangular substrate, such as a glass substrate, at a high speed in order to perform a predetermined processing or operation in, for example, a liquid crystal panel, a plasma display, or other manufacturing processes. The present invention relates to a spin processing method, and further relates to a liquid crystal panel subjected to spin processing by a substrate spin processing method.

例えば、液晶パネルを製造するに当って、ガラス等の素材からなり、薄い四角形状となった基板に対して種々の処理や操作等が行われるが、そのうち、基板を水平状態にして回転駆動することによって、所定の処理乃至操作が行われるスピン処理工程が含まれる。このために用いられるのが基板スピン処理装置である。基板スピン処理装置は、スピンドルの先端に基板を支持する基板支持部材を連結して設け、このスピンドルをモータ等の回転駆動手段によって高速回転させるようにしたものである。   For example, in manufacturing a liquid crystal panel, various processes and operations are performed on a thin rectangular substrate made of a material such as glass. Among them, the substrate is rotated in a horizontal state. Thus, a spin processing step in which a predetermined process or operation is performed is included. A substrate spin processing apparatus is used for this purpose. In the substrate spin processing apparatus, a substrate support member for supporting a substrate is connected to the tip of a spindle, and the spindle is rotated at high speed by a rotation driving means such as a motor.

ここで、基板スピン処理装置により行われる処理なり、操作なりとしては、基板の乾燥があり、また基板の表面に所定の液膜を形成するスピンコート、さらには基板の表面または表裏両面の洗浄等がある。そして、スピンコートは、フォトレジスト膜、現像液、剥離液等からなる処理液の塗布を行うものである。特に、基板表面への処理液の塗布については、膜厚の均一性が要求されることから、様々な液処理方式のうち、スピンコート方式は信頼性が高い。   Here, the processing or operation performed by the substrate spin processing apparatus includes drying of the substrate, spin coating that forms a predetermined liquid film on the surface of the substrate, and cleaning of the surface or both sides of the substrate. There is. In spin coating, a processing solution comprising a photoresist film, a developing solution, a stripping solution or the like is applied. In particular, with respect to the application of the treatment liquid to the substrate surface, the uniformity of the film thickness is required. Therefore, among various liquid treatment methods, the spin coating method is highly reliable.

以上のように、基板に対する種々の処理等を行うために用いられる基板スピン処理装置において、スピンドルに連結して設けられる基板支持部材は、基板に対する接触部をできるだけ少なくするために支持ピンが設けられ、基板は支持ピン上に載置される。そして、基板が薄い板からなる場合であって、この基板に対する処理を行う際には、基板の水平度を確保するために、所定数の支持ピンをほぼ均等に分散させて配置している。また、これらの支持ピンの先端を概略球面形状とすることによって、基板への接触面積を小さくすると共に、着脱時に基板に傷等が発生しないように保護する。さらに、基板支持部材による回転時に基板が振り飛ばされず、安定的に保持するために、この基板の4つの角隅部または各辺を構成する端面に当接する位置決めピンを設けるようにしている。   As described above, in the substrate spin processing apparatus used for performing various processes on the substrate, the substrate support member provided connected to the spindle is provided with support pins in order to minimize the number of contact portions with the substrate. The substrate is placed on the support pins. In the case where the substrate is made of a thin plate, when a process is performed on the substrate, a predetermined number of support pins are arranged almost uniformly in order to ensure the level of the substrate. In addition, by making the tips of these support pins have a substantially spherical shape, the contact area with the substrate is reduced, and the substrate is protected from being damaged when attached or detached. Furthermore, in order to hold the substrate stably without being shaken off when rotated by the substrate support member, positioning pins that contact the four corners of the substrate or the end surfaces constituting the sides are provided.

基板スピン処理装置は以上のように構成されるものであって、基板は、通常、搬送コンベア等により搬送されて順次所定の工程を経て各種の処理が行われることになるが、工程中には基板スピン処理装置を設けた処理ステージが含まれる。従って、基板は、この搬送コンベアからスピン処理ステージにおけるスピンドルに連結した基板支持部材上に移載されて、スピンドルを回転駆動することによって、基板を水平状態で回転駆動する間に所定の処理や操作等が行われる。   The substrate spin processing apparatus is configured as described above, and the substrate is usually transported by a transport conveyor or the like, and various processes are sequentially performed through predetermined processes. A processing stage provided with a substrate spin processing apparatus is included. Accordingly, the substrate is transferred from the transfer conveyor onto the substrate support member connected to the spindle in the spin processing stage, and the spindle is driven to rotate, so that predetermined processing or operation can be performed while the substrate is rotated in a horizontal state. Etc. are performed.

基板を搬送コンベアからスピン処理ステージに設けたスピンドルの基板支持部材上に載置するために、従来はロボットが用いられ、搬送コンベアに設定した移載領域にまで基板が搬送されると、その位置で基板の搬送を停止させて、ロボットを作動させることによって搬送コンベアから基板を取り出して、基板支持部材に設置するのが一般的である。しかしながら、液晶パネル等を製造するに当って、効率性及び生産性の観点から、大きなサイズの基板、所謂マザーボードの形で所定の処理を行った後、液晶パネルとなる寸法となるように切断する方式が採用されるようになってきており、ロボットによってこのような大判の基板を移載するためには、大型のロボットが必要となってくる。液晶パネルを構成する基板等は、その性質上、クリーンルーム内で所要の処理を行うようになっているので、移載用のロボットが大型化すると、クリーンルームの容積も大きくしなければならない等といった問題点がある。   In order to place the substrate on the substrate support member of the spindle provided on the spin processing stage from the transport conveyor, a robot is conventionally used, and when the substrate is transported to the transfer area set on the transport conveyor, In general, the substrate is stopped and the robot is operated to take out the substrate from the transfer conveyor and place it on the substrate support member. However, in manufacturing a liquid crystal panel or the like, from the viewpoint of efficiency and productivity, a predetermined processing is performed on a large-sized substrate, a so-called mother board, and then cut to a size that becomes a liquid crystal panel. In order to transfer such a large-sized substrate by the robot, a large-sized robot is required. Due to the nature of the substrates that make up the liquid crystal panel, the required processing is performed in the clean room. Therefore, if the transfer robot becomes larger, the volume of the clean room must be increased. There is a point.

以上の点を考慮して、インライン処理を行う方式が、例えば特許文献1に開示されている。このインライン処理は、搬送コンベアの途中にスピンドルを配置して、このスピンドルの先端部に搬送コンベアと干渉しないように基板支持部材を装着し、この基板支持部材の配設位置の上部に処理液を基板に供給するノズルを配する構成としたものである。そして、基板支持部材を搬送コンベアによる基板搬送面の下方に位置させた状態で、搬送コンベアにより基板を搬送し、この基板が基板支持部材の上部位置にまで搬送されると、基板支持部材を上昇させることによって、基板をこの基板支持部材に載置させて、搬送コンベアから切り離されることになる。そこで、スピンドルを回転駆動することにより基板を水平状態で回転させ、この間にノズルから所定の処理液を基板表面に供給するように構成されている。これによって、ロボットを用いなくても、基板を搬送コンベアから基板支持部材に移載することができるので、装置全体の構成を小型化、コンパクト化することができ、その結果クリーンルームの容積も小さくできる等といった優れた利点がある。
特開2002−1245号公報
In consideration of the above points, a method for performing inline processing is disclosed in Patent Document 1, for example. In this in-line processing, a spindle is arranged in the middle of the conveyor, a substrate support member is mounted at the tip of the spindle so as not to interfere with the conveyor, and the processing liquid is placed on the upper position of the substrate support member. The nozzle for supplying to the substrate is arranged. Then, with the substrate support member positioned below the substrate transfer surface by the transfer conveyor, the substrate is transferred by the transfer conveyor, and when the substrate is transferred to the upper position of the substrate support member, the substrate support member is raised. By doing so, the substrate is placed on the substrate support member and separated from the transfer conveyor. Therefore, the substrate is rotated in a horizontal state by rotationally driving the spindle, and a predetermined processing liquid is supplied from the nozzle to the substrate surface during this time. As a result, the substrate can be transferred from the transfer conveyor to the substrate support member without using a robot, so that the overall configuration of the apparatus can be reduced in size and size, and as a result the volume of the clean room can be reduced. There are excellent advantages such as.
JP 2002-1245 A

ところで、基板を搬送コンベアから確実に基板支持部材に移載するためには、搬送コンベアにより搬送される基板が正確に一定の位置において停止させなければならない。このために、基板支持部材が配設されている位置に基板の位置決めを行う機構を設けるようにしている。マザーボード等といったサイズの大きい基板を処理する場合には、搬送コンベアによる基板の搬送によって基板には大きな慣性力が作用する。このために基板の位置決め時には基板が位置決め機構と衝突するので、大きな衝撃が加わり、基板が損傷したり、変形したりするおそれがある。また、搬送コンベアの作動を継続しながら、基板を位置決めして基板支持部材に移載させるようにすると、基板が位置決めされた後、基板支持部材で搬送コンベアから切り離されるまでの間は、その裏面側が搬送コンベアと摺接することになるので、この基板の裏面側を損傷させるという問題点もある。そこで、基板の位置決めから基板支持部材への移載までの間は搬送コンベア全体を停止させるようにすることが考えられるが、そうするとこのスピン処理工程の前工程や後工程等に影響を与えることになる。   By the way, in order to transfer the substrate from the transport conveyor to the substrate support member with certainty, the substrate transported by the transport conveyor must be accurately stopped at a certain position. For this purpose, a mechanism for positioning the substrate is provided at a position where the substrate support member is disposed. When a large substrate such as a mother board is processed, a large inertial force acts on the substrate by transporting the substrate by the transport conveyor. For this reason, since the substrate collides with the positioning mechanism at the time of positioning the substrate, a large impact is applied, and the substrate may be damaged or deformed. In addition, if the substrate is positioned and transferred to the substrate support member while continuing the operation of the transfer conveyor, the back side of the substrate is positioned and then separated from the transfer conveyor by the substrate support member. Since the side is in sliding contact with the conveyor, there is also a problem that the back side of the substrate is damaged. Therefore, it is conceivable to stop the entire transfer conveyor during the period from the positioning of the substrate to the transfer to the substrate support member, but this will affect the pre-process and post-process of this spin processing process. Become.

本発明は以上の点を課題としてなされたものであって、基板をスピンドルにより回転駆動しながら所定の処理なり操作なりを行うに当って、搬送コンベアを停止させることなく、基板を正確に所定の位置に位置決めしてスピンドルの基板支持部材に円滑に移載できるようにすることを目的としている。   The present invention has been made with the above points as an object, and in performing predetermined processing or operation while rotating a substrate by a spindle, the substrate is accurately determined without stopping the conveyor. It is intended to be positioned at a position so that it can be smoothly transferred to the substrate support member of the spindle.

前述した目的を達成するために、本発明の基板スピン処理装置の構成は、搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板をスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うための基板スピン処理装置であって、前記スピンドルの先端に連結して設けられ、前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームとを有する基板支持部材と、前記基板を前記スピン処理ステージ内で前記基板支持部材の配設位置に搬送するために、少なくとも前記基板の搬送方向における全長より基板停止位置と基板減速開始位置との間の搬送長さ分だけ長い搬送路を有するステージ内搬送手段と、前記ステージ内搬送手段により搬送される前記基板が減速開始位置に到達したことを検出して、この基板の搬送速度を減速させる第1の検出手段と、前記基板が停止位置に到達したことを検出して、前記ステージ内搬送手段を停止させる第2の検出手段と、前記ステージ内搬送手段は回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアから構成し、前記回転軸部材は、前記基板支持部材に対して、高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配設されており、前記基板支持部材を昇降手段に装着して、この昇降手段により前記基板支持部材を昇降駆動して、前記基板支持部材を前記ローラコンベアによる基板の搬送面より下降した位置と、前記搬送面より上昇した位置とに昇降駆動するとともに、前記基板支持部材の下降時には、この基板支持部材を前記ローラコンベアによる搬送面と前記回転軸部材との間に挟まれた位置に配置する構成としたことをその特徴とするものである。 In order to achieve the above-described object, the substrate spin processing apparatus according to the present invention includes a transfer conveyor, and transfers the substrate to a spin processing stage from a transfer path for transferring the substrate in a horizontal state. A substrate spin processing apparatus for performing predetermined processing on the substrate by horizontally rotating it with a spindle disposed on a processing stage, wherein the substrate spin processing device is connected to the tip of the spindle and has a back surface of the substrate at a plurality of locations. A substrate support member having a plurality of support arms mounted with support pins to be supported and positioning pins for positioning end surfaces around the substrate, and transporting the substrate to the position where the substrate support member is disposed in the spin processing stage Therefore, it is at least as long as the transport length between the substrate stop position and the substrate deceleration start position than the total length in the substrate transport direction. An in-stage transport means having a long transport path; a first detection means for detecting that the substrate transported by the in-stage transport means has reached a deceleration start position and decelerating the transport speed of the substrate; The second detection means for detecting that the substrate has reached the stop position and stopping the in-stage transfer means, and the in-stage transfer means are constituted by a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member. The rotating shaft member is disposed so as to partially intersect the substrate support member at a different position in the height direction, and the substrate support member is attached to an elevating means. When the substrate support member is driven up and down by means, the substrate support member is driven up and down to a position lowered from the transfer surface of the substrate by the roller conveyor and a position raised from the transfer surface. Moni, during descent of the substrate support member are those that characterized in that the structure be arranged in a position between between the rotating shaft member and the conveying surface by the substrate support member the roller conveyor .

ここで、スピン処理ステージにおいて行われる基板の処理なり操作なりとしては、基板の洗浄後に行われるスピン乾燥がある。この場合には、水平状態に保持された基板を高速で回転駆動させて、基板の表面上に存在する液を遠心力の作用で除去するものである。そして、液供給手段を設けて、基板の回転中に、この基板表面に所定の液体を供給することによって、基板に対して液処理を行うこともできる。この場合、液供給手段によって基板の回転中心近傍に液を滴下すると、基板の回転による遠心力の作用で、液は基板の全面にわたったほぼ均一な厚みとなるように塗布することができる。即ち、エッチング液、現像液、剥離液等を塗布する場合に、基板を高速回転させることによって、全体にわたって均等に液処理を行うことができる。また、基板を洗浄する際にも、同様の構成を採用することによって、基板全体をむらなく洗浄できるようになる。また、液供給手段は固定的に設けるか、またはスイング動作等により基板の上部位置と、この基板の上部位置から離間した位置との間で往復移動可能な構成とすることができる。   Here, the substrate processing or operation performed in the spin processing stage includes spin drying performed after cleaning the substrate. In this case, the substrate held in a horizontal state is rotationally driven at a high speed, and the liquid existing on the surface of the substrate is removed by the action of centrifugal force. Then, by providing a liquid supply means and supplying a predetermined liquid to the surface of the substrate while the substrate is rotating, the substrate can be subjected to a liquid treatment. In this case, when the liquid is dropped near the rotation center of the substrate by the liquid supply means, the liquid can be applied so as to have a substantially uniform thickness over the entire surface of the substrate by the action of the centrifugal force due to the rotation of the substrate. That is, when applying an etching solution, a developing solution, a stripping solution, etc., the substrate can be uniformly processed by rotating the substrate at a high speed. Further, when the substrate is cleaned, the same configuration is adopted, so that the entire substrate can be cleaned evenly. Further, the liquid supply means may be fixedly provided, or may be configured to reciprocate between an upper position of the substrate and a position separated from the upper position of the substrate by a swing operation or the like.

以上のように、乾燥を行う際や、液処理を行う際には、基板を水平回転させることによって、基板の端部から液が飛散することになる。このように飛散した液によって、スピン処理ステージ内及びその周辺部が汚損されるのを防止し、かつ飛散した処理液を回収するために、基板をスピンカップ内に配置するのが望ましい。ただし、基板がステージ内搬送手段により搬送される際には、このスピンカップが搬送中の基板と干渉しないようにしなければならない。そこで、スピンカップで基板を囲繞される作動位置と、この位置から上昇(または下降)させて、基板の搬送を可能にする開放位置となるように昇降させるカップ昇降手段とを備える構成とすることができる。   As described above, when performing drying or liquid treatment, the liquid is scattered from the edge of the substrate by horizontally rotating the substrate. In order to prevent the scattered liquid from being contaminated in the spin processing stage and its peripheral portion, and to collect the scattered processing liquid, it is desirable to arrange the substrate in the spin cup. However, when the substrate is transported by the in-stage transport means, the spin cup must be prevented from interfering with the substrate being transported. Therefore, an operation position in which the substrate is surrounded by the spin cup, and a cup lifting / lowering means that moves up (or descends) from this position and moves up and down to an open position that allows the substrate to be transported are provided. Can do.

ステージ内搬送手段は独立した搬送手段を構成するものであり、回転軸にローラを装着したローラコンベアとその駆動手段とを備える構成としている。そして、ステージ内搬送手段による基板の搬送路全長は、この基板の搬送方向の全長分に加えて減速領域の長さ分とを合計したものとなる。従って、ステージ内搬送手段を、少なくとも搬送コンベアの端部から概略減速開始位置と停止位置との間隔に相当する長さ分だけ基板を搬送する搬入側搬送部と、基板を減速開始位置から停止位置までの間隔に相当する長さ分を搬送する主搬送部とからなる。搬送コンベアにより基板が搬送されて、その先端部がステージ内搬送手段に移行するが、このときにはステージ内搬送手段はステージ外の搬送コンベアを等速で基板を搬送する。基板の後端部が搬送コンベアから離れて、完全にステージ内搬送手段により搬送される状態になると、減速を開始して、徐々に搬送速度を低下させ、基板の先端が停止位置にまで到達すると、ステージ内搬送手段の作動を停止させる。これによって、基板を正確に所定の位置に停止させることができ、基板支持部材に載置される状態に円滑に移行する。 The stage in the transfer means constitutes a separate conveying means has a configuration including a roller conveyor equipped with roller on the rotary shaft and its drive means. The total length of the substrate transport path by the in-stage transport means is the sum of the length of the deceleration region in addition to the total length of the substrate in the transport direction. Accordingly, the in-stage transport means transports the substrate by a length corresponding to at least the distance between the approximate deceleration start position and the stop position from the end of the transport conveyor, and the stop position from the deceleration start position to the substrate. And a main transport unit that transports a length corresponding to the interval up to. The substrate is transported by the transport conveyor, and the leading end thereof moves to the in-stage transport means. At this time, the in-stage transport means transports the substrate at a constant speed on the transport conveyor outside the stage. When the rear end of the substrate moves away from the transfer conveyor and is completely transferred by the in-stage transfer means, it starts to decelerate, gradually lowering the transfer speed, and the tip of the substrate reaches the stop position Then, the operation of the in-stage transport means is stopped. Accordingly, the substrate can be accurately stopped at a predetermined position, and the state is smoothly shifted to a state where the substrate is placed on the substrate support member.

以上によって、たとえサイズの大きい基板であっても、その停止時に、搬送方向における前後方向の位置を正確に制御できる。また、基板の搬送方向とは直交する方向の位置決めは、ステージ内搬送手段で搬送される間、若しくは停止した後に行うこともできるが、ステージ外の搬送コンベアからステージ内搬送手段に移行した直後に基板の左右両側部に接離可能な位置決め部材を設けて、基板の搬送方向の両側を位置決めする構成とすることができる。   As described above, even in the case of a large-sized substrate, the position in the front-rear direction in the transport direction can be accurately controlled when the substrate is stopped. Positioning in the direction orthogonal to the substrate transport direction can be performed while the substrate is being transported by the in-stage transport means or after being stopped, but immediately after the transfer from the transport conveyor outside the stage to the in-stage transport means. Positioning members that can be brought into contact with and separated from the left and right side portions of the substrate can be provided to position both sides of the substrate in the transport direction.

ステージ内搬送手段で基板を搬送している間は、基板支持部材を基板の裏面から離間させ、またスピンドルによって基板を回転駆動する際には、ステージ内搬送手段の搬送面と基板の裏面との間に間隔を空けなければならない。昇降手段はこのために設けられるものであり、基板支持部材のローラコンベアを構成する回転軸とローラによる搬送面との間の高さ位置に配置しておき、基板の回転時にはスピンドルと共に基板支持部材を上昇させて基板を支持して上昇させるように構成する。このために、基板昇降部材を設けて、スピンドルに連結した支持アームに設けた支持ピンの先端が、ステージ内搬送手段の搬送面より低い位置と、それより高い位置とに昇降駆動する。 While the substrate is being transported by the in-stage transport means, the substrate support member is separated from the back surface of the substrate, and when the substrate is rotationally driven by the spindle, the transport surface of the in-stage transport means and the back surface of the substrate are There must be a gap in between. The lifting means is provided for this purpose, and is arranged at a height position between the rotating shaft constituting the roller conveyor of the substrate support member and the conveying surface by the rollers, and the substrate support member together with the spindle when the substrate rotates. Is raised to support and lift the substrate. For this purpose, a substrate elevating member is provided, and the tip of the support pin provided on the support arm connected to the spindle is driven up and down to a position lower than the transfer surface of the in-stage transfer means and a position higher than that.

そして、搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板を回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアからなるステージ内搬送手段を有するスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うスピン処理方法の発明は、前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームをスピンドルに連結して設けた基板支持部材を、前記ステージ内搬送手段における前記ローラコンベアの搬送面より下方で、前記回転軸部材より上方位置であり、かつこの回転軸部材と高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配置して、前記搬送コンベアにより所定の搬送速度で搬送される基板を前記スピン処理ステージの前記ステージ内搬送手段に移行させ、前記基板がこのステージ内搬送手段に完全に移行した後に、この基板の搬送速度を減速するようになし、前記基板が前記スピン処理ステージ内の所定の位置に到達したときに、この基板の搬送を停止させ、前記基板支持部材を上昇させることにより、前記ステージ内搬送手段による搬送面から前記基板を離間させて、前記基板の周囲の端面を前記位置決めピンと当接させた状態で、前記スピンドルにより水平回転させることを特徴とする。 Then, from the transport path that is composed of a transport conveyor and transports the substrate in a horizontal state, the substrate is transferred to a spin processing stage having a transport means in a stage composed of a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member , The invention of a spin processing method for performing predetermined processing on the substrate by horizontally rotating it with a spindle disposed on the spin processing stage is to position a support pin for supporting the back surface of the substrate at a plurality of locations and end surfaces around the substrate. A substrate support member provided by connecting a plurality of support arms to which a positioning pin is attached to a spindle, is below the transfer surface of the roller conveyor in the in-stage transfer means and above the rotary shaft member; arranged so as to partially intersect Chigae position to the rotating shaft member and the height direction, the transportable Conveyor by transitions the substrate is conveyed at a predetermined conveying speed in the stage the conveying means of the spin-processing stage, the substrate after the complete transition to the stage in the transfer means, for reducing the transport speed of the substrate When the substrate reaches a predetermined position in the spin processing stage, the conveyance of the substrate is stopped, and the substrate support member is lifted so that the substrate is lifted from the conveyance surface by the in-stage conveyance means. The substrate is separated and rotated horizontally by the spindle in a state in which an end surface around the substrate is in contact with the positioning pin.

また、スピン処理方法に関する他の発明は、搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板を回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアからなるステージ内搬送手段を有するスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うスピン処理方法であって、前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームをスピンドルに連結して設けた基板支持部材を、前記ステージ内搬送手段における前記ローラコンベアの搬送面より下方で、前記回転軸部材より上方位置であり、かつこの回転軸部材と高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配置して、前記搬送コンベアにより所定の搬送速度で搬送される基板を前記スピン処理ステージの前記ステージ内搬送手段に移行させ、このステージ内搬送手段により前記基板が搬送される間に、この基板の左右両側部を位置決めガイドし、前記基板がこのステージ内搬送手段に完全に移行した後に、この基板の搬送速度を減速するようになし、前記基板が前記スピン処理ステージ内の所定の位置に到達したときに、この基板の搬送を停止させ、前記基板支持部材を上昇させることにより、前記ステージ内搬送手段による搬送面から前記基板を離間させて、前記基板の周囲の端面を前記位置決めピンと当接させた状態で、前記スピンドルにより水平回転させ、この回転中に前記基板に対して所定の処理液を供給することを特徴としている。

Further, another invention relating to the spin processing method includes an in- stage transfer means including a transfer conveyor, and a transfer path that transfers the substrate in a horizontal state, and includes a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member. A spin processing method for performing predetermined processing on the substrate by moving to a spin processing stage and horizontally rotating by a spindle disposed on the spin processing stage, and supporting the back surface of the substrate at a plurality of locations A substrate support member provided by connecting a plurality of support arms, which are equipped with pins and positioning pins for positioning end surfaces around the substrate, to the spindle, is rotated below the transfer surface of the roller conveyor in the in-stage transfer means. It is located above the shaft member, and is partially different from the rotating shaft member in the height direction. While disposed so as to intersect, the substrate is conveyed at a predetermined conveying speed by the conveyor is shifted to the stage in the transport means of the spin-processing stage, the substrate is transported by the stage in the transfer means The left and right side portions of the substrate are positioned and guided, and after the substrate has completely transferred to the in-stage transport means, the transport speed of the substrate is reduced. When the position is reached, the substrate is stopped from being transported, and the substrate support member is lifted to separate the substrate from the transport surface by the in-stage transport means, and the end surface around the substrate is The spindle is rotated horizontally by the spindle in contact with the positioning pin, and a predetermined processing liquid is supplied to the substrate during the rotation. It is set to.

以上のように、搬送コンベアで搬送されてくる基板をステージ内搬送手段に移行させた後に、スピンドルの基板支持部材に載置させて、この基板を回転駆動することによって、ステージ内搬送手段で基板の搬送速度を減速させた上で停止させることができるようになっているので、基板の位置決め精度が向上すると共に、ステージ外の搬送コンベアは定速送りする状態に維持できるので、スピン処理ステージにおける処理なり操作なりの前工程や後工程に影響を与えることはない。   As described above, after the substrate transported by the transport conveyor is transferred to the in-stage transport means, the substrate is placed on the substrate support member of the spindle, and the substrate is rotated by driving the substrate by the in-stage transport means. In addition to improving the positioning accuracy of the substrate and maintaining the transport conveyor outside the stage at a constant speed, it is possible to stop at the spin processing stage. It does not affect the pre-process and post-process that are processed or operated.

そこで、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。本発明の基板スピン処理装置は、例えば液晶パネルを構成する透明なガラス基板に対するスピンコート、スピン洗浄、スピン乾燥等の工程に用いられる。そして、スピンコートやスピン洗浄を行うためには、それぞれ処理液、洗浄液等の供給手段が設けられ、スピン乾燥を行う場合には、このような液供給手段は設けられない。   An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The substrate spin processing apparatus of the present invention is used for processes such as spin coating, spin cleaning, and spin drying on a transparent glass substrate constituting a liquid crystal panel, for example. In order to perform spin coating and spin cleaning, supply means for processing liquid, cleaning liquid and the like are provided, respectively, and in the case of performing spin drying, such liquid supply means is not provided.

図1は基板スピン処理装置の平面図であり、また図2は図1の正面図である。これらの図において、1は基板であり、この基板1は、例えば四角形の薄板からなるガラス基板である。基板スピン処理装置は、処理ステージ2を有し、この処理ステージ2の内部にはスピンドル3と、ステージ内搬送手段4と、スピンカップ5とが設置されている。スピンドル3は基板1を水平状態に保持して回転駆動するためのものであり、またステージ内搬送手段4は図示しないステージ外搬送手段から基板1を処理ステージ2内に搬入して、所定の位置に位置決めするためのものである。さらに、スピンカップ5は基板1を回転駆動している間に、遠心力の作用でこの基板1の端部から飛散する液を受けて、下方に流出させて回収するためのものである。   FIG. 1 is a plan view of the substrate spin processing apparatus, and FIG. 2 is a front view of FIG. In these drawings, reference numeral 1 denotes a substrate. The substrate 1 is a glass substrate made of, for example, a rectangular thin plate. The substrate spin processing apparatus has a processing stage 2, and a spindle 3, an in-stage transfer means 4, and a spin cup 5 are installed inside the processing stage 2. The spindle 3 is for holding and rotating the substrate 1 in a horizontal state, and the in-stage transport unit 4 carries the substrate 1 into the processing stage 2 from a non-stage transport unit (not shown), and a predetermined position. It is for positioning. Further, the spin cup 5 receives liquid scattered from the end portion of the substrate 1 by the action of centrifugal force while the substrate 1 is being rotationally driven, and flows out downward to be recovered.

スピンドル3は回転軸10の先端に基板支持部材11を装着したものである。基板支持部材11は、回転軸10から放射状に延在させた複数の支持アーム12と、各支持アーム12の外周部に設けた補強リング13とを有し、各支持アーム12には支持ピン14及び位置決めピン15が所定本数だけ立設されている。支持ピン14は先端が球形となって、基板1の裏面に当接するようになっており、また位置決めピン15は基板1の端部と当接して、その位置決めを行うものである。   The spindle 3 has a substrate support member 11 attached to the tip of the rotating shaft 10. The substrate support member 11 includes a plurality of support arms 12 that extend radially from the rotary shaft 10 and a reinforcing ring 13 provided on the outer periphery of each support arm 12. A predetermined number of positioning pins 15 are provided upright. The support pin 14 has a spherical tip and comes into contact with the back surface of the substrate 1, and the positioning pin 15 comes into contact with the end of the substrate 1 to perform positioning.

図3に示したように、回転軸10を回転駆動するために回転伝達部材16を備えている。回転軸10は、その軸線方向の途中位置において、回転伝達部材16とスプライン結合等により一体的に回転するように連結されている。そして、回転伝達部材16は軸受17によって、装置を構成する固定側部材に回転自在に支承されている。回転伝達部材16は伝達プーリ18を備えており、またモータ19の出力軸には駆動プーリ20が連結して設けられており、駆動プーリ20と伝達プーリ18との間には伝達ベルト21が巻回して設けられている。従って、モータ19を駆動すると、回転伝達部材16が回転することになる結果、回転軸10が回転することになる。   As shown in FIG. 3, a rotation transmission member 16 is provided for rotationally driving the rotary shaft 10. The rotary shaft 10 is connected so as to rotate integrally with the rotation transmitting member 16 by spline coupling or the like at an intermediate position in the axial direction. The rotation transmission member 16 is rotatably supported by a bearing 17 on a fixed side member constituting the apparatus. The rotation transmission member 16 includes a transmission pulley 18. A drive pulley 20 is connected to the output shaft of the motor 19. A transmission belt 21 is wound between the drive pulley 20 and the transmission pulley 18. It is provided by turning. Therefore, when the motor 19 is driven, the rotation transmission member 16 rotates, and as a result, the rotating shaft 10 rotates.

また、回転軸10の下端部は、基板1を支持する基板支持部材11を昇降させるために、基板昇降手段に連結されている。この基板昇降手段は、回転軸10の下端部に設けたフランジ部22にシリンダ、送りねじ等からなる昇降駆動部材23の先端に設けた連結部材24を連結したもので構成される。この連結部材24とフランジ部22との間には軸受25が介装されており、従って連結部材24とフランジ部22とを連結したままの状態で回転軸10を回転駆動することができるようになっている。   Further, the lower end portion of the rotating shaft 10 is connected to a substrate lifting / lowering means for lifting / lowering the substrate support member 11 that supports the substrate 1. The substrate lifting / lowering means is configured by connecting a connecting member 24 provided at the tip of a lifting / lowering drive member 23 such as a cylinder and a feed screw to a flange portion 22 provided at the lower end portion of the rotary shaft 10. A bearing 25 is interposed between the connecting member 24 and the flange portion 22, so that the rotary shaft 10 can be driven to rotate while the connecting member 24 and the flange portion 22 remain connected. It has become.

ステージ内搬送手段4は、処理ステージ2の外部に設けたステージ外搬送手段から基板1を受け取って、所定の位置に位置決めして基板支持部材11に受け渡し、また基板1に対して所定の処理が行われた後に、基板1を処理ステージ2から搬出するためのものである。このステージ内搬送手段4はローラコンベアから構成され、またステージ外搬送手段もローラコンベアで構成される。このように、ローラコンベアを用いたのは、基板1への接触面積をできるだけ少なくするためである。   The in-stage transfer unit 4 receives the substrate 1 from the outside transfer unit provided outside the processing stage 2, positions the substrate 1 at a predetermined position, transfers it to the substrate support member 11, and performs a predetermined process on the substrate 1. After being performed, the substrate 1 is unloaded from the processing stage 2. This in-stage transport means 4 is composed of a roller conveyor, and the outside-stage transport means is also composed of a roller conveyor. The reason why the roller conveyor is used is to reduce the contact area to the substrate 1 as much as possible.

ステージ内搬送手段4はステージ外搬送手段から基板1を処理ステージ2内に導入するための搬入側搬送部30と、主搬送部31とを備え、さらに必要に応じて処理ステージ2から基板1を搬出する搬出側搬送部が設けられる。ただし、ステージ内搬送手段4は単一の搬送手段で構成しても良く、また処理ステージ2において、基板1に対する処理が液を用いたウエット処理が行われる場合には、液の持ち出しとステージ外搬送手段における汚損防止等の観点から、ロボットを用いて搬出するように構成される。   The in-stage transport unit 4 includes a carry-in transport unit 30 for introducing the substrate 1 into the processing stage 2 from the transport device outside the stage, and a main transport unit 31, and further transfers the substrate 1 from the processing stage 2 as necessary. A carry-out side conveyance unit for carrying out is provided. However, the in-stage transport means 4 may be constituted by a single transport means, and in the processing stage 2, when wet processing using liquid is performed on the substrate 1, the liquid is taken out and outside the stage. From the viewpoint of preventing fouling in the conveying means, the robot is configured to be carried out using a robot.

搬入側搬送部30(搬出側搬送部が設けられている場合には、この搬出側搬送部も同様)は、両端が支持部材32に支持された複数本の回転軸33と、この回転軸33に所定のピッチ間隔で複数設けられたローラ34とから構成され、これら回転軸33はモータ等からなる可変速回転駆動手段(図示せず)により回転駆動されるものである。従って、1本の回転軸33と他の回転軸33とは伝達ベルト乃至伝達ギアにより連結されている。そして、回転軸33及びローラ34は、ステージ外搬送手段を構成するコンベアと実質的に同じ構成となっている。即ち、回転軸33のピッチ間隔と、ローラ34の直径とは、ステージ外搬送手段を構成する回転軸及びローラと概略同じものである。従って、回転軸33を回転駆動させると、基板1は処理ステージ2の内部に向けて送り込まれるようになっている。さらに、支持部材32は図示しない昇降手段により上下動可能な構成となっている。   The carry-in side conveyance unit 30 (when the carry-out side conveyance unit is provided, this carry-out side conveyance unit is also similar) includes a plurality of rotation shafts 33 supported at both ends by the support member 32, and the rotation shaft 33. And a plurality of rollers 34 provided at predetermined pitch intervals, and the rotation shaft 33 is rotationally driven by variable speed rotation drive means (not shown) including a motor or the like. Accordingly, one rotary shaft 33 and the other rotary shaft 33 are connected by a transmission belt or a transmission gear. The rotating shaft 33 and the roller 34 have substantially the same configuration as the conveyor that constitutes the out-of-stage conveying means. That is, the pitch interval of the rotating shaft 33 and the diameter of the roller 34 are substantially the same as those of the rotating shaft and the rollers constituting the out-stage transport means. Therefore, when the rotary shaft 33 is rotationally driven, the substrate 1 is sent toward the inside of the processing stage 2. Further, the support member 32 is configured to be movable up and down by lifting means (not shown).

また、主搬送部31は、図4にも示したように、両側部に軸支部材36R,36Lを有し、この軸支部材36R,36L間には、複数本の回転軸37が設けられている。回転軸37はスピンドル3における基板支持部材11より下部位置に配置されており、各回転軸37には適宜の位置にローラ38が取り付けられている。ここで、ローラ38は、基板支持部材11における支持アーム12及び補強リング13と干渉しない位置に配置されており、またスピンドル3における回転軸10が通る位置においては、回転軸37が分断された状態で、それぞれ軸支部材36R,36Lに連結されている。ローラ38は、搬入側搬送部30におけるローラ34より大径のものからなり、これによって、ローラ34による基板搬送面Fと回転軸10との間に高さ方向に所定の間隔を持たせるようになし、基板支持部材11が下降しているときには、この基板支持部材11に設けた支持ピン14及び位置決めピン15の先端は基板搬送面Fより下方に位置する構成となっている。   Further, as shown in FIG. 4, the main transport unit 31 has shaft support members 36R and 36L on both sides, and a plurality of rotating shafts 37 are provided between the shaft support members 36R and 36L. ing. The rotation shaft 37 is disposed at a position below the substrate support member 11 in the spindle 3, and a roller 38 is attached to each rotation shaft 37 at an appropriate position. Here, the roller 38 is disposed at a position where it does not interfere with the support arm 12 and the reinforcing ring 13 in the substrate support member 11, and the rotary shaft 37 is divided at a position where the rotary shaft 10 passes through the spindle 3. Thus, the shaft support members 36R and 36L are connected to each other. The roller 38 has a larger diameter than the roller 34 in the carry-in side conveyance unit 30, and thereby, a predetermined interval is provided in the height direction between the substrate conveyance surface F by the roller 34 and the rotary shaft 10. None, when the substrate support member 11 is lowered, the tips of the support pins 14 and the positioning pins 15 provided on the substrate support member 11 are positioned below the substrate transport surface F.

主搬送部31における両側部に設けた軸支部材36R,36Lの内部にはベルトやギア等からなる回転伝達手段が設けられており、一方の軸支部材36R側にはこれら回転伝達手段で連結した各回転軸37を回転駆動するためのモータ等からなる可変速回転駆動部材39が設けられている。従って、この可変速回転駆動部材39を作動させて、回転軸37を回転させることによりローラ38に当接する基板1を搬送できるようになっている。また、この主搬送部31における搬入側搬送部30側の位置には、L字アーム40が設けられ、このL字アーム40の先端にはローラ34と同じ大きさのローラ41が複数箇所設けられている。ただし、このローラ41は回転自在になっているが、回転駆動はなされない。そして、これら搬入側搬送部30及び主搬送部31は共に図示しない昇降手段により昇降できるようになっている。   Rotation transmission means such as a belt or a gear is provided inside the shaft support members 36R and 36L provided on both sides of the main transport section 31, and one of the shaft support members 36R is connected by these rotation transmission means. A variable speed rotation drive member 39 made up of a motor or the like for rotating the rotation shafts 37 is provided. Accordingly, by operating the variable speed rotation drive member 39 and rotating the rotary shaft 37, the substrate 1 contacting the roller 38 can be conveyed. Further, an L-shaped arm 40 is provided at a position on the carry-in side conveying unit 30 side in the main conveying unit 31, and a plurality of rollers 41 having the same size as the roller 34 are provided at the tip of the L-shaped arm 40. ing. However, this roller 41 is rotatable, but is not driven to rotate. Both the carry-in side conveyance unit 30 and the main conveyance unit 31 can be moved up and down by elevating means (not shown).

ステージ内搬送手段4は、さらに搬入される基板1を主搬送部31における所定の位置に位置決めする機構を備えている。基板1の搬送方向における左右両部の位置規制を行うために、それぞれ前後に一対のガイドローラ45を設けた作動板46を一対有し、これらの作動板46は相互に近接・離間する方向に移動可能となっている。これらガイドローラ45に装着した作動板46は、搬入側搬送部30の位置に設けられており、基板1が搬入側搬送部30に搬送されるまでは左右のガイドローラ45は離間した状態に保たれており、基板1の先端が搬入側搬送部30を通過した後に、ガイドローラ45が相互に近接する方向に移動して、基板1の左右両側部に当接することによって、この基板1の左右方向の位置決めがなされる。また、基板1の前後方向における位置決めを行うために、主搬送部31の搬送方向に向けて第1の検出手段としての減速センサ47と、基板1の停止位置に配設した第2の検出手段としての停止センサ48とが設けられている。従って、ステージ内搬送手段4により搬送される基板1は減速センサ47の位置にまで搬送されると、それ以後は減速されるようになっており、また停止センサ48の位置に至ると、その位置で基板1が停止させられる。このように、減速センサ47により基板1を減速させた後に、停止センサ48による検出時にステージ内搬送手段4の作動を停止させることによって、ストッパ等を設けることなく、基板1の停止精度を厳格に行うことができるようになる。   The in-stage transport unit 4 further includes a mechanism for positioning the substrate 1 to be loaded at a predetermined position in the main transport unit 31. In order to regulate the position of both the left and right parts in the conveyance direction of the substrate 1, there are a pair of operation plates 46 provided with a pair of guide rollers 45 on the front and rear, respectively. It is movable. The operation plates 46 attached to these guide rollers 45 are provided at the position of the carry-in transport unit 30, and the left and right guide rollers 45 are kept separated until the substrate 1 is transported to the carry-in transport unit 30. After the leading edge of the substrate 1 passes through the carry-in side conveyance unit 30, the guide roller 45 moves in a direction close to each other and comes into contact with the left and right sides of the substrate 1, thereby Directional positioning is made. Further, in order to position the substrate 1 in the front-rear direction, a deceleration sensor 47 as a first detection unit and a second detection unit disposed at the stop position of the substrate 1 in the conveyance direction of the main conveyance unit 31. A stop sensor 48 is provided. Therefore, when the substrate 1 transported by the in-stage transport means 4 is transported to the position of the deceleration sensor 47, the substrate 1 is decelerated thereafter, and when it reaches the position of the stop sensor 48, the position is reached. Thus, the substrate 1 is stopped. In this way, after the substrate 1 is decelerated by the deceleration sensor 47, the operation of the in-stage transport means 4 is stopped when detected by the stop sensor 48, thereby strictly preventing the substrate 1 from being stopped without providing a stopper or the like. Will be able to do.

図2から明らかなように、スピンカップ5は基板1を囲繞する大きさの有蓋円筒形状のカップ本体49からなり、基板1がステージ内搬送手段4によって搬送される間は上昇位置に保持されて、基板1とは干渉しない位置に保持されている。そして、基板1がスピンドル3の基板支持部材11上に移載されて回転する際には、その位置から下降して、この基板1を囲繞させるようになる。その結果、基板1の回転時に遠心力の作用で飛散する液をカップ本体49で受けて、下方に流下させるようになっている。このように、カップ本体49を昇降駆動するために、シリンダ等のカップ昇降手段50と、軸受51内に挿通させたガイドロッド52とが装着されている。   As apparent from FIG. 2, the spin cup 5 is composed of a lid-shaped cylindrical cup body 49 that surrounds the substrate 1, and is held in the raised position while the substrate 1 is transported by the in-stage transport means 4. The substrate 1 is held at a position where it does not interfere. When the substrate 1 is transferred onto the substrate support member 11 of the spindle 3 and rotates, the substrate 1 descends from that position and surrounds the substrate 1. As a result, the liquid splashed by the action of the centrifugal force when the substrate 1 is rotated is received by the cup body 49 and flows downward. Thus, in order to drive the cup body 49 up and down, the cup lifting means 50 such as a cylinder and the guide rod 52 inserted into the bearing 51 are mounted.

さらに、処理ステージ2には、液供給手段53が設けられている。この液供給手段53は、基板1に向けて所望の液体を噴射させる噴射部53aと、アーム部54及びこのアーム部54に連結され、噴射部53aを水平方向にスイングさせる回動軸55とから構成される。そして、基板1が処理ステージ2内に搬送される前の段階では、噴射部53aは処理ステージ2の側部位置に配置されており、基板1が基板支持部材11に移載されて上昇すると、回動軸55を中心としてアーム部54が回動して、噴射部53aが基板1の回転中心を含む位置まで移動する。そして、この状態でスピンカップ5のカップ本体49が下降するが、このカップ本体49にはアーム部54と干渉しないようにするための凹部等が形成されている。   Further, the processing stage 2 is provided with a liquid supply means 53. The liquid supply means 53 includes an ejection unit 53a that ejects a desired liquid toward the substrate 1, an arm unit 54, and a rotary shaft 55 that is connected to the arm unit 54 and swings the ejection unit 53a in the horizontal direction. Composed. In the stage before the substrate 1 is transported into the processing stage 2, the ejection unit 53 a is disposed at the side position of the processing stage 2, and when the substrate 1 is transferred to the substrate support member 11 and lifted, The arm portion 54 rotates about the rotation shaft 55, and the ejection unit 53 a moves to a position including the rotation center of the substrate 1. In this state, the cup body 49 of the spin cup 5 is lowered, but the cup body 49 is formed with a recess or the like for preventing interference with the arm portion 54.

基板スピン処理装置は以上のように構成されるものであって、次にこの基板スピン処理装置を用いて、基板1に対して所定の処理を行う方法について説明する。なお、基板1としては、液晶パネルを構成するガラス基板であり、適用される処理液はエッチング後の剥離液等である。   The substrate spin processing apparatus is configured as described above. Next, a method for performing a predetermined process on the substrate 1 using the substrate spin processing apparatus will be described. In addition, as the board | substrate 1, it is a glass substrate which comprises a liquid crystal panel, and the process liquid applied is the peeling liquid etc. after an etching.

まず、図5に示したように、基板1は前工程からステージ外搬送手段によって処理ステージ2に搬送される。このときには、スピンドル3における回転軸10の先端に設けた基板支持部材11は下降状態とし、またステージ内搬送手段4の搬送面はステージ外搬送手段の搬送面と同じ高さ位置とする。さらに、スピンカップ4のカップ本体49は上昇位置に保つようにする。しかも、基板1の左右両側部を位置決めするためのガイドローラ45,45は相互に離間する位置に保持される。そして、ステージ内搬送手段4における搬送速度は、ステージ外搬送手段による搬送速度と一致させるようにする。ここで、搬入側搬送部30のローラ34は直径が小さく、主搬送部31におけるローラ38の直径は大きいことから、ローラ34を取り付けた回転軸33の回転速度は、ローラ38を取り付けた回転軸37の回転速度より速くなる。搬入側搬送部30のローラ34はステージ外搬送手段のローラと同じ直径にしておくことによって、回転軸33の回転速度はステージ外搬送手段のローラを取り付けた回転軸と等速で回転させることになる。   First, as shown in FIG. 5, the substrate 1 is transported to the processing stage 2 from the previous process by the off-stage transport means. At this time, the substrate support member 11 provided at the tip of the rotary shaft 10 in the spindle 3 is lowered, and the transport surface of the in-stage transport unit 4 is set at the same height as the transport surface of the transport device outside the stage. Further, the cup body 49 of the spin cup 4 is kept in the raised position. Moreover, the guide rollers 45 for positioning the left and right side portions of the substrate 1 are held at positions that are separated from each other. And the conveyance speed in the in-stage conveyance means 4 is made to correspond with the conveyance speed by the conveyance means outside a stage. Here, since the roller 34 of the carry-in side conveyance unit 30 has a small diameter and the diameter of the roller 38 in the main conveyance unit 31 is large, the rotation speed of the rotation shaft 33 to which the roller 34 is attached is the rotation axis to which the roller 38 is attached. It becomes faster than the rotational speed of 37. By setting the roller 34 of the carry-in side conveyance unit 30 to have the same diameter as the roller of the conveyance device outside the stage, the rotation speed of the rotation shaft 33 is rotated at the same speed as the rotation shaft to which the roller of the conveyance device outside the stage is attached. Become.

基板1はステージ外搬送手段からステージ内搬送手段4における搬入側搬送部30に搬入され、さらに主搬送部31により搬送されるようになる。基板1がステージ内搬送手段4により搬送されている間は、基板支持部材11の支持ピン14及び位置決めピン15はステージ内搬送手段4による搬送面Fより低い位置となっているので、これらのピン14,15は基板1の裏面とは非接触状態に保たれる。そして、基板1がステージ内搬送手段4による搬送が開始した後、それが主搬送部31に至る直前または直後の位置になると、作動板46,46を近接させて、ガイドローラ45,45を基板1の左右の両側端面に当接させて、ローラ45は基板1の側端面に対して転動することになる。基板1の後端部がステージ外搬送手段から離脱して、完全にステージ内搬送手段4側に移行する位置まで搬入された後には、その先端部が減速センサ47の配設位置にまで進入する。   The substrate 1 is carried into the carry-in side conveyance unit 30 in the in-stage conveyance unit 4 from the outside-stage conveyance unit, and is further conveyed by the main conveyance unit 31. While the substrate 1 is being transported by the in-stage transport means 4, the support pins 14 and the positioning pins 15 of the substrate support member 11 are positioned lower than the transport surface F by the in-stage transport means 4. 14 and 15 are kept out of contact with the back surface of the substrate 1. Then, after the substrate 1 starts to be transferred by the in-stage transfer means 4, when it reaches a position immediately before or after reaching the main transfer portion 31, the operation plates 46 and 46 are brought close to each other and the guide rollers 45 and 45 are moved to the substrate. 1, the roller 45 rolls with respect to the side end surface of the substrate 1. After the rear end portion of the substrate 1 is detached from the outside-stage transfer means and completely transferred to the in-stage transfer means 4 side, the front end portion enters the position where the deceleration sensor 47 is disposed. .

このようにして、減速センサ47により基板1の先端部が検出されると、搬入側搬送部30における可変速回転駆動部材及び主搬送部31における可変速回転駆動部材39の回転速度を連続的に低下させる。そして、基板1がステージ内搬送手段4により搬送されて、その先端部が停止センサ48の位置にまで到達すると、図6及び図7に示したように、両可変速回転駆動部材の作動を停止させる。この停止直前では基板1の搬送速度は微速状態となっているので、たとえ基板1が大判のものであっても、慣性力によって位置ずれが生じるようなことはなく、正確に停止センサ48の配設位置で停止する。しかも、ステージ内搬送手段4内に導かれたときに、その左右両側部はガイドローラ45の作用で正確に位置決めされているので、基板1は所定の位置で停止することになる。   In this way, when the leading end of the substrate 1 is detected by the deceleration sensor 47, the rotational speeds of the variable speed rotation driving member 39 in the carry-in side transport section 30 and the variable speed rotation driving member 39 in the main transport section 31 are continuously set. Reduce. Then, when the substrate 1 is transported by the in-stage transport means 4 and its tip reaches the position of the stop sensor 48, the operations of both variable speed rotation drive members are stopped as shown in FIGS. Let Immediately before this stop, the substrate 1 is transported at a very low speed, so even if the substrate 1 is large, the inertial force does not cause a position shift, and the stop sensor 48 is arranged accurately. Stops at the set position. Moreover, since the right and left side portions are accurately positioned by the action of the guide roller 45 when guided into the in-stage transport means 4, the substrate 1 stops at a predetermined position.

そこで、図8に示したように、基板昇降手段を構成する昇降駆動手段23により回転軸10と共に、その先端に設けた基板支持部材11を矢印Lで示したように、位置決めピン15を基板4の各端面に対面させるようになし、かつ支持ピン14を基板1の裏面に当接させて、この基板1を所定の高さ位置まで上昇させることによって、主搬送部31におけるローラ38から離間させる。これと共に、コンベア昇降部材によって、搬入側搬送部30及び主搬送部31を、矢印Dで示したように、所定量下降させるようにする。ここで、搬入側搬送部30及び主搬送部31を下降させるのは、後にスピンカップ5が下降して、基板1を囲繞させる際に、カップ本体49がこれら搬入側搬送部30及び主搬送部31と干渉しないようにするためであり、基板支持部材11の上昇ストロークを大きくすれば、これらを静止させたままに保持するようにしても良い。また、基板支持部材11を上昇させず、搬入側搬送部30及び主搬送部31を下降させるようにすることもできる。このように、基板1が主搬送部31から離間され、かつ基板支持部材11に支持されると、この基板1は多数の支持ピン14により実質的に水平状態に保持され、かつ各辺についてそれぞれ2箇所設けた位置決めピン15により位置決めされて、安定的に保持されることになる。   Therefore, as shown in FIG. 8, the positioning pin 15 is mounted on the substrate 4 as indicated by the arrow L along with the rotary shaft 10 and the substrate support member 11 provided at the tip of the rotary shaft 10 by the lifting drive means 23 constituting the substrate lifting means. The support pins 14 are brought into contact with the back surface of the substrate 1 and the substrate 1 is raised to a predetermined height position so as to be separated from the roller 38 in the main transport unit 31. . At the same time, the conveyor lifting member 30 lowers the carry-in transport unit 30 and the main transport unit 31 by a predetermined amount as indicated by the arrow D. Here, the carry-in side conveyance unit 30 and the main conveyance unit 31 are lowered because the cup body 49 is moved to the carry-in side conveyance unit 30 and the main conveyance unit when the spin cup 5 is lowered later to surround the substrate 1. In order not to interfere with the motor 31, if the rising stroke of the substrate support member 11 is increased, these may be held stationary. Further, the carry-in side conveyance unit 30 and the main conveyance unit 31 can be lowered without raising the substrate support member 11. As described above, when the substrate 1 is separated from the main transport unit 31 and supported by the substrate support member 11, the substrate 1 is held in a substantially horizontal state by a large number of support pins 14, and each side is respectively It is positioned by the positioning pins 15 provided at two places and is stably held.

この状態で、図9に示したように、回動軸55を回動させて、液供給手段53を構成する噴射部53aを基板1における回転中心を含む位置にまで回動させる。また、スピンカップ5を構成するカップ昇降手段50を作動させて、カップ本体49を下降させて、基板支持部材11に支持されている基板1をこのカップ本体49により囲繞させる。   In this state, as shown in FIG. 9, the rotation shaft 55 is rotated to rotate the ejection portion 53 a constituting the liquid supply means 53 to a position including the rotation center in the substrate 1. Further, the cup lifting means 50 constituting the spin cup 5 is operated to lower the cup body 49 so that the substrate 1 supported by the substrate support member 11 is surrounded by the cup body 49.

そこで、モータ19を作動させて、回転軸10を矢印R方向に回転駆動することによって、基板支持部材11に支持させた基板1を回転駆動すると共に、液供給手段53の噴射部53aから処理液を基板1の表面に供給する。このようにして供給された処理液は遠心力の作用によって、基板1の全体にわたって均一に拡散するようになり、基板1の全体がむらなく高精度に液処理、例えば剥離液によるレジスト剥離等が行われることになる。そして、基板1の端部にまで進行した処理液はこの端部から飛散するが、この飛散液はスピンカップ5を構成するカップ本体49が受けて、下方に流下させられるようにして回収される。なお、カップ本体49に向けて飛散した処理液が跳ね返って基板1に再付着しないような形状とする必要がある。   Accordingly, the motor 19 is operated to rotationally drive the rotating shaft 10 in the direction of the arrow R, thereby rotating the substrate 1 supported by the substrate support member 11 and the processing liquid from the injection portion 53a of the liquid supply means 53. Is supplied to the surface of the substrate 1. The processing solution supplied in this manner is uniformly diffused over the entire substrate 1 by the action of centrifugal force, and the entire substrate 1 is uniformly processed with high accuracy without being subjected to liquid processing, for example, resist stripping with a stripping solution. Will be done. Then, the processing liquid that has traveled to the end of the substrate 1 scatters from this end, and this splatter is received by the cup body 49 constituting the spin cup 5 and collected so as to flow downward. . In addition, it is necessary to make the shape so that the processing liquid scattered toward the cup body 49 does not rebound and adhere to the substrate 1 again.

以上のようにして基板1に対する液処理が終了すると、スピンカップ5のカップ本体49を上昇させて、液供給手段53を基板1の上部から退避させる。この状態で、ステージ内搬送手段4を構成する主搬送部31(及び搬入側搬送部30)を上昇させて、回転軸10を下降させることによって、その先端に設けた基板支持部材11が主搬送部31の搬送面より低い位置まで下降させることにより、基板1は再び主搬送部31に移載されることになる。   When the liquid treatment on the substrate 1 is completed as described above, the cup body 49 of the spin cup 5 is raised, and the liquid supply means 53 is retracted from the upper portion of the substrate 1. In this state, by raising the main conveyance unit 31 (and the carry-in side conveyance unit 30) constituting the in-stage conveyance unit 4 and lowering the rotating shaft 10, the substrate support member 11 provided at the front end of the substrate support member 11 is main conveyance. The substrate 1 is transferred again to the main transport unit 31 by being lowered to a position lower than the transport surface of the unit 31.

本発明の一実施例を示すスピン処理装置の平面図である。It is a top view of the spin processing apparatus which shows one Example of this invention. 図1の正面図である。It is a front view of FIG. 基板の回転駆動機構及びそれを上下動させるための機構を含む構成説明図である。It is a structure explanatory drawing containing the rotation drive mechanism of a board | substrate, and the mechanism for moving it up and down. 図2の矢印方向から見た図である。It is the figure seen from the arrow direction of FIG. 基板を処理ステージに搬入している状態を示す図1と同様の平面図である。It is a top view similar to FIG. 1 which shows the state which is carrying in the board | substrate to the process stage. 基板の位置決めを行なった状態での図1と同様の平面図である。FIG. 2 is a plan view similar to FIG. 1 in a state where a substrate is positioned. 図6の状態における正面図である。It is a front view in the state of FIG. 基板をスピン回転可能な状態としたときの動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing when a board | substrate is made into the state which can be rotated. 基板に処理液を供給して、この基板を回転駆動する状態を示す図1と同様の平面図である。It is a top view similar to FIG. 1 which shows the state which supplies a process liquid to a board | substrate and rotationally drives this board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 処理ステージ
3 スピンドル
4 ステージ内搬送手段
5 スピンカップ
10 回転軸
11 基板支持部材
14 支持ピン
15 位置決めピン
23 昇降駆動手段
30 搬入側搬送路
31 主搬送路
34,38,41 ローラ
39 可変速回転駆動部材
45 ガイドローラ
47 減速センサ
48 停止センサ
49 カップ本体
50 カップ昇降手段
53 液供給手段
54 アーム
55 回動軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Processing stage 3 Spindle 4 In-stage conveyance means 5 Spin cup 10 Rotating shaft 11 Substrate support member 14 Support pin 15 Positioning pin 23 Lifting drive means 30 Carry-in side conveyance path 31 Main conveyance path 34, 38, 41 Roller 39 Variable speed Rotation drive member 45 Guide roller 47 Deceleration sensor 48 Stop sensor 49 Cup body 50 Cup elevating means 53 Liquid supply means 54 Arm 55 Rotating shaft

Claims (8)

搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板をスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うための基板スピン処理装置において、
前記スピンドルの先端に連結して設けられ、前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームとを有する基板支持部材と、
前記基板を前記スピン処理ステージ内で前記基板支持部材の配設位置に搬送するために、少なくとも前記基板の搬送方向における全長より基板停止位置と基板減速開始位置との間の搬送長さ分だけ長い搬送路を有するステージ内搬送手段と、
前記ステージ内搬送手段により搬送される前記基板が減速開始位置に到達したことを検出して、この基板の搬送速度を減速させる第1の検出手段と、
前記基板が停止位置に到達したことを検出して、前記ステージ内搬送手段を停止させる第2の検出手段と、
前記ステージ内搬送手段は回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアから構成し、
前記回転軸部材は、前記基板支持部材に対して、高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配設されており、
前記基板支持部材を昇降手段に装着して、この昇降手段により前記基板支持部材を昇降駆動して、前記基板支持部材を前記ローラコンベアによる基板の搬送面より下降した位置と、前記搬送面より上昇した位置とに昇降駆動するとともに、前記基板支持部材の下降時には、この基板支持部材を前記ローラコンベアによる搬送面と前記回転軸部材との間に挟まれた位置に配置する構成としたことを特徴とする基板スピン処理装置。
The substrate is transferred to a spin processing stage from a transfer path for transferring the substrate in a horizontal state, and a predetermined process for the substrate is performed by horizontally rotating the spindle disposed on the spin processing stage. In a substrate spin processing apparatus for performing
A substrate support member that is provided in connection with the tip of the spindle, and that has a plurality of support arms mounted with support pins that support the back surface of the substrate at a plurality of locations and positioning pins that position the peripheral surface of the substrate;
In order to transport the substrate within the spin processing stage to the position where the substrate support member is disposed, the substrate is at least longer than the total length in the substrate transport direction by the transport length between the substrate stop position and the substrate deceleration start position. In-stage transport means having a transport path;
First detection means for detecting that the substrate transported by the in-stage transport means has reached a deceleration start position and decelerating the transport speed of the substrate;
Second detection means for detecting that the substrate has reached a stop position and stopping the in-stage transport means;
The in-stage transport means comprises a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member ,
The rotating shaft member is disposed so as to partially intersect the substrate support member at different positions in the height direction,
The substrate support member is mounted on the lifting / lowering means, and the substrate support member is driven up and down by the lifting / lowering means, and the substrate support member is lowered from the transport surface of the substrate by the roller conveyor and lifted from the transport surface. The substrate support member is disposed at a position sandwiched between the transport surface by the roller conveyor and the rotary shaft member when the substrate support member is lowered. A substrate spin processing apparatus.
前記スピン処理ステージには、前記基板の回転中に、この基板表面に所定の液体を供給する液供給手段を設ける構成としたことを特徴とする請求項1記載の基板スピン処理装置。 2. The substrate spin processing apparatus according to claim 1, wherein the spin processing stage is provided with a liquid supply means for supplying a predetermined liquid to the surface of the substrate while the substrate is rotating. 前記基板に付着している液が前記スピンドルによる回転駆動時に飛散するのを規制するためのスピンカップと、このスピンカップにより前記基板が囲繞される作動位置と、前記ステージ内搬送手段により前記基板の搬送を可能にする開放位置となるように昇降させるカップ昇降手段とを備える構成としたことを特徴とする請求項1または請求項2記載の基板スピン処理装置。 A spin cup for restricting the liquid adhering to the substrate from splashing when being rotated by the spindle, an operating position in which the substrate is surrounded by the spin cup, and transporting means in the stage. 3. The substrate spin processing apparatus according to claim 1, further comprising a cup lifting / lowering means that moves up and down so as to be in an open position that enables conveyance. 前記ステージ内搬送手段の前記ローラコンベアを構成する前記回転軸部材は可変速モータで駆動する構成としたことを特徴とする請求項1記載の基板スピン処理装置。 2. The substrate spin processing apparatus according to claim 1, wherein the rotating shaft member constituting the roller conveyor of the in-stage transport means is driven by a variable speed motor. 前記ステージ内搬送手段には、前記基板の搬送方向上流側に位置させて、この基板の搬送方向の左右両側部に接離可能な位置決め部材を設ける構成としたことを特徴とする請求項1記載の基板スピン処理装置。 2. The in-stage transport means is provided with positioning members that are positioned upstream of the substrate in the transport direction and can be contacted and separated on both right and left sides in the transport direction of the substrate. Substrate spin processing equipment. 前記液供給手段は、前記基板の上部位置と、この基板の上部位置から離間した位置との間で往復移動可能な構成としたことを特徴とする請求項2記載の基板スピン処理装置。 3. The substrate spin processing apparatus according to claim 2, wherein the liquid supply means is configured to reciprocate between an upper position of the substrate and a position separated from the upper position of the substrate. 搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板を回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアからなるステージ内搬送手段を有するスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うスピン処理方法であって、
前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームをスピンドルに連結して設けた基板支持部材を、前記ステージ内搬送手段における前記ローラコンベアの搬送面より下方で、前記回転軸部材より上方位置であり、かつこの回転軸部材と高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配置して、
前記搬送コンベアにより所定の搬送速度で搬送される基板を前記スピン処理ステージの前記ステージ内搬送手段に移行させ、
前記基板がこのステージ内搬送手段に完全に移行した後に、この基板の搬送速度を減速するようになし、
前記基板が前記スピン処理ステージ内の所定の位置に到達したときに、この基板の搬送を停止させ、
前記基板支持部材を上昇させることにより、前記ステージ内搬送手段による搬送面から前記基板を離間させて、前記基板の周囲の端面を前記位置決めピンと当接させた状態で、前記スピンドルにより水平回転させる
ことを特徴とする基板スピン処理方法。
This substrate is made up of a conveyor, and the substrate is transferred from a conveyance path for conveying the substrate in a horizontal state to a spin processing stage having an in-stage conveyance means composed of a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member. A spin processing method for performing predetermined processing on the substrate by horizontally rotating with a spindle disposed on a processing stage,
A substrate support member provided by connecting a plurality of support arms to which a support pin for supporting the back surface of the substrate at a plurality of locations and a positioning pin for positioning an end surface around the substrate to a spindle is provided in the in- stage transfer means. Located below the conveying surface of the roller conveyor, above the rotating shaft member, and arranged so as to partially intersect this rotating shaft member at a different position in the height direction ,
Is shifted to the stage in the transport means of the spin-processing stage the substrate is conveyed at a predetermined conveying speed by the conveyor,
After the substrate is completely transferred to the in-stage transfer means, the transfer speed of the substrate is reduced.
When the substrate reaches a predetermined position in the spin processing stage, the conveyance of the substrate is stopped,
The substrate support member is lifted so that the substrate is separated from the transfer surface by the in-stage transfer means, and the spindle is rotated horizontally by the spindle while the end surface around the substrate is in contact with the positioning pin. A substrate spin processing method.
搬送コンベアからなり、基板を水平状態にして搬送する搬送経路から、この基板を回転軸部材に複数のローラを装着したローラコンベアからなるステージ内搬送手段を有するスピン処理ステージに移行させて、このスピン処理ステージに配設したスピンドルにより水平回転させることにより前記基板に対する所定の処理を行うスピン処理方法であって、
前記基板の裏面を複数箇所で支持する支持ピンと、基板の周囲の端面を位置決めする位置決めピンとを装着した複数の支持アームをスピンドルに連結して設けた基板支持部材を、前記ステージ内搬送手段における前記ローラコンベアの搬送面より下方で、前記回転軸部材より上方位置であり、かつこの回転軸部材と高さ方向に位置を違えて部分的に交差するように配置して、
前記搬送コンベアにより所定の搬送速度で搬送される基板を前記スピン処理ステージの前記ステージ内搬送手段に移行させ、
このステージ内搬送手段により前記基板が搬送される間に、この基板の左右両側部を位置決めガイドし、
前記基板がこのステージ内搬送手段に完全に移行した後に、この基板の搬送速度を減速するようになし、
前記基板が前記スピン処理ステージ内の所定の位置に到達したときに、この基板の搬送を停止させ、
前記基板支持部材を上昇させることにより、前記ステージ内搬送手段による搬送面から前記基板を離間させて、前記基板の周囲の端面を前記位置決めピンと当接させた状態で、前記スピンドルにより水平回転させ、
この回転中に前記基板に対して所定の処理液を供給する
ことを特徴とする基板スピン処理方法。
This substrate is made up of a conveyor, and the substrate is transferred from a conveyance path for conveying the substrate in a horizontal state to a spin processing stage having an in-stage conveyance means composed of a roller conveyor having a plurality of rollers mounted on a rotating shaft member. A spin processing method for performing predetermined processing on the substrate by horizontally rotating with a spindle disposed on a processing stage,
A substrate support member provided by connecting a plurality of support arms to which a support pin for supporting the back surface of the substrate at a plurality of locations and a positioning pin for positioning an end surface around the substrate to a spindle is provided in the in- stage transfer means. Located below the conveying surface of the roller conveyor, above the rotating shaft member, and arranged so as to partially intersect this rotating shaft member at a different position in the height direction ,
Is shifted to the stage in the transport means of the spin-processing stage the substrate is conveyed at a predetermined conveying speed by the conveyor,
While the substrate is being transported by the in-stage transport means, the left and right side portions of the substrate are positioned and guided,
After the substrate is completely transferred to the in-stage transfer means, the transfer speed of the substrate is reduced.
When the substrate reaches a predetermined position in the spin processing stage, the conveyance of the substrate is stopped,
By raising the substrate support member, the substrate is separated from the transfer surface by the in-stage transfer means, and the end surface around the substrate is in contact with the positioning pin, and is rotated horizontally by the spindle.
A substrate spin processing method, wherein a predetermined processing liquid is supplied to the substrate during the rotation.
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