KR20020091776A - Transfer apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A conveyor is provided to prevent slip between both sides of a substrate and a conveyor roller with a pressure roller, and to dry securely by restricting remaining processing fluid around the center of the substrate. CONSTITUTION: When conveying a substrate(G) by a conveyer, the substrate on a conveying roller(43) is conveyed while pressing both terminals with a pressure roller(36). Further, a supporting roller(37) having a diameter larger than the diameter of a placing part(43a) of the conveying roller is provided, and the substrate is conveyed while being projected upward so that the substrate is prevented from being warped.

Description

반송장치{TRANSFER APPARATUS}Carrier {TRANSFER APPARATUS}

본 발명은 액정 제조공정에서 액정모니터(Liquid Crystal Display : LCD)등에 사용되는 글래스(glass) 기판을 반송하는 반송장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conveying apparatus for conveying a glass substrate used in a liquid crystal display (LCD) or the like in a liquid crystal manufacturing process.

LCD의 제조공정에 있어서, LCD용의 글래스 기판 상에 ITO(Indium Tin Oxide)의 박막이나 전극패턴을 형성하기 위해서 반도체 디바이스의 제조에 사용되는 것과 동일한 포토리소 그래피 기술이 이용된다. 포토리소 그래피 기술로는 포토레지스트(photoresist)를 글래스 기판에 도포(塗布)하여 이것을 노광(露光)하고 또한 현상(現像)한다.In the LCD manufacturing process, the same photolithography technique used in the manufacture of semiconductor devices is used to form a thin film or an electrode pattern of indium tin oxide (ITO) on a glass substrate for an LCD. In photolithography, a photoresist is applied to a glass substrate, which is then exposed to light and developed.

이러한 레지스트 도포, 노광 및 현상의 일련의 처리는 종래부터 도포, 현상 또는 베이킹(baking) 등의 각 처리를 하는 도포현상(塗布現像) 처리시스템에 의해서 이루어지고 있고, 처리 유니트로 글래스 기판을 반송하는 수단으로서, 예를 들면 글래스 기판을 진공흡착에 의해 지지하는 반송 아암을 사용하거나 혹은 회전축을 구비하는 복수의 반송롤러 상에 글래스 기판의 양단을 재치(載置)시켜, 이 반송롤러의 회전에 의해 기판을 반송하는 롤러반송을 사용하기도 한다.Such a series of processes of resist coating, exposure and development are conventionally performed by a coating and developing processing system which performs each treatment such as coating, developing or baking, and conveys a glass substrate to a processing unit. As means, for example, by using a transfer arm that supports the glass substrate by vacuum adsorption, or by placing the both ends of the glass substrate on a plurality of transfer rollers having a rotating shaft, by rotating the transfer roller The roller conveyance which conveys a board | substrate is also used.

그러나, 최근의 글래스 기판의 대형화로 인해 직사각형의 글래스 기판의 양단(兩端) 두 변을 재치하는 것만으로는 기판이 중력에 의해 휘어져 버리는 문제가 있었다. 또한, 예를 들면 직사각형의 글래스 기판을 수평인 롤러로 지지하는 것만으로는 단면형상이 뒤집혀진 산(山) 모양으로 된 기판을 수평으로 교정할 수 없는 문제가 있었다. 이에 따라, 기판 양단이 반송롤러에 정상적으로 재치되지 않아 그 기판 양단과 반송롤러의 사이에서 미끄러짐이 발생하여, 반송시간의 지연이나 미끄러짐에 의한 파티클의 발생을 초래하고 있었다.However, in recent years, due to the enlargement of the glass substrate, there has been a problem that the substrate is bent by gravity simply by placing both sides of the rectangular glass substrate. In addition, there is a problem in that, for example, simply supporting a rectangular glass substrate with a horizontal roller does not allow horizontal correction of a substrate having an inverted cross-sectional shape. As a result, both ends of the substrate were not normally placed on the conveying roller, and slipping occurred between the both ends of the substrate and the conveying roller, causing a delay in conveying time and generation of particles due to the slipping.

또한, 예를 들면 기판을 반송시키면서 기판의 세정처리 등 액체처리를 하는 경우에 기판의 중력에 의해 중앙부근이 하방으로 휨으로써 세정액이나 린스(rinse)액 등이 기판 중앙부근에 괴어버려 후(後)공정의 건조처리 등에서 물기를 뺄 수 없는 문제가 있었다.For example, in the case of performing a liquid treatment such as cleaning of the substrate while conveying the substrate, the center of the substrate is bent downward due to the gravity of the substrate, so that the cleaning liquid or the rinse liquid, etc., gets stuck near the center of the substrate. There was a problem that the water can not be removed in the drying process of the step.

또한, 예를 들면 뒤집혀진 산 모양으로 휜 기판을 반송시키면서 세정처리를 하는 경우 세정액이나 린스액 등이 기판에 균일하게 공급될 수 없거나 후(後)공정의 건조처리 등에 있어서 기판과 에어 나이프(air knife)의 간격이 균일한 소정의 좁은 간격으로 설정할 수 없고 건조불량이 될 가능성이 있었다.In addition, for example, when the cleaning process is carried out while conveying the substrate in an inverted acid shape, the cleaning liquid or the rinse liquid cannot be uniformly supplied to the substrate, or the substrate and the air knife (air knives) in the drying process of the post-process. There was a possibility that the interval between the knifes could not be set at a predetermined narrow interval with uniformity, resulting in poor drying.

상기와 같은 사정을 감안하여, 본 발명의 목적은 기판을 미끄러뜨리지 않고 안정하게 반송할 수 있고, 또한 액체처리에 있어서 물기를 빼거나 건조처리 등을 확실하게 할 수 있는 반송장치를 제공하는 것에 있다.In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a conveying apparatus which can stably convey a substrate without slipping, and which can drain water or reliably dry in liquid treatment. .

도 1은 본 발명이 적용되는 도포현상(塗布現像) 처리시스템의 전체구성을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing the overall configuration of a coating and developing treatment system to which the present invention is applied.

도 2는 도 1에 나타낸 도포현상 처리시스템의 정면도이다.FIG. 2 is a front view of the coating and developing treatment system shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 나타낸 도포현상 처리시스템의 배면도이다.3 is a rear view of the coating and developing treatment system shown in FIG. 1.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 관한 반송장치의 평면도이다.4 is a plan view of a conveying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4에 나타낸 반송장치의 측면도이다.FIG. 5 is a side view of the conveying apparatus shown in FIG. 4. FIG.

도 6은 도 4에 나타낸 반송장치의 정면도이다.6 is a front view of the conveying apparatus shown in FIG. 4.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 관한 현상처리(現像處理) 유니트를 나타내는 측면도이다.7 is a side view showing a developing unit according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도7의 현상처리 유니트에 있어서 에어 나이프(air knife) 부분을 나타내는 정면도이다.FIG. 8 is a front view illustrating an air knife part in the developing unit of FIG. 7.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 관한 반송장치의 측면도이다.9 is a side view of a conveying apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 10은 기어(gear)기구의 일례를 나타내는 분해도이다.10 is an exploded view showing an example of a gear mechanism.

도 11은 에어 나이프에 있어서 에어 분출구의 변형예를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the modification of an air jet port in an air knife.

도 12는 또 다른 에어 분출구의 변형예를 나타내는 모식도이다.It is a schematic diagram which shows the modification of another air jet port.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

G : 기판 S : 반송부G: Substrate S: Carrier

18 : 현상처리 유니트 36 : 가압롤러18: developing unit 36: pressure roller

37 : 지지롤러 39 : 스프링37: support roller 39: spring

43 : 반송롤러 43a : 재치부(載置部)43: conveying roller 43a: placing part

44 : 모터 46 : 핀44: motor 46: pin

50, 51 : 반송장치 53 : 샤프트 (shaft)50, 51: conveying apparatus 53: shaft

59 : 승강(昇降) 모터 65 : 현상액(現像液) 노즐59: elevating motor 65: developer nozzle

66 : 린스(rinse) 노즐 67 : 에어 나이프(air knife)66: rinse nozzle 67: air knife

67a : 에어 분출구 69 : 기어기구67a: air outlet 69: gear mechanism

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제 1 관점은, 기판의 이면측(裏面側) 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 적어도 한 쌍의 반송롤러와, 상기 한 쌍의 반송롤러에 각각 근접하여 회전가능하게 배치되고 기판의 표면측(表面側) 양단을 가압하는 적어도 한 쌍의 가압롤러와, 상기 한 쌍의 반송롤러를 회전구동 시키는 구동부(驅動部)를 구비한다.In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention provides at least one pair of conveying rollers for conveying the substrate by rotation while supporting both ends of the back side of the substrate and the pair of conveying rollers. And at least one pair of press rollers rotatably disposed close to each other and pressurizing both ends of the surface side of the substrate, and a drive unit for rotating the pair of conveying rollers.

이러한 구성에 의하면, 반송롤러상의 기판 양단을 가압롤러에 의해 가압시키면서 기판을 반송하고 있기 때문에, 기판 양단과 반송롤러의 사이에서의 미끄러짐을 방지할 수 있어, 반송시간의 지연이나 파티클의 발생을 방지할 수 있다.According to such a structure, since the board | substrate is conveyed, pressing the board | substrate on a conveyance roller with a press roller, slipping between the both ends of a board | substrate and a conveyance roller can be prevented, and the delay of a conveyance time and the generation of a particle are prevented. can do.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 한 쌍의 가압롤러는 상기 기판의 표면측 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압하는 수단을 구비한다. 본 발명에서는 기판의 표면측 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압하는 수단으로서, 예를 들면 스프링을 설치함으로써 완충작용이 작용하여 기판의 양단이 빠지거나 하는 등의 악영향을 미치게 하는 염려는 없다.According to one aspect of the present invention, the pair of pressure rollers are provided with means for pressing the both ends of the surface side of the substrate with a substantially constant force at all times. In the present invention, as a means for always pressing both ends of the surface side of the substrate with a substantially constant force, for example, there is no fear of adversely affecting the both ends of the substrate due to a buffering action by providing a spring.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 한 쌍의 반송롤러의 회전축과 동축(同軸) 상에서 회전할 수 있도록 배치되고 상기 한 쌍의 반송롤러의 지름보다도 큰 지름을 구비하여, 기판의 중앙부근을 이면측에서 지지하는 적어도 하나의 지지롤러를 더욱 구비한다. 이에 따라, 기판을 산 모양 형태로 반송시키기 때문에, 기판의 휘어짐을 방지할 수 있다. 특히, 반송 도중에 있어서, 예를 들면 현상액이나 린스액 등의 처리액이 기판의 중앙부근에 잔류하는 문제를 해결할 수 있어 건조처리를 확실하게 할 수 있다. 또한, 예를 들면 기판을 산 모양 형태로 반송시키더라도 상기 가압롤러에 의해 기판 양단을 가압하고 있기 때문에, 미끄러짐을 방지할 수 있어 가압롤러와 지지롤러의 조합에 의한 효과는 한층 더 크게 된다.According to one aspect of the present invention, it is arranged to rotate on the same axis as the rotation axis of the pair of conveying rollers, and has a diameter larger than the diameter of the pair of conveying rollers. At least one support roller which is supported by the side is further provided. Thereby, since a board | substrate is conveyed in a mountain form, the curvature of a board | substrate can be prevented. In particular, in the middle of conveyance, the problem that processing liquids, such as a developing solution and a rinse liquid, remain in the vicinity of the center of a board | substrate can be solved, and a drying process can be ensured. In addition, even if the substrate is conveyed in the form of a mountain, for example, since both ends of the substrate are pressed by the pressing roller, slippage can be prevented, and the effect of the combination of the pressing roller and the supporting roller is further increased.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 반송장치에 있어서, 상기 지지롤러를 상기 반송롤러의 회전속도와 다른 회전속도로 회전구동 시키는 기어부를 더욱 구비한다. 이에 따라, 상기 지지롤러의 회전속도가 상기 반송롤러의 회전속도보다 작게 되도록 기어부를 조절함으로써, 지지롤러와 반송롤러로 기판을 반송하는 속도를 동일하게 할 수 있다. 또한, 지지롤러도 반송력을 구비하게 되어 힘의 전달점이 증가하게 된다. 이에 따라, 각 전달점에 이러한 부담이 분산되기 때문에, 기판에 롤러의 흔적이 남겨지고 마는 문제가 해소된다.According to one aspect of the present invention, the conveying apparatus further includes a gear portion for rotating the support roller at a rotational speed different from that of the conveying roller. Thereby, by adjusting a gear part so that the rotation speed of the said support roller may become smaller than the rotation speed of the said conveyance roller, the speed which conveys a board | substrate with a support roller and a conveyance roller can be made the same. In addition, the support roller is also provided with a conveying force to increase the transmission point of the force. As a result, since such a burden is distributed to each transfer point, the problem of leaving a trace of the roller on the substrate is eliminated.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 가압롤러를 상기 반송롤러로부터 이간(離間)시키는 수단을 더욱 구비한다. 본 발명에서는, 예를 들면 외부와 기판을 반송하는 때에 상기 가압롤러를 상기 반송롤러로부터 이간시킴으로써 그 기판의 반송을 신속하고 또한 확실하게 할 수 있다.According to one aspect of the present invention, there is further provided a means for separating the press roller from the conveying roller. In this invention, conveyance of the board | substrate can be made quickly and reliably, for example by separating the said press roller from the said conveyance roller at the time of conveying an exterior and a board | substrate.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 반송롤러에 의해 반송되는 기판의 상부에 각각 배치되는, 기판 상에 현상액을 공급하는 수단과, 상기 현상액이 공급된 기판 상에 린스액을 공급하는 수단과, 기판 상에 에어를 불어 건조시키는 수단을 더욱 구비한다. 이에 따라, 현상액 공급, 린스액 공급 및 건조처리의 각 처리를 기판을 반송하면서 효율적으로 할 수 있다.According to one aspect of the present invention, there is provided a means for supplying a developing solution onto a substrate, each of which is disposed above the substrate conveyed by the conveying roller, a means for supplying a rinse solution onto a substrate supplied with the developing solution, It further includes a means for blowing air on the substrate to dry. Thereby, each process of a developer supply, a rinse solution supply, and a drying process can be performed efficiently, conveying a board | substrate.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 건조수단은, 상기 에어를 분출하고, 상기 반송롤러와 상기 지지롤러에 의하여 지지되고 또한 상기 가압롤러에 의해 가압되는 상태에서 반송되는 기판의 형상에 대응하는 형상을 구비하는 분출구를 구비한다. 이에 따라, 산 모양 형태로 반송되는 기판이더라도 기판표면에 균일하게 에어가 공급되기 때문에 건조효율을 높일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the drying means has a shape corresponding to the shape of the substrate which is blown out by the air, supported by the conveying roller and the supporting roller, and conveyed by the pressing roller. It has a jet port provided with. As a result, even in the case of the substrate conveyed in the form of an acid, air is uniformly supplied to the surface of the substrate, so that drying efficiency can be improved.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 기판에 대한 상기 에어의 공급량은 기판의 중앙부에서 최대가 되고, 기판의 단부(端部)로 감에 따라 서서히 감소해 나간다. 본 발명에서는, 산 모양 형태의 정상(頂上)인 기판의 중앙부에 최대량의 에어를 공급함으로써, 기판의 중앙부에서 단부로 린스액이 흐르는 작용을 촉진시킬 수 있어 효율적인 건조가 실현된다. 또한, 이 형태에 있어서는, 상기 에어의 분출량이 상기 분출구의 중앙부에서 최대가 되고 이 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 감소해 나가도록 구성하는 것이 가능하다. 또한, 이 분출구로부터 에어가 분출되는 방향이 분출구의 중앙부에서는 기판에 대하여 거의 수직 방향이고 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 기판의 외측으로 향하도록 분출구를 구성하는 것도 가능하다According to one aspect of the present invention, the supply amount of the air to the substrate is maximized at the center of the substrate, and gradually decreases as it goes to the end of the substrate. In the present invention, by supplying the maximum amount of air to the center of the mountain-shaped substrate, the action of flowing the rinse liquid from the center to the end of the substrate can be promoted, and efficient drying is realized. Moreover, in this aspect, it is possible to comprise so that the blowing amount of the said air may become the largest at the center part of the said blowing port, and gradually decreases as it goes to the edge part of this blowing hole. It is also possible to configure the jet so that the direction in which air is blown from this jet is almost perpendicular to the substrate at the central portion of the jet and gradually toward the outside of the substrate as it goes to the end of the jet.

본 발명의 제2관점은, (a) 기판의 이면측 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 복수의 제 1 반송롤러와, 회전할 수 있도록 상기 제 1 반송롤러에 각각 근접하여 배치되어 기판의 표면측 양단을 가압하는 복수의 제 1 가압롤러를 구비하는 반송부와, (b) 상기 반송부에서 반송되어 오는 기판의 이면측 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 복수의 제 2 반송롤러와, 상기 제 2 반송롤러에 대하여 각각 착탈할 수 있고 또한 회전할 수 있도록 배치되어 기판의 표면측 양단을 가압하는 복수의 제 2 가압롤러와, 상기 제 2 반송롤러의 하방으로부터 출몰(出沒)가능하여 외부와의 사이에서 기판을 반송하는 복수의 핀을 구비하는 반송부와, (c) 상기 제 1 반송롤러 및 상기 제 2 반송롤러를 회전구동시키는 구동부를 구비한다.The second aspect of the present invention is (a) a plurality of first conveying rollers which support both ends of the back surface side of the substrate and conveying the substrate by rotation, and arranged close to each of the first conveying rollers so as to rotate. And a plurality of first conveying rollers each having a plurality of first pressing rollers for urging both ends of the surface side of the substrate, and (b) a plurality of the substrates being rotated while supporting both ends of the back side of the substrate conveyed from the conveying portion. Second conveying rollers, a plurality of second pressing rollers arranged to be detachably and rotatable with respect to the second conveying roller, and pressurizing both ends of the surface side of the substrate, and from below the second conveying roller. And a conveying section including a plurality of pins which can be projected and convey the substrate to the outside, and (c) a driving section for rotating the first conveying roller and the second conveying roller.

이러한 구성에 의하면, 외부와 기판을 반송하는 때에 핀의 상승동작에 맞춰 가압롤러를 상기 반송롤러로부터 이간시킴으로써, 그 기판의 반송을 신속하고 또한 확실하게 할 수 있다.According to such a structure, the conveyance of the board | substrate can be made quick and reliable by separating the press roller from the said conveying roller according to the raising operation | movement of a pin at the time of conveying an exterior and a board | substrate.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 제 1 가압롤러 및 상기 제 2 가압롤러는 상기 기판의 표면측 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압하는 수단을 각각 구비한다.According to one aspect of the present invention, the first pressing roller and the second pressing roller are each provided with means for pressing the both ends of the surface side of the substrate with a substantially constant force.

본 발명의 하나의 형태에 의하면, 상기 제 1 반송롤러 및 제 2 반송롤러의 회전축과 각각 동축 상에서 회전할 수 있도록 배치되고, 상기 제 1 반송롤러 및 제 2 반송롤러의 지름보다도 큰 지름을 구비하여 기판의 중앙부근을 이면측에서 지지하는 복수의 지지롤러를 더욱 구비한다.According to one aspect of the present invention, it is disposed so as to be able to rotate on the coaxial with the rotary shaft of the first conveying roller and the second conveying roller, respectively, and having a diameter larger than the diameter of the first conveying roller and the second conveying roller, A plurality of support rollers for supporting the central portion of the substrate on the rear surface side are further provided.

본 발명의 다른 특징과 이점은 첨부하는 도면 및 발명의 실시예의 설명을 참조함으로써 더 한층 명백해 진다.Other features and advantages of the present invention will become more apparent by reference to the accompanying drawings and the description of the embodiments of the invention.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명의 실시예를 도면에 의거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of this invention is described based on drawing.

도 1은 본 발명의 반송장치가 적용되는 LCD 기판의 도포현상 처리시스템을 나타내는 평면도이고, 도 2는 그 정면도, 또한 도 3은 그 배면도이다.1 is a plan view showing a coating and developing processing system for an LCD substrate to which the conveying apparatus of the present invention is applied, FIG. 2 is a front view thereof, and FIG. 3 is a rear view thereof.

이 도포현상 처리시스템(1)은 복수의 글래스 기판(G)이 수용되는 카세트(C)를 재치하는 카세트 스테이션(2)과, 기판(G)에 레지스트 도포 및 현상을 포함하는 일련의 처리를 실시하기 위한 복수의 처리유니트를 구비하는 처리부(3)와 노광장치 (32)의 사이에서 기판(G)을 반송하기 위한 인터페이스부(4)를 구비하고 있고, 처리부(3)의 양단에 각각 카세트 스테이션(2) 및 인터페이스부(4)가 배치되어 있다.This coating and developing treatment system 1 performs a series of processes including a cassette station 2 on which a cassette C containing a plurality of glass substrates G is placed, and a resist coating and developing on the substrate G. Interface unit 4 for conveying board | substrate G between the process part 3 and the exposure apparatus 32 which have a some process unit for this is provided, Comprising: Cassette stations at both ends of the process part 3, respectively. (2) and the interface part 4 are arrange | positioned.

카세트 스테이션(2)은 카세트(C)와 처리부(3)의 사이에서 LCD 기판의 반송을 하기 위한 반송기구(10)을 구비하고 있다. 그리고, 카세트 스테이션(2)에 있어서 카세트(C)의 반출입이 이루어진다. 또한, 반송기구(10)는 카세트의 배열방향을 따라 설치되는 반송로(12) 상을 이동할 수 있는 반송아암(11)을 구비하고, 이 반송아암(11)에 의해 카세트(C)와 처리부(3)의 사이에서 기판(G)의 반송이 이루어진다.The cassette station 2 is provided with a conveyance mechanism 10 for conveying the LCD substrate between the cassette C and the processing unit 3. Then, the cassette C is carried in and out of the cassette station 2. Moreover, the conveyance mechanism 10 is provided with the conveyance arm 11 which can move on the conveyance path 12 provided along the arrangement direction of a cassette, and this conveyance arm 11 has the cassette C and the processing part ( The conveyance of the board | substrate G is performed between 3).

처리부(3)에는 카세트 스테이션(2)에 있어서 카세트(C)의 배열방향(Y방향)에 수직방향(X방향)으로 연장되어 설치되는 주반송부(3a)와, 이 주반송부(3a)를 따라 레지스트 도포 처리유니트(CT)를 포함하는 각 처리유니트가 나란하게 설치되는 상류부(3b) 및 현상처리 유니트(DEV)(18)를 포함하는 각 처리유니트가 나란하게 설치되는 하류부(3c)가 설치되어 있다.In the processing section 3, the main transport section 3a which is installed in the cassette station 2 in a direction perpendicular to the arrangement direction (Y direction) of the cassette C (X direction), and the main transport section 3a. Upstream part 3b in which each processing unit including a resist coating process unit CT is installed side by side, and downstream part 3c in which each processing unit including a developing processing unit DEV 18 are installed side by side. Is installed.

주반송부(3a)에는 X방향으로 연장되어 설치되는 반송로(31)와, 이 반송로 (31)를 따라 이동할 수 있게 구성되어 글래스 기판(G)을 X방향으로 반송하는 반송셔틀(23)이 설치되어 있다. 이 반송셔틀(23)은, 예를 들면 지지핀에 의해 기판(G)을 지지하여 반송하게 되어 있다. 또한, 주반송부(3a)에 있어서, 인터페이스부(4)측 단부에는 처리부(3)와 인터페이스부(4)의 사이에서 기판(G)을 반송하는 수직 반송유니트(7)가 설치되어 있다.The main conveying part 3a is provided with the conveyance path 31 extended in the X direction, and the conveyance shuttle 23 which is comprised so that it can move along this conveyance path 31, and conveys the glass substrate G in the X direction. Is installed. This transfer shuttle 23 supports and conveys the board | substrate G with a support pin, for example. Moreover, in the main conveyance part 3a, the vertical conveyance unit 7 which conveys the board | substrate G between the process part 3 and the interface part 4 is provided in the edge part of the interface part 4 side.

상류부(3b)에 있어서 카세트 스테이션(2)측 단부에는 기판(G)에 세정처리를 실시하는 스크러버(scrubber) 세정 처리유니트(SCR)(20)가 설치되고, 이 스크러버세정 처리유니트(SCR)(20)의 상단에 기판(G) 상의 유기물을 제거하기 위한 엑시머 (excimer) UV 처리유니트(e-UV)(19)가 설치되어 있다. 스크러버세정 처리유니트 (SCR)(20)에는 본 발명에 관한 롤러반송형의 반송장치(50)가 설치되어 있고, 이에 관해서는 후술한다.In the upstream portion 3b, a scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 for cleaning the substrate G is provided at the end of the cassette station 2 side, and the scrubber cleaning processing unit (SCR) is provided. An excimer UV treatment unit (e-UV) 19 for removing organic matter on the substrate G is provided at the upper end of the 20. The scrubber cleaning processing unit (SCR) 20 is provided with a roller conveyance type conveying apparatus 50 according to the present invention, which will be described later.

스크러버세정 처리유니트(SCR)(20)의 옆에는 글래스 기판(G)에 대하여 열처리를 하는 유니트가 다단으로 쌓아 올려지는 열처리 장치블록(24 및 25)이 배치되어 있다. 이들 열처리 장치블록(24와 25)의 사이에는 수직 반송유니트(5)가 배치되어 반송아암(5a)이 Z방향 및 수평방향으로 이동할 수 있도록 설치되고, 또한 θ방향으로 회전할 수 있도록 설치되어 있기 때문에, 양 블록(24 및 25)에 있어서 각 열처리 장치유니트에 억세스(access)하여 기판(G)의 반송이 이루어지도록 되어 있다. 또한, 상기 처리부(3)에 있어서의 수직 반송유니트(7)도 이 수직 반송유니트 (5)와 동일한 구성을 구비하고 있다.Next to the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20, heat treatment device blocks 24 and 25 are arranged in which units to be heat-treated on the glass substrate G are stacked in multiple stages. A vertical conveying unit 5 is arranged between these heat treatment device blocks 24 and 25 so that the conveying arm 5a can be moved in the Z direction and the horizontal direction, and is provided so as to rotate in the θ direction. Therefore, in both blocks 24 and 25, each heat processing apparatus unit is accessed, and the board | substrate G is conveyed. Moreover, the vertical conveyance unit 7 in the said processing part 3 also has the structure similar to this vertical conveyance unit 5. As shown in FIG.

도 2에 나타나 있는 바와 같이, 열처리 장치블록(24)에는 기판(G)에 레지스트를 도포하기 전에 가열처리를 실시하는 2단의 베이킹 유니트(BEKE)와, HMDS 가스에 의해 소수화(疎水化) 처리를 실시하는 접착강화유니트(AD)가 밑에서부터 순차적으로 적층(積層)되어 있다. 한편, 열처리 장치블록(25)에는 기판(G)에 냉각처리를 실시하는 2단의 쿨링유니트(COL)와, 접착강화유니트(AD)가 밑에서부터 순차적으로 적층되어 있다.As shown in FIG. 2, the heat treatment apparatus block 24 is hydrophobized by a two-stage baking unit BEKE that is subjected to heat treatment before applying a resist to the substrate G, and HMDS gas. The adhesion reinforcing unit (AD) which carries out the lamination | stacking is laminated | stacked sequentially from the bottom. On the other hand, in the heat treatment apparatus block 25, two stages of the cooling unit COL which cools the board | substrate G, and the adhesion strengthening unit AD are laminated | stacked sequentially from the bottom.

열처리 장치블록(25)에 인접하여 레지스트 처리블록(15)이 X방향으로 연장되어 설치되어 있다. 이 레지스트 처리블록(15)은 기판(G)에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 처리유니트(CT)와, 감압(減壓)에 의해 그 도포된 레지스트를 건조시키는 감압건조유니트(VD)와, 기판(G)의 가장자리 부분의 레지스트를 제거하는 에지리무버(ER : edge remover)가 일체로 설치되어 구성되고 있다. 이 레지스트 처리블록(15)에는, 레지스트 도포 처리유니트(CT)로부터 에지리무버에 걸쳐서 이동하며 도면에 나타나 있지 않은 서브아암이 설치되어 있고, 이 서브아암에 의해 레지스트 처리블록(15)안으로 기판(G)이 반송되도록 되어 있다.The resist processing block 15 extends in the X direction adjacent to the heat treatment device block 25. The resist processing block 15 includes a resist coating process unit CT for applying a resist to the substrate G, a reduced pressure drying unit VD for drying the applied resist by decompression, and a substrate ( The edge remover (ER: edge remover) which removes the resist of the edge part of G) is comprised integrally. The resist processing block 15 is provided with a sub-arm, which moves from the resist coating process unit CT over the edge remover and is not shown in the figure, and the substrate G into the resist processing block 15 by this sub-arm. ) Is to be conveyed.

레지스트 처리블록(15)에 인접하여 다단구성의 열처리 장치블록(26)이 설치되어 있고, 이 열처리 장치블록(26)에는 기판(G)에 레지스트를 도포한 후, 가열처리를 하는 프리베이킹 유니트(PREBAKE)가 3단으로 적층되어 있다.Adjacent to the resist processing block 15, a multi-stage heat treatment device block 26 is provided. The heat treatment device block 26 is a prebaking unit for applying a resist to the substrate G and then performing a heat treatment. PREBAKE) is stacked in three stages.

하류부(3c)에서는 도 3에 나타나 있는 바와 같이, 인터페이스부(4)측 단부에 열처리 장치블록(29)이 설치되어 있고, 이것에는 쿨링유니트(COL), 노광 후 현상처리 전에 가열처리를 하는 2단의 포스트 익스포저 베이킹 유니트(PEBAKE)가 밑에서부터 순차적으로 적층되어 있다.In the downstream portion 3c, as shown in Fig. 3, a heat treatment device block 29 is provided at the end portion of the interface portion 4 side, which is a cooling unit (COL), which is subjected to heat treatment before developing after exposure. The stage post exposure baking unit (PEBAKE) is laminated | stacked sequentially from the bottom.

열처리 장치블록(29)에 인접하여 현상처리를 하는 현상처리 유니트(DEV)(18)가 X방향으로 연장되어 설치되어 있다. 이 현상처리 유니트(DEV)(18)의 옆에는 열처리 장치블록(28 및 27)이 배치되고, 이들 열처리 장치블록(28과 27)의 사이에는 상기 수직 반송유니트(5)와 동일한 구성을 구비하여 양 블록(28 및 27)에 있어서 각 열처리 장치유니트에 억세스할 수 있는 수직 반송유니트(6)이 설치되어 있다. 또한, 현상처리 유니트(DEV)(18) 단부의 위에는 i선 처리유니트(i-UV)(33)가 설치되어 있다. 현상처리 유니트(DEV)(18)에는 상기 롤러반송형의 반송장치(50)와 동일한 구성을 구비하는 반송장치(51)가 설치되어 있다.A developing processing unit (DEV) 18 which is developed adjacent to the heat treatment device block 29 and extends in the X direction is provided. Heat treatment device blocks 28 and 27 are disposed next to the development processing unit (DEV) 18, and between these heat treatment device blocks 28 and 27 are provided with the same configuration as the vertical transfer unit 5, In both blocks 28 and 27, vertical transfer units 6 which are accessible to the respective heat treatment apparatus units are provided. In addition, an i-line processing unit (i-UV) 33 is provided on the end of the developing unit (DEV) 18. The developing unit (DEV) 18 is provided with a conveying apparatus 51 having the same configuration as the conveying apparatus 50 of the roller conveying type.

열처리 장치블록(28)에는 쿨링유니트(COL)와 기판(G)에 현상 후의 가열처리를 하는 2단의 포스트 베이킹 유니트(POBAKE)가 밑에서부터 순차적으로 적층되어 있다. 한편, 열처리 장치블록(27)도 마찬가지로 쿨링유니트(COL)와 2단의 포스트 베이킹 유니트(POBAKE)가 밑에서부터 순차적으로 적층되어 있다.In the heat treatment apparatus block 28, a two-stage post-baking unit POBAKE for heating the cooling unit COL and the substrate G after development is laminated sequentially. On the other hand, the heat treatment apparatus block 27 is similarly laminated with the cooling unit COL and the two-stage post-baking unit POBAKE from the bottom.

인터페이스부(4)에는 정면측에 타이틀러 및 주변노광유니트 (Titler/EE)(22)가 설치되고, 수직 반송유니트(7)에 인접하여 익스텐션 쿨링유니트(EXTCOL)(35)가 배치되어 있고, 또한 배면측에는 버퍼카세트(34)가 배치되어 있고, 이들 타이틀러 및 주변노광유니트(22)와 익스텐션 쿨링유니트(EXTCOL)(35), 버퍼카세트(34)와 인접하는 노광장치(32)의 사이에서 기판(G)을 반송하는 수직 반송유니트(8)가 배치되어 있다. 이 수직 반송유니트(8)도 상기 수직 반송유니트(5)와 동일한 구성을 구비하고 있다.The interface unit 4 is provided with a titler and an ambient exposure unit (Titler / EE) 22 on the front side, and an extension cooling unit (EXTCOL) 35 is disposed adjacent to the vertical transfer unit 7. Further, a buffer cassette 34 is disposed on the rear side, between the titler and the peripheral exposure unit 22, the extension cooling unit (EXTCOL) 35, and the buffer cassette 34 and the exposure apparatus 32 adjacent to each other. The vertical conveyance unit 8 which conveys the board | substrate G is arrange | positioned. This vertical conveyance unit 8 also has the same structure as the said vertical conveyance unit 5.

도 4 및 도 5는 일 실시예에 관한 반송장치(50, 51)의 평면도 및 측면도를 각각 나타낸다. 또한, 이 스크러버세정 처리유니트(SCR)(20)에 있어서의 반송장치 (50)와 현상처리 유니트(DEV)에 있어서의 반송장치(51)는 그 길이방향의 길이가 다르고 다른 구성은 동일하다.4 and 5 show a plan view and a side view, respectively, of the conveyers 50 and 51 according to one embodiment. In addition, the conveyance apparatus 50 in this scrubber cleaning process unit (SCR) 20 and the conveyance apparatus 51 in the image development processing unit DEV differ in the length of the longitudinal direction, and the other structure is the same.

이 반송장치(50, 51)의 설치대(60)의 측부에는 모터(44)가 부착되고, 이 모터(44)에 의해 축 부재(軸部材)(54)가 회전할 수 있도록 글래스 기판(G)의 반송방향(X방향)을 따라 설치되어 있다. 설치대(60)의 상부 좌우에는 지지부(41)가 반송방향으로 연장되어 설치되어 있다. 이들 지지부(41) 사이에는 베어링(45)에 의해 축지지(軸支)되는 복수의 샤프트(53)가 걸쳐지고 있고, 이들 샤프트(53)에는 글래스 기판(G)의 양단을 지지함과 동시에 회전함으로써 그 글래스 기판(G)를 반송하는 한 쌍의 반송롤러(43)가 부착되고, 단부에는 각각 나사톱니바퀴(49)가 설치되어 있다. 상기 축 부재(54)에는 이들 나사톱니바퀴(49)에 각각 대응하여 맞물리는 나사톱니바퀴(52)가 부착되어 있고, 이에 의해 반송롤러(43)가 모터(44)의 구동에 의해 회전하여 기판(G)이 반송되도록 한다.The motor 44 is attached to the side part of the mounting table 60 of this conveying apparatus 50, 51, and the glass substrate G so that the shaft member 54 can rotate by this motor 44 is rotated. Is provided along the conveyance direction (X direction). The support part 41 is extended in the conveyance direction and provided in the upper left and right sides of the mounting stand 60. As shown in FIG. A plurality of shafts 53 axially supported by the bearings 45 are interposed between the supporting portions 41, and both shafts 53 support both ends of the glass substrate G and rotate at the same time. Thereby, a pair of conveyance rollers 43 which convey the glass substrate G are attached, and the screw gear 49 is provided in the edge part, respectively. The shaft member 54 is provided with screw gears 52 engaged with the screw gears 49, respectively, whereby the conveying roller 43 is rotated by the driving of the motor 44 to form a substrate. Let (G) be returned.

한 쌍의 반송롤러(43)에는 각각 재치부(43a)가 설치되어 있고, 이 재치부 (43a) 상에 글래스 기판(G)이 재치된다. 또한, 재치부(43a)에는 그 기판(G)의 재치면(載置面)을 따라 도면에 나타나 있지 않은 O링이 장착되어, 기판(G)의 반송 시에 충격이 흡수된다.A pair of conveyance rollers 43 are provided with a mounting part 43a, and the glass substrate G is mounted on this mounting part 43a. Moreover, the O-ring not shown in the figure is attached to the mounting part 43a along the mounting surface of the board | substrate G, and the shock is absorbed at the time of conveyance of the board | substrate G. As shown in FIG.

장치의 양 단부에는 외부와의 사이에서 기판(G)을 반송하는 반송부(R)가 설치되어 있다. 이 반송부(R)에서는 기판(G)을 반송하기 위한 복수의 반송핀(46)이배치되고, 도 5에 나타나 있는 바와 같이, 이들 복수의 반송핀(46)은 구동부(58)의 승강구동에 의해 연결부재(47)를 통하여 일체로 설치대(60)의 상부에 형성되는 개구부(60a)로부터 승강된다.Both ends of the apparatus are provided with conveyance sections R for conveying the substrate G from the outside. In this conveyance part R, the several conveyance pin 46 for conveying the board | substrate G is arrange | positioned, As shown in FIG. 5, these several conveyance pin 46 is a lifting-up drive of the drive part 58. As shown in FIG. By the connecting member 47 is raised and lowered from the opening (60a) formed integrally on the mounting table (60).

스크러버세정 처리유니트(SCR)(20)에 있어서는 이 반송핀(46)에 의해 반송기구(10) 및 열처리 장치블록(24) 최하단의 사이에서 기판의 반송이 가능하게 되고, 또한 현상처리 유니트(DEV)(18)에 있어서는 열처리 장치블록(29)의 최하단과 열처리 장치블록(28) 최하단의 사이에서 기판의 반송이 가능하게 된다. 또한, 이 반송부(R) 이외의 부분은 이하 반송부(S)로 한다.In the scrubber cleaning processing unit (SCR) 20, the transfer pin 46 allows the substrate to be transported between the transfer mechanism 10 and the lowermost end of the heat treatment apparatus block 24, and furthermore, the development processing unit (DEV). In () 18, the substrate can be transported between the lowermost end of the heat treatment apparatus block 29 and the lower end of the heat treatment apparatus block 28. In addition, parts other than this conveyance part R are called conveyance part S hereafter.

도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다. 복수의 반송롤러(43)의 상부에는 각각 반송롤러(43)와의 사이에 기판(G)을 끼우도록 가압롤러(36)가 회전할 수 있도록 설치되어 있다. 즉, 이들 가압롤러(36)는 기판(G)의 표면측 양단을 가압하도록 되어 있다. 이들 가압롤러(36)는 반송부(R)에서는 각각 스프링(39) 및 부착부재(62)를 통하여 수평지지체(61)에 접속되어 있고, 반송부(S)에서는 수평지지체(56)에 접속되어 있다. 반송부(R)에 있어서 수평지지체(61)는, 예를 들면 승강(昇降) 모터 (59)의 구동에 의해 승강하도록 되어있어, 이에 따라 가압롤러(36)가 반송롤러(43)의 재치부(43a)에서 이간할 수 있게 되어있다.This will be described with reference to FIGS. 5 and 6. The press roller 36 is rotatably provided in the upper part of the some conveyance roller 43 so that the board | substrate G may be interposed between the conveyance roller 43, respectively. That is, these pressure rollers 36 are configured to press the both ends of the surface side of the substrate G. These press rollers 36 are connected to the horizontal support 61 through the spring 39 and the attachment member 62 in the transport section R, respectively, and to the horizontal support 56 in the transport section S. have. In the conveyance part R, the horizontal support body 61 is moved up and down by the drive of the lifting motor 59, for example, and the press roller 36 arranges the mounting part of the conveyance roller 43 by this. It is to be separated at (43a).

상기 스프링(39)의 가압력은 기판(G)이 반송롤러(43)에 대하여 미끄러지지 않는 값으로 설정되어 있다. 이러한 스프링(39)을 설치함으로써 기판(G)의 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압할 수 있기 때문에, 기판(G)의 양단이 빠지거나 하는 등의 악영향을 끼치는 일은 없다.The pressing force of the spring 39 is set to a value at which the substrate G does not slip against the conveying roller 43. By providing such a spring 39, the both ends of the substrate G can always be pressurized with a substantially constant force, so that the both ends of the substrate G are not exerted, or the like.

또한, 수평지지체(56, 61)는, 예를 들면 막대부재(55)에 의해 연결되고, 반송부(R)에서는 양쪽의 수평지지체(61)가 일체로 승강된다. 반송부(S)에서는 수평지지체(56)는 도 5에 나타나 있는 바와 같이, 수직지지체(57)에 의해, 예를 들면 지지부(41)에 지지·고정되어 있다.In addition, the horizontal support bodies 56 and 61 are connected, for example by the rod member 55, and the horizontal support bodies 61 of both sides are integrated by the conveyance part R together. In the conveyance part S, as shown in FIG. 5, the horizontal support body 56 is supported and fixed to the support part 41 by the vertical support body 57, for example.

이와 같이, 가압롤러(36)가 재치부(43a)에서 이간할 수 있도록 함으로써, 반송부(R)에 있어서 외부에서의 기판(G)이 반송되는 때에 반송핀(46)의 상승동작에 맞춰 가압롤러(36)도 재치부(43a)에서 이간하여 기판(G)의 반송이 이루어진다.In this manner, the pressing roller 36 can be separated from the mounting portion 43a so that the pressing roller 36 is pressurized in accordance with the raising operation of the conveying pin 46 when the substrate G is conveyed from the outside in the conveying portion R. The roller 36 is also separated from the mounting part 43a, and the board | substrate G is conveyed.

또한, 도 6에 나타나 있는 바와 같이, 반송부(S) 및 반송부(R)에 공통으로 샤프트(53)에는 한 쌍의 반송롤러(43)의 지름보다도 큰 지름을 구비하고, 반송롤러 (43)와 동시에 회전하는 지지롤러(37)가, 예를 들면 2개 설치되어 있다. 이 지지롤러(37)에 의해 기판(G)의 중앙부근이 지지되고 기판(G)은 산 모양 형태로 반송되도록 된다.In addition, as shown in FIG. 6, the shaft 53 is provided with a diameter larger than the diameter of the pair of conveying rollers 43 in common with the conveying unit S and the conveying unit R, and the conveying roller 43. ) And two supporting rollers 37 which rotate at the same time are provided. By this support roller 37, the vicinity of the center of the board | substrate G is supported, and the board | substrate G is conveyed in mountain form.

도 7은 이 반송장치(51)를 사용하는 현상처리 유니트(DEV)의 측면도이다. 이 현상처리 유니트(DEV)에서는 반송장치(51)에 있어서의 반송부(S)가 사용되고 있고, 반송롤러(43)에 의해 반송되는 글래스 기판(G) 상에 상류측(도면 중 좌측)으로부터 순차적으로 각각 현상액 노즐(65), 린스 노즐(66) 및 에어 나이프(67)가 각각 부착부재(63)에 의해 부착되어 있다. 현상액 노즐(65)은 기판(G) 표면에 현상액을 공급하여 현상처리를 하기 위한 노즐이다. 린스 노즐(66)은 린스액을 기판(G)에 공급하여 기판(G) 상의 현상액을 씻어내기 위한 노즐이다. 에어 나이프(67)는 기판(G)에 대하여 고압의 에어를 내뿜게 함으로써 기판(G)을 바로 건조시키도록 구성되어 있다.7 is a side view of a developing unit DEV using this conveying device 51. In this development processing unit DEV, the conveyance part S in the conveyance apparatus 51 is used, and is sequentially from the upstream side (left side in the figure) on the glass substrate G conveyed by the conveyance roller 43. Thus, the developer nozzle 65, the rinse nozzle 66, and the air knife 67 are attached by the attachment member 63, respectively. The developing solution nozzle 65 is a nozzle for supplying a developing solution to the surface of the substrate G for developing. The rinse nozzle 66 is a nozzle for supplying a rinse liquid to the substrate G to wash off the developer on the substrate G. The air knife 67 is comprised so that the board | substrate G may be dried immediately by letting out high pressure air with respect to the board | substrate G. As shown in FIG.

도 8은 에어 나이프(67)를 나타내는 정면도로서, 이 에어 나이프(67)에는 반송되는 기판(G)의 산 모양 형태에 대응하는 에어 분출구(67a)가 설치되어 있다. 이 에어는 에어 공급원(68)으로부터 부착부재를 통하여 공급된다. 이러한 구성에 의해, 산 모양 형태로 반송되는 기판(G)이더라도 기판표면에 균일하게 에어가 공급되기 때문에 건조효율을 높일 수 있다.FIG. 8: is a front view which shows the air knife 67, and the air knife 67 is provided with the air blower outlet 67a corresponding to the mountain shape of the board | substrate G to be conveyed. This air is supplied from the air source 68 through the attachment member. With such a configuration, even in the case of the substrate G conveyed in the form of a mountain, air is uniformly supplied to the surface of the substrate, so that drying efficiency can be increased.

이상과 같이 구성되는 도포현상 처리시스템(1)의 처리공정에 관해서는, 우선 카세트(C) 내의 기판(G)이 처리부(3)에 있어서 상류부(3b)로 반송된다. 상류부 (3b)에서는 엑시머 UV처리 유니트(e-UV)(19)에 있어서 표면개질·유기물 제거처리가 이루어지고, 다음에 스크러버세정 처리유니트(SCR) (20)에 있어서 반송장치(50)에 의해 기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 세정처리 및 건조처리가 이루어진다. 계속해서, 수직 반송유니트에 있어서 반송아암(5a)에 의해 열처리 장치블록(24)의 최하단부로 기판(G)이 꺼내어지고, 동 열처리 장치블록(24)의 베이킹 유니트(BEKE)에 의하여 가열처리가 이루어지고, 접착강화유니트(AD)에 의하여 소수화 처리가 이루어지고, 열처리 장치블록(25)의 쿨링유니트(COL)에 의한 냉각처리가 이루어진다.Regarding the processing step of the coating and developing processing system 1 configured as described above, first, the substrate G in the cassette C is conveyed to the upstream portion 3b in the processing portion 3. In the upstream portion 3b, surface modification and organic matter removal treatment are performed in the excimer UV treatment unit (e-UV) 19, and then to the conveying apparatus 50 in the scrubber cleaning treatment unit (SCR) 20. As a result, the substrate G is conveyed substantially horizontally, and the cleaning treatment and the drying treatment are performed. Subsequently, in the vertical transfer unit, the substrate G is taken out to the lowest end of the heat treatment apparatus block 24 by the transfer arm 5a, and the heat treatment is performed by the baking unit BEKE of the heat treatment apparatus block 24. The hydrophobization treatment is performed by the adhesion reinforcing unit (AD), and the cooling treatment by the cooling unit (COL) of the heat treatment device block 25 is performed.

다음에, 기판(G)은 반송아암(5a)에서 반송셔틀(23)로 반송된다. 그리고, 레지스트 도포 처리유니트(CT)에 반송되어 레지스트의 도포처리가 이루어진 뒤, 감압건조 처리유니트(VD)에 의하여 감압건조처리가 이루어지고, 에지리무버(ER)에 의하여 기판 가장자리의 레지스트 제거처리가 순차적으로 이루어진다.Next, the board | substrate G is conveyed to the conveyance shuttle 23 from the conveyance arm 5a. Then, the substrate is conveyed to the resist coating unit CT, and the resist coating process is performed. Then, the pressure reducing drying unit VD performs the pressure reduction drying process, and the edge remover ER removes the resist at the edge of the substrate. It is done sequentially.

다음에, 기판(G)은 반송셔틀(23)로부터 수직 반송유니트(7)의 반송아암으로반송되고, 열처리 장치블록(26)에 있어서 프리베이킹 유니트(PREBAKE)에 의하여 가열처리가 이루어진 뒤, 열처리 장치블록(29)에 있어서의 쿨링유니트(COL)에서 냉각처리가 이루어진다. 계속해서, 기판(G)은 익스텐션 쿨링유니트(EXTCOL)(35)에 의하여 냉각처리됨과 동시에 노광장치에서 노광처리된다.Subsequently, the substrate G is conveyed from the transfer shuttle 23 to the transfer arm of the vertical transfer unit 7, and heat-treated by the prebaking unit PREBAKE in the heat treatment apparatus block 26. Cooling is performed in the cooling unit COL in the device block 29. Subsequently, the substrate G is cooled by the extension cooling unit EXTCOL 35 and exposed at the same time by the exposure apparatus.

다음에, 기판(G)은 수직 반송유니트(8 및 7)의 반송아암을 통하여 열처리 장치블록(29)의 포스트 익스포저 베이킹 유니트(PEBAKE)에 반송되어, 여기서 가열처리가 이루어진 뒤, 쿨링유니트(COL)에서 냉각처리가 이루어진다. 그리고, 기판(G)은 수직 반송유니트(7)의 반송아암에 의해 열처리 장치블록(29)의 최하단에 있어서 반송장치(51)의 반송핀(46)으로 반송된다.Subsequently, the substrate G is conveyed to the post exposure baking unit PEBAKE of the heat treatment apparatus block 29 through the conveying arms of the vertical conveying units 8 and 7, where the heat treatment is performed thereafter, followed by the cooling unit COL. Cooling) takes place. And the board | substrate G is conveyed to the conveyance pin 46 of the conveyance apparatus 51 by the conveyance arm of the vertical conveyance unit 7 at the lowest end of the heat processing apparatus block 29. As shown in FIG.

그리고, 기판(G)은 현상처리 유니트(DEV)에 있어서 반송장치(51)에 의해 기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서, 우선 기판(G)에 현상액 노즐(65)에 의한 현상액 공급이 이루어지고, 계속해서 린스 노즐(66)에 의한 린스처리가 이루어지고, 최후에 에어 나이프(67)에 의한 건조처리가 이루어진다.Subsequently, while the substrate G is conveyed substantially horizontally by the conveying apparatus 51 in the developing unit DEV, the developer is supplied to the substrate G by the developer nozzle 65. Then, the rinse treatment by the rinse nozzle 66 is performed, and the drying process by the air knife 67 is performed last.

다음에, 기판(G)은 열처리 장치블록(28)에 있어서 최하단으로부터 수직 반송유니트(6)의 반송아암(6a)에 의해 반송되고, 열처리 장치블록(28 또는 27)에 있어서 포스트 베이킹 유니트(POBAKE)에 의하여 가열처리가 이루어지고, 쿨링유니트 (COL)에서 냉각처리가 이루어진다. 그리고, 기판(G)은 반송기구(10)에 반송되고 카세트(C)에 수용된다.Subsequently, the substrate G is conveyed by the conveying arm 6a of the vertical conveying unit 6 from the lowermost end in the heat treatment apparatus block 28, and the post-baking unit POBAKE in the heat treatment apparatus block 28 or 27. The heat treatment is carried out by), and the cooling process is performed in the cooling unit (COL). And the board | substrate G is conveyed to the conveyance mechanism 10, and is accommodated in the cassette C. As shown in FIG.

이상과 같이, 본 실시예에 의하면 반송장치(51)로 기판(G)을 반송시킬 때, 반송롤러(43) 상의 기판(G) 양단을 가압롤러(36)에 의해 가압시키면서 반송하고 있기 때문에, 기판(G) 양단과 반송롤러(43)의 사이의 미끄러짐을 방지할 수 있어 반송시간의 지연이나 파티클의 발생을 방지할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, when the substrate G is conveyed by the conveying apparatus 51, the substrate G on the conveying roller 43 is conveyed while being pressed by the pressure roller 36. Slip between the both ends of the board | substrate G and the conveyance roller 43 can be prevented, and the delay of a conveyance time and the generation | occurrence | production of a particle can be prevented.

또한, 반송롤러(43)의 재치부(43a)의 지름보다도 큰 지름을 구비하는 지지롤러(37)를 설치하고 기판(G)을 산 모양 형태로 반송시킴으로써 기판(G)의 휘어짐을 방지할 수 있다. 특히, 반송 도중에 있어서 현상액이나 린스액 등의 처리액이 기판(G)의 중앙부근에 잔류하는 문제를 해소할 수 있고 건조처리를 확실하게 할 수 있다.In addition, the bending of the substrate G can be prevented by providing a supporting roller 37 having a diameter larger than the diameter of the mounting portion 43a of the conveying roller 43 and conveying the substrate G in the form of a mountain. have. In particular, the problem that processing liquids, such as a developing solution and a rinse liquid, remain in the vicinity of the center part of the board | substrate G during conveyance can be solved, and a drying process can be ensured.

또한, 산 모양 형태로 기판(G)을 반송시키더라도 상기 가압롤러(36)에 의해 기판(G) 양단을 가압하고 있기 때문에, 미끄러짐을 방지할 수 있고 이 가압롤러 (36)와 지지롤러(37)의 조합에 의한 효과는 한층 더 크다.In addition, even if the substrate G is conveyed in the form of a mountain, since both ends of the substrate G are pressed by the pressure roller 36, slippage can be prevented and the pressure roller 36 and the support roller 37 are prevented. ), The effect is even greater.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 관한 반송장치의 측면도이다. 또한, 도 9에 있어서, 도 6에 있어서의 구성요소와 동일한 것에 관해서는 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.9 is a side view of a conveying apparatus according to another embodiment of the present invention. In addition, in FIG. 9, the same code | symbol is attached | subjected about the same thing as the component in FIG. 6, and the description is abbreviate | omitted.

본 실시예에서는 지지롤러(37)에 기어기구(69)가 설치되어 있다. 도 10은 이 기어기구(69)의 일례를 나타내는 것이고, 이 기어기구(69)는 태양기어(71), 유성기어(72), 캐리어(73) 및 안쪽 기어(74)로 구성되어 있다.In this embodiment, the gear mechanism 69 is provided in the support roller 37. FIG. 10 shows an example of the gear mechanism 69. The gear mechanism 69 is composed of a sun gear 71, a planetary gear 72, a carrier 73, and an inner gear 74. As shown in FIG.

태양기어(71)는 이 기어기구(69)의 중심에 위치하는 기어로서, 샤프트(53)에 고정되어 있고 또한 유성기어(72)와 맞물려 있다. 유성기어(72)는 태양기어(71)를 둘러싸도록 복수 개, 예를 들면 본 실시예와 같이 세 개 설치되고 태양기어(71)와 맞물림과 동시에 안쪽 기어(74)와 맞물려 있다. 또한, 이 유성기어(72)의 각각의회전축(75)은 캐리어(73)의 회전축을 중심으로 하는 정원상(正圓上)에 위치하도록 캐리어(73)에 고정되어 있다. 캐리어(73)는 유성기어(72)의 각각의 회전축과 직접 연결되어 있는 다른 지지롤러(37)와도 직접 연결되어 있다. 안쪽 기어(74)는 고정된 원통 모양의 기어로서, 원통의 내측에 톱니가 형성되어 있고 유성기어(72)와 맞물려 있다. 이 안쪽기어(74)는, 예를 들면 적당한 지지부재를 사용하여 설치대 (60) 등에 고정하면 좋다. 이들 태양기어(71), 캐리어(73) 및 안쪽기어(74)의 회전축은 전부 일치하도록 설치되어 있다.The sun gear 71 is a gear located at the center of the gear mechanism 69 and is fixed to the shaft 53 and meshes with the planetary gear 72. A plurality of planetary gears 72 are provided to surround the sun gear 71, for example, three, as in the present embodiment, and mesh with the inner gear 74 at the same time as the sun gear 71. In addition, each of the rotary shafts 75 of the planetary gear 72 is fixed to the carrier 73 so as to be located in a garden shape centered on the rotary shaft of the carrier 73. The carrier 73 is also directly connected to other support rollers 37 directly connected to the respective rotation shafts of the planetary gear 72. The inner gear 74 is a fixed cylindrical gear, and teeth are formed inside the cylinder and mesh with the planetary gear 72. The inner gear 74 may be fixed to the mounting table 60 or the like using, for example, a suitable support member. The rotation axis of these sun gear 71, the carrier 73, and the inner gear 74 is provided so that all may correspond.

또한, 각각의 지지롤러(37)는 지지롤러축(70)에 의해서 연결되어 같이 회전하게 되어 있다.In addition, each of the supporting rollers 37 is connected by the supporting roller shaft 70 to rotate together.

이러한 기어기구(69)의 구성에 의해, 우선 모터의 회전은 샤프트(53)에 전달되어 태양기어(71)를 회전시킨다. 이에 따라, 태양기어(71)와 맞물려 있는 유성기어(72)에 회전을 전달할 수 있다.By the configuration of the gear mechanism 69, rotation of the motor is first transmitted to the shaft 53 to rotate the sun gear 71. FIG. Accordingly, the rotation can be transmitted to the planetary gear 72 meshed with the sun gear 71.

유성기어(72)는 이 회전을 받아 고정된 안쪽기어(74)의 톱니를 지점(支点)으로 하여 태양기어(71)의 주위를 공전(公轉)한다. 유성기어(72)의 이 공전에 의해서 각각의 유성기어(72)의 회전축(75)에 고정되어 있는 캐리어(73)에 회전을 전달할 수 있다. 그리고, 캐리어(73)의 회전이 출력으로서 지지롤러(37)에 전달되게 된다.The planetary gear 72 receives this rotation and revolves around the sun gear 71 using the teeth of the fixed inner gear 74 as a point. This revolution of the planetary gear 72 allows transmission of rotation to the carrier 73 fixed to the rotational shaft 75 of each planetary gear 72. Then, the rotation of the carrier 73 is transmitted to the support roller 37 as an output.

본 실시예에서는 각각의 기어의 톱니수를 증감시킴으로써, 샤프트(53)의 회전축 상에 샤프트(53)의 회전수와 다른 회전수를 구비하는 회전축을 구성할 수 있다. 이에 따라, 기판(G)의 반송속도가 지지롤러(37)와 반송롤러(43)에 있어서 같게 되도록 지지롤러(37)의 회전수를 조절할 수 있다. 또한, 지지롤러도 반송력을 구비하게 되어 힘의 전달점이 증가하게 된다. 그렇다면, 각 전달점에 이러한 부담이 분산되게 되기 때문에, 기판에 롤러의 흔적이 남겨지고 마는 문제가 해소된다.In this embodiment, by increasing or decreasing the number of teeth of each gear, the rotating shaft which has a rotation speed different from the rotation speed of the shaft 53 on the rotating shaft of the shaft 53 can be comprised. Thereby, the rotation speed of the support roller 37 can be adjusted so that the conveyance speed of the board | substrate G may become the same in the support roller 37 and the conveyance roller 43. FIG. In addition, the support roller is also provided with a conveying force to increase the transmission point of the force. Then, since such a burden is distributed to each transfer point, the problem of leaving a trace of a roller on a board | substrate is eliminated.

또한 기어기구(69)로서 앞에 설명한 기구를 사용하는 대신에 하모닉 기어 기구를 사용하더라도 좋다. 하모닉 기어에 관해서는 하모닉 드라이브사의 제품으로서 시판되고 있다.As the gear mechanism 69, a harmonic gear mechanism may be used instead of the mechanism described above. Harmonic gear is marketed as a product of Harmonic Drive.

다음에, 에어 나이프(67)의 에어 분출구(67a)의 변형예를 설명한다.Next, the modification of the air blowing port 67a of the air knife 67 is demonstrated.

도 11에 나타나 있는 바와 같이, 에어 분출구(67a)에 복수의 구멍을 형성하고, 에어 나이프(67)의 중앙에 위치하는 구멍의 구경을 최대로 한다. 그리고, 에어 나이프(67)의 단부로 감에 따라 구멍의 구경을 서서히 감소시킨다. 이러한 구성을 채용함으로써, 에어 분출구(67a)의 중앙부에서의 에어분출량이 최대가 되고, 에어 분출구(67a)의 단부로 감에 따라 서서히 분출량이 감소해 나간다.As shown in FIG. 11, a some hole is formed in the air blower opening 67a, and the diameter of the hole located in the center of the air knife 67 is maximized. And the diameter of a hole is gradually reduced as it goes to the edge part of the air knife 67. FIG. By adopting such a configuration, the air blowing amount at the central portion of the air blowing port 67a is maximized, and the blowing amount gradually decreases as it goes to the end of the air blowing port 67a.

또한, 도 12에 나타나 있는 것은 에어 분출구(67a)에 복수의 구멍을 형성하고 에어 나이프(67)의 중앙에 위치하는 구멍의 구경을 최대로 하고 에어 나이프(67)의 단부로 감에 따라 구멍의 구경을 서서히 감소시킴과 동시에 에어를 분출하는 구멍의 방향을 에어 나이프(67)의 중앙으로부터 단부로 감에 따라 서서히 기판의 외측으로 향하도록 하는 것이다. 이러한 구성을 취함으로써, 에어 분출구 (67a)의 중앙부에서의 에어 분출량이 최대가 되고 에어 분출구(67a)의 단부로 감에 따라 서서히 분출량이 감소해 나감과 동시에 에어를 기판의 중앙부에서 단부의 방향으로 흐르도록 공급할 수 있다.In addition, what is shown in FIG. 12 forms the several hole in the air blower outlet 67a, maximizes the aperture of the hole located in the center of the air knife 67, and goes to the edge part of the air knife 67, The aperture is gradually reduced and at the same time, the direction of the hole for ejecting air is gradually directed toward the outside of the substrate as the air knife 67 is moved from the center to the end portion. With such a configuration, the air blowing amount at the center of the air blowing port 67a is maximized and the blowing amount gradually decreases as it goes to the end of the air blowing port 67a, and at the same time, the air flows from the center of the substrate to the end portion. It can be supplied to flow.

이와 같이, 본 실시예에서는 산 모양 형태의 정상(頂上)인 기판(G)의 중앙부에 최대량의 에어를 공급함으로써, 기판(G)의 중앙부에서 단부로 린스액이 흐르는 작용을 촉진시킬 수 있어 효율적인 건조가 실현된다. 즉, 기판의 중앙부와 단부의 고저차이를 이용하는 효율적인 건조가 실현된다.As described above, in this embodiment, by supplying the maximum amount of air to the center portion of the substrate G, which is in the form of a mountain, the rinse liquid flows from the center portion to the end portion of the substrate G. Drying is realized. In other words, efficient drying using high and low difference between the center and the end of the substrate is realized.

또한, 본 발명은 이상에서 설명한 실시예에 한정되는 것이 아니라 다양한 변형이 가능하다.In addition, this invention is not limited to the Example demonstrated above, A various deformation | transformation is possible.

예를 들면, 상기 실시예의 지지롤러(37)는 반송롤러(43)의 재치부(43a)의 지름보다도 큰 구성으로 했지만, 반송부(R)에서는 액체처리 등을 하지 않아 기판(G)을 산 모양 형태로 반송할 필요가 없기 때문에 지지롤러(37)와 재치부(43a)의 지름을 거의 같이 하여도 좋다.For example, although the support roller 37 of the said Example was set as larger than the diameter of the mounting part 43a of the conveyance roller 43, the conveyance part R did not process a liquid and the board | substrate G was bought out. Since it is not necessary to convey in a form, the diameter of the support roller 37 and the mounting part 43a may be made substantially the same.

예를 들면, 상기 실시예에 있어서 현상처리 유니트로서는 에어 나이프(67)의 에어 분출구(67a)를 기판(G)의 산 모양 형태의 반송 형상에 대응시키는 것으로 했지만, 에어 나이프(67) 뿐만 아니라 현상액 노즐(65)이나 린스 노즐(66)도 마찬가지로 기판(G)의 산 모양 형태의 반송 형상에 대응시키는 것으로 하여도 좋다.For example, in the above embodiment, as the developing unit, the air blowing port 67a of the air knife 67 is made to correspond to the conveying shape of the mountain shape of the substrate G, but not only the air knife 67 but also the developing solution. Similarly, the nozzle 65 and the rinse nozzle 66 may correspond to the conveyance shape of the mountain shape of the board | substrate G. As shown in FIG.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면 기판을 미끄러뜨리지 않고 안정하게 반송할 수 있고 또한 액체처리에 있어서 물기를 빼거나 건조처리 등을 확실하게 할 수 있다.As described above, according to the present invention, the substrate can be conveyed stably without slipping, and the liquid can be drained, dried, or the like assured.

Claims (19)

기판의 이면측 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 적어도 한 쌍의 반송롤러와,At least one pair of conveying rollers which support both ends of the back side of the substrate and convey the substrate by rotation; 상기 한 쌍의 반송롤러에 각각 근접하여 회전가능하게 배치되고 기판의 표면측 양단을 가압하는 적어도 한 쌍의 가압롤러와,At least one pair of press rollers rotatably disposed in close proximity to the pair of convey rollers and pressurize both ends of the surface side of the substrate; 상기 한 쌍의 반송롤러를 회전구동 시키는 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.And a driving unit for rotating the pair of conveying rollers. 제 1 항에 있어서, 상기 한 쌍의 가압롤러는 상기 기판의 표면측 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압하는 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.The conveying apparatus according to claim 1, wherein the pair of pressure rollers are provided with means for pressing the both ends of the surface side of the substrate with a substantially constant force at all times. 제 1 항에 있어서, 상기 한 쌍의 반송롤러의 회전축과 동축 상에서 회전할 수 있도록 배치되고 상기 한 쌍의 반송롤러의 지름보다도 큰 지름을 구비하여 기판의 중앙부근을 이면측에서 지지하는 적어도 하나의 지지롤러를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.2. The apparatus of claim 1, wherein at least one of the plurality of conveying rollers is arranged to rotate coaxially with the rotational axis of the pair of conveying rollers and has a diameter larger than that of the pair of conveying rollers to support the central portion of the substrate on the back surface side. A conveying apparatus, further comprising a support roller. 제 3 항에 있어서, 상기 지지롤러를 상기 반송롤러의 회전속도와 다른 회전속도로 회전구동 시키는 기어부를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.4. A conveying apparatus according to claim 3, further comprising a gear portion for rotating the support roller at a rotational speed different from that of the conveying roller. 제 1 항에 있어서, 상기 가압롤러를 상기 반송롤러로부터 이간시키는 수단을 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.The conveying apparatus according to claim 1, further comprising means for separating the press roller from the conveying roller. 제 3 항에 있어서, 상기 반송롤러에 의해 반송되는 기판의 상부에 각각 배치되며,4. A substrate according to claim 3, which is arranged on top of the substrate conveyed by the conveying rollers, 기판 상에 현상액을 공급하는 수단과,Means for supplying a developer onto a substrate; 상기 현상액이 공급된 기판상에 린스액을 공급하는 수단과,Means for supplying a rinse solution onto the substrate supplied with the developer; 기판상에 에어를 불어서 건조시키는 수단을 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.And a means for blowing air to dry the substrate. 제 6 항에 있어서, 상기 건조수단은, 상기 에어를 분출하고, 상기 반송롤러와 상기 지지롤러에 의하여 지지되고 또한 상기 가압롤러에 의해 가압되는 상태에서 반송되는 기판의 형상에 대응하는 형상을 구비하는 분출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.The said drying means has a shape corresponding to the shape of the board | substrate conveyed in the state which blows out the said air, is supported by the said conveyance roller and the said support roller, and is pressed by the said pressure roller. A conveying apparatus comprising a jet port. 제 7 항에 있어서, 상기 기판에 대한 상기 에어의 공급량은 기판의 중앙부에서 최대이고, 기판의 단부로 감에 따라 서서히 감소해 나가는 것을 특징으로 하는 반송장치.8. The conveying apparatus according to claim 7, wherein the air supply amount to the substrate is maximum at the center of the substrate and gradually decreases as it goes to the end of the substrate. 제 8 항에 있어서, 상기 에어의 분출량은 상기 분출구의 중앙부에서 최대이고, 이 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 감소해 나가는 것을 특징으로 하는 반송장치.9. The conveying apparatus according to claim 8, wherein the blowing amount of the air is maximum at the central portion of the blowing port and gradually decreases as it goes to the end of the blowing hole. 제 8 항에 있어서, 상기 분출구로부터 에어가 분출되는 방향이 분출구의 중앙부에서는 기판에 대하여 거의 수직 방향이고, 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 기판의 외측으로 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 반송장치.The conveying apparatus according to claim 8, wherein the direction in which air is ejected from the jet port is substantially perpendicular to the substrate at the central portion of the jet port, and is gradually directed to the outside of the substrate as it goes to the end of the jet port. (a) 기판의 이면측 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 복수의 제 1 반송롤러와, 회전할 수 있도록 상기 제 1 반송롤러에 각각 근접하여 배치되어 기판의 표면측 양단을 가압하는 복수의 제 1 가압롤러를 구비하는 반송부와,(a) A plurality of first conveying rollers for supporting both ends of the back side of the substrate and conveying the substrate by rotation, and adjacent to the first conveying rollers so as to be rotated to press both ends of the surface side of the substrate. The conveying part provided with the some 1st press roller to make, (b) 상기 반송부에서 반송되어 오는 기판의 이면측 양단을 지지함과 동시에 회전에 의해 기판을 반송시키는 복수의 제 2 반송롤러와, 상기 제 2 반송롤러에 대하여 각각 착탈할 수 있고 또한 회전할 수 있도록 배치되어 기판의 표면측 양단을 가압하는 복수의 제 2 가압롤러와, 상기 제 2 반송롤러의 하방으로부터 출몰가능하여 외부와의 사이에서 기판을 반송하는 복수의 핀을 구비하는 반송부와,(b) A plurality of second conveyance rollers for conveying the substrate by rotation while supporting both ends of the back side of the substrate conveyed by the conveying unit, and detachable and rotated with respect to the second conveyance roller, respectively. A conveying part including a plurality of second press rollers arranged so as to pressurize both ends of the surface side of the substrate, and a plurality of pins capable of being projected from below the second conveying roller and conveying the substrate between the outside; (c) 상기 제 1 반송롤러 및 상기 제 2 반송롤러를 회전구동 시키는 구동부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.(c) a conveying apparatus comprising a drive unit for rotating the first conveying roller and the second conveying roller. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1 가압롤러 및 상기 제 2 가압롤러는 상기 기판의 표면측 양단을 항상 거의 일정한 힘으로 가압하는 수단을 각각 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.12. A conveying apparatus according to claim 11, wherein said first press roller and said second press roller are each provided with means for pressurizing both ends of the surface side of said substrate with a substantially constant force. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1 반송롤러 및 제 2 반송롤러의 회전축과 각각 동축 상에서 회전할 수 있도록 배치되고 상기 제 1 반송롤러 및 제 2 반송롤러의 지름보다도 큰 지름을 구비하여 기판의 중앙부근을 이면측에서 지지하는 복수의 지지롤러를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.12. The substrate of claim 11, wherein the first conveying roller and the second conveying roller are disposed so as to be coaxially rotated, respectively, and have a diameter larger than that of the first conveying roller and the second conveying roller. And a plurality of support rollers supporting the back surface side. 제 13 항에 있어서, 상기 복수의 지지롤러를 상기 제 1 및 제 2 반송롤러의 회전속도와 다른 회전속도로 회전구동 시키는 기어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.14. The conveying apparatus according to claim 13, further comprising a gear portion for rotating the plurality of support rollers at rotational speeds different from the rotational speeds of the first and second conveying rollers. 제 11 항에 있어서, 상기 제 1 반송롤러에 의해 반송되는 기판의 상부에 각각 배치되며,12. The apparatus as claimed in claim 11, which is disposed on an upper portion of the substrate conveyed by the first conveyance roller, 기판상에 현상액을 공급하는 수단과,Means for supplying a developer onto a substrate; 상기 현상액이 공급된 기판상에 린스액을 공급하는 수단과,Means for supplying a rinse solution onto the substrate supplied with the developer; 기판상에 에어를 불어 건조시키는 수단을 배치하여 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.And a means for blowing air to dry the substrate. 제 15 항에 있어서, 상기 건조수단은, 상기 에어를 분출하고, 상기 제 1 반송롤러와 상기 지지롤러에 의하여 지지되고 또한 상기 가압롤러에 의해 가압되는 상태에서 반송되는 기판의 형상에 대응하는 형상을 구비하는 분출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 반송장치.The method according to claim 15, wherein the drying means ejects the air and has a shape corresponding to the shape of the substrate conveyed in the state supported by the first conveying roller and the supporting roller and pressed by the pressing roller. The conveying apparatus provided with the ejection opening provided. 제 16 항에 있어서, 상기 기판에 대한 상기 에어의 공급량이 기판의 중앙부에서 최대가 되고, 기판의 단부로 감에 따라 서서히 감소해 나가는 것을 특징으로 하는 반송장치.The conveying apparatus according to claim 16, wherein the supply amount of air to the substrate is maximized at the center of the substrate and gradually decreases as it goes to the end of the substrate. 제 17 항에 있어서, 상기 에어의 분출량이 상기 분출구의 중앙부에서 최대가 되고, 이 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 감소해 나가는 것을 특징으로 하는 반송장치.18. The conveying apparatus according to claim 17, wherein the blowing amount of the air is maximized at the central portion of the blowing port, and gradually decreases as it goes to the end of the blowing port. 제 17 항에 있어서, 상기 분출구로부터 에어가 분출되는 방향이 분출구의 중앙부에서는 기판에 대하여 거의 수직방향이고, 분출구의 단부로 감에 따라 서서히 기판의 외측으로 향하도록 하는 것을 특징으로 하는 반송장치.18. The conveying apparatus according to claim 17, wherein the direction in which air is ejected from the jet port is substantially perpendicular to the substrate at the central portion of the jet port, and gradually moves toward the outside of the substrate as it goes to the end of the jet port.
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