JP3022872B1 - Rubbing apparatus and rubbing method for liquid crystal element - Google Patents

Rubbing apparatus and rubbing method for liquid crystal element

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JP3022872B1
JP3022872B1 JP2470699A JP2470699A JP3022872B1 JP 3022872 B1 JP3022872 B1 JP 3022872B1 JP 2470699 A JP2470699 A JP 2470699A JP 2470699 A JP2470699 A JP 2470699A JP 3022872 B1 JP3022872 B1 JP 3022872B1
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哲 片山
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Abstract

【要約】 【課題】 芯振れの少ない液晶素子のラビング装置を提
供することにある。 【解決手段】 回転する事により配向膜を付着した基板
の表面をラビングするラビングロールと、前記基板を搭
載した状態で移送する搬送テーブルと、該搬送テーブル
を搭載したまま水平面内で旋回可能なターンテーブルと
から構成されたラビング装置において、ラビングロール
を軸方向を一定にした状態で回転させると共に下降さ
せ、搬送テーブル上に搭載された基板上の配向膜を前記
ラビングロールで摺擦するので、ラビングロールの芯振
れを少なくする事が出来る。
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rubbing device for a liquid crystal element with small center runout. A rubbing roll for rubbing the surface of a substrate on which an alignment film is attached by rotating, a transfer table for transferring the substrate mounted thereon, and a turn capable of rotating in a horizontal plane while the transfer table is mounted. In a rubbing apparatus composed of a table and a rubbing roll, the rubbing roll is rotated and lowered while keeping the axial direction constant, and the alignment film on the substrate mounted on the transfer table is rubbed with the rubbing roll. Roll runout can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル製
造工程で使用される液晶素子のラビング装置に関し、特
に配向膜を付着させたガラス基板表面上をバフ布(レイ
ヨン、ナイロン等の繊維)を巻き付けたロールを回転さ
せ、擦ることによって、液晶を一定方向に向かせるため
の溝を刻む液晶素子のラビング装置である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rubbing device for a liquid crystal device used in a liquid crystal display panel manufacturing process, and more particularly to a buff cloth (fiber such as rayon or nylon) on a glass substrate surface having an alignment film attached thereto. This is a rubbing device for a liquid crystal element in which a groove for turning a liquid crystal in a certain direction is formed by rotating and rubbing a wound roll.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に液晶素子のラビング装置に使用す
るラビングロール5は、図5に示すようにロール全体が
旋回する場合の旋回精度(ロールの平行度)6と、ラビ
ングロール5を走行させる場合のロール走行精度7と、
ロール軸芯回りのロール芯振れ精度8と、図6に示すロ
ール昇降精度9等の機械的精度があり、これらの精度を
向上させる事がラビング工程における、液晶パネルの歩
留まりを大きく左右するものの一つである。この中でも
バフ布を巻いたロールの中心部にロールの芯が取り付け
られて回転しているかどうかを示すロール芯振れ精度と
ガラス基板上をロール回転する際いかに真っ直ぐに溝を
刻むことができるかどうかを示すロール走行精度は特に
重要な精度項目である。
2. Description of the Related Art Generally, as shown in FIG. 5, a rubbing roll 5 used in a rubbing device for a liquid crystal element has a turning accuracy (roll parallelism) 6 when the entire roll turns, and a rubbing roll 5 when running. Roll running accuracy of 7,
There are mechanical accuracy such as a roll center runout accuracy 8 around the roll axis center and a roll elevating accuracy 9 shown in FIG. 6. Improving these accuracy greatly affects the yield of the liquid crystal panel in the rubbing process. One. Among these, the roll core deflection accuracy, which indicates whether the roll core is attached and rotated at the center of the buffed roll, and how straight grooves can be cut when the roll rotates on the glass substrate Is a particularly important accuracy item.

【0003】従来の液晶素子のラビング装置は、例えば
図7に示す様にラビング布を巻き付けた回転ヘッド1を
基板移動方向Aと垂直に固定し、回転テーブル2の基板
3を規定角度(この例では、5度)回して回転ヘッド1
の下を移動させる基板移動タイプの液晶表示装置の配向
膜をラビングする方法が開示されている。この公知例一
の回転ヘッドの下を移動させる基板移動タイプのラビン
グ処理は、本発明の提案と基本的に同じであるが、公知
例1では、図7に示す通り、毛先分けムラをの発生を防
止するため、回転ヘッド1を基板の進行方向Aに対して
5度だけ回転させている点が本発明と異なる。このため
公知例1の回転ヘッドロール部の動作軸が本発明より多
くなっており、ロールの芯振れが本発明より大きいと考
えられる。
In a conventional rubbing device for a liquid crystal element, for example, as shown in FIG. 7, a rotary head 1 on which a rubbing cloth is wound is fixed perpendicularly to a substrate moving direction A, and a substrate 3 of a rotary table 2 is fixed at a specified angle (in this example). Then, rotate 5 degrees)
A method of rubbing an alignment film of a liquid crystal display device of a substrate moving type in which a liquid crystal display device is moved under the substrate is disclosed. The rubbing process of the substrate moving type for moving under the rotary head in the first known example is basically the same as the proposal of the present invention, but in the first known example, as shown in FIG. The present embodiment is different from the present invention in that the rotary head 1 is rotated only 5 degrees with respect to the traveling direction A of the substrate in order to prevent the occurrence. For this reason, the operation axis of the rotary head roll portion of the known example 1 is larger than that of the present invention, and it is considered that the roll runout is larger than that of the present invention.

【0004】公知例の2である特開昭64−04441
6は図8に示す通り、基板3をターンテーブル4のほぼ
中心に合わせて載置し、ターンテーブル4を配向角β
(A方向)を0とし、次にターンテーブル4を配向角β
1(A1方向)だけ右旋回させ、この後、配向角β2(A2
方向)だけ左回転させラビングロール5を回転、平行に
動かしながら3回繰り返し配向処理するものが開示され
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-04441, which is a second known example,
6, as shown in FIG. 8, the substrate 3 is placed so as to be substantially aligned with the center of the turntable 4, and the turntable 4 is oriented at an orientation angle β.
(A direction) is set to 0, and then the turntable 4 is set to the orientation angle β.
1 (A1 direction), and after that, the orientation angle β2 (A2
Direction is rotated left and the rubbing roll 5 is rotated and moved in parallel, and the alignment treatment is repeated three times.

【0005】この公知例2の基板を載置したターンテー
ブル4を配向角に左右旋回してラビング処理する手段は
本発明と基本的には同じである。しかし、公知例2で
は、ラビングロールを走行させてラビング処理を行って
いるため、公知例1と同じく本発明より動作軸が多いた
め、ロールの芯振れが大きくなるという欠点がある。
The means for rubbing by turning the turntable 4 on which the substrate of the known example 2 is mounted right and left at an orientation angle is basically the same as the present invention. However, in the known example 2, since the rubbing process is performed by running the rubbing roll, there is a drawback that the core runout becomes large because the number of operating axes is larger than that of the present invention as in the known example 1.

【0006】従って、本発明は、公知例1の回転テーブ
ル1の基板3を規定角度に回して回転ヘッド1(本発明
のラビングロールに相当)の下を移動させる基板移動タ
イプのラビング処理手段と基本的に同じであり、また、
公知例2の基板3を載置したターンテーブル4を配向角
に左右旋回してラビング処理する手段と基本的に同じで
ある。しかし、本発明は、ターンテーブルに基板を載置
した搬送テーブルを移動してラビング処理し、この処理
後にターンテーブルの旋回を元に戻して基板を次工程に
受け渡す手段が公知例1,2と異なっている。
Accordingly, the present invention provides a substrate moving type rubbing means for rotating a substrate 3 of a rotary table 1 of a known example 1 at a predetermined angle and moving it under a rotary head 1 (corresponding to a rubbing roll of the present invention). Basically the same,
This is basically the same as the means for rubbing by turning the turntable 4 on which the substrate 3 is mounted in the known example 2 right and left at an orientation angle. However, in the present invention, rubbing processing is performed by moving a transfer table on which a substrate is mounted on a turntable, and after this processing, means for returning the turntable of the turntable to the original and transferring the substrate to the next step is known in the prior arts 1 and 2. Is different.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】然しながら、上述のよ
うな従来の液晶素子のラビング装置では、それぞれ問題
点を有している。即ち、第1の問題点は、ロール部が、
ラビング角度付けやラビングムラを防止するための旋回
精度や、ラビングロールを基板に接触させるための昇降
精度などの精度項目を持っている。この様に、従来のロ
ール部の機械精度管理は数多く存在し、そのため芯振れ
による不良が出やすいものになっていた。
However, the above-described conventional rubbing devices for liquid crystal elements have respective problems. That is, the first problem is that the roll part is
It has accuracy items such as turning accuracy for preventing rubbing angle and uneven rubbing, and elevating accuracy for bringing a rubbing roll into contact with a substrate. As described above, there are many conventional machine precision managements for the roll portion, and therefore, defects due to center runout are likely to occur.

【0008】本発明の目的は、上記した従来技術の欠点
を改良し、ロール部の自由度を削減し、ターンテーブル
を付加することにより芯振れを抑えた液晶素子のラビン
グ装置を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a rubbing device for a liquid crystal element in which the above-mentioned drawbacks of the prior art are improved, the degree of freedom of a roll portion is reduced, and a run-out is added to suppress a center run-out. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成する為、以下に示す様な基本的な技術構成を採用す
るものである。即ち、本発明に係る第1の態様として
は、回転する事により配向膜を付着した基板の表面をラ
ビングするラビングロールと、前記基板を搭載した状態
で移送する搬送テーブルと、該搬送テーブルを搭載した
まま水平面内で旋回可能なターンテーブルとから構成さ
れたラビング装置において、ラビングロールを軸方向を
一定にした状態で回転させると共に下降させ、搬送テー
ブル上に搭載された基板上の配向膜を前記ラビングロー
ルで摺擦する事を特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention employs the following basic technical structure. That is, as a first aspect according to the present invention, a rubbing roll for rubbing the surface of a substrate on which an alignment film is attached by rotating, a transport table for transporting the substrate in a state where the substrate is mounted, and mounting the transport table In a rubbing device composed of a turntable that can be turned in a horizontal plane while being rotated, the rubbing roll is rotated and lowered while keeping the axial direction constant, and the alignment film on the substrate mounted on the transfer table is lowered. It is characterized by rubbing with a rubbing roll.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の液晶素子のラビング装置
は、上記した従来技術に於ける問題点を解決する為、回
転する事により配向膜を付着した基板の表面をラビング
するラビングロールと、基板を載せて移送する搬送テー
ブルと、該搬送テーブルを載せたまま水平面内で旋回可
能なターンテーブルとから構成されたラビング装置にお
いて、ラビングロールを定位置で回転させると共に下降
させ、搬送テーブル上に載置された基板を移動させつつ
配向膜を摺擦するので、芯振れの少ない液晶素子のラビ
ング装置を得る事ができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A rubbing device for a liquid crystal device according to the present invention is provided with a rubbing roll for rubbing the surface of a substrate having an alignment film attached thereto by rotating the rubbing roll, in order to solve the above-mentioned problems in the prior art. In a rubbing device composed of a transfer table on which a substrate is mounted and transferred, and a turntable that can rotate in a horizontal plane while the transfer table is mounted, the rubbing roll is rotated at a fixed position and lowered, and the rubbing roll is lowered. Since the alignment film is rubbed while the mounted substrate is being moved, a rubbing device for a liquid crystal element with small center runout can be obtained.

【0011】[0011]

【発明の実施例】以下に、本発明に係る液晶素子のラビ
ング装置の具体的構成を図面を用いながら説明する。図
1は、本発明の一実施例を示す液晶素子のラビング装置
の要部平面図、図2は、本発明の液晶素子のラビング装
置の一実施例を示す要部側面図である。ここで、液晶素
子のラビング装置は、ラビングロール10、ターンテー
ブル11、搬送テーブル12の3つの基本ユニットから
構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The specific structure of a rubbing device for a liquid crystal device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a main part of a rubbing device for a liquid crystal element showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of a main part showing one embodiment of a rubbing device for a liquid crystal element of the present invention. Here, the rubbing device for a liquid crystal element is composed of three basic units: a rubbing roll 10, a turntable 11, and a transport table 12.

【0012】ラビングロール10の基本動作はロールの
回転動作及びロールの上昇、下降動作のみである。した
がって、ロールに要求される精度は、図5に示すロール
芯振れ精度8及びロール昇降精度9の2個である。従来
の様に旋回精度6及びロール走行精度7は必要とされな
い。また、ロールの作動条件の一例として、ラビングロ
ールの回転数は、1000rpm、直径は150 mmである。
The basic operation of the rubbing roll 10 is only the rotation of the roll and the raising and lowering of the roll. Therefore, the accuracy required for the roll is the roll center runout accuracy 8 and the roll elevation accuracy 9 shown in FIG. The turning accuracy 6 and the roll running accuracy 7 are not required as in the related art. As an example of the operating conditions of the roll, the rotation speed of the rubbing roll is 1000 rpm and the diameter is 150 mm.

【0013】ターンテーブル11は、円盤状をしてお
り、水平を維持しつつ旋回する事ができる。ターンテー
ブル11は基準位置より0°〜±45°の範囲で旋回す
る事ができる。
The turntable 11 has a disk shape and can turn while maintaining a horizontal position. The turntable 11 can turn within a range of 0 ° to ± 45 ° from the reference position.

【0014】搬送テーブル12は、ターンテーブル11
上に配置されており、旋回中心Cを通る直線S上を図外
の駆動機構によって基板13を基板を吸着固定したまま
往復移動する事ができる。移動条件としては、例えば搬
送スピード80mm/sec である。
The transport table 12 includes a turntable 11
The substrate 13 can be reciprocated on a straight line S passing through the center of rotation C while the substrate 13 is fixed by suction by a driving mechanism (not shown). The moving condition is, for example, a transfer speed of 80 mm / sec.

【0015】次に、以上のように構成された液晶素子の
ラビング装置の動作について説明する。図1,2におい
て、先ず配向膜の付着された基板13が、搬送テーブル
12上のA位置に置かれる。基板13がA位置にくると
ターンテーブル11が所定の角度θだけ時計回りに回転
し、搬送テーブル12はB位置に移る。
Next, the operation of the rubbing device for a liquid crystal element configured as described above will be described. In FIGS. 1 and 2, first, a substrate 13 having an alignment film attached thereto is placed at a position A on a transfer table 12. When the substrate 13 comes to the position A, the turntable 11 rotates clockwise by a predetermined angle θ, and the transfer table 12 moves to the position B.

【0016】次にラビングロール10が回転を始め、搬
送テーブル12に載置された基板13に接触するよう所
定量だけ下降する。搬送テーブル12は直線的に移動
し、ラビングロール10の下を通過する際に、摺擦処理
される。搬送テーブル12が、ターンテーブル11上の
C位置まで来るとラビングロール10は停止し、上昇す
る。
Next, the rubbing roll 10 starts rotating and descends by a predetermined amount so as to come into contact with the substrate 13 placed on the transfer table 12. The transfer table 12 moves linearly, and is rubbed when passing under the rubbing roll 10. When the transfer table 12 reaches the position C on the turntable 11, the rubbing roll 10 stops and moves up.

【0017】ラビングロール10が上昇動作を完了する
と、ターンテーブル11は先程と逆回りに同じθ角度だ
け旋回し、基板13はD位置に移る。その後、基板13
は次工程に搬送され、搬送テーブル12は元のA位置に
戻り、次の基板13が搬送されるまで待機する。順次、
以上の動作を繰り返して基板13を次々にラビング処理
する。
When the rubbing roll 10 completes the ascending operation, the turntable 11 turns counterclockwise by the same θ angle, and the substrate 13 moves to the D position. Then, the substrate 13
Is transported to the next step, the transport table 12 returns to the original position A, and waits until the next substrate 13 is transported. Sequentially
By repeating the above operation, the rubbing process is performed on the substrate 13 one after another.

【0018】次に、本発明の別の実施例を説明する。図
3は、同液晶素子のラビング装置の他の実施例を示す要
部平面図、図4は、同液晶素子のラビング装置の他の実
施例を示す要部側面図である。図3において、A位置で
供給される基板13aが前工程よって既に角度付けされ
て供給される。基板13aがA位置にくるとターンテー
ブル11が所定の角度θだけ時計回りに旋回し、搬送テ
ーブル12はB位置に移る。
Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a plan view of an essential part showing another embodiment of the rubbing device of the liquid crystal element, and FIG. 4 is a side view of an essential part showing another embodiment of the rubbing device of the liquid crystal element. In FIG. 3, the substrate 13a supplied at the position A is supplied at an angle by the previous process. When the substrate 13a comes to the position A, the turntable 11 turns clockwise by a predetermined angle θ, and the transfer table 12 moves to the position B.

【0019】次にラビングロール10が回転を始め、搬
送テーブル12に載置された基板13aに接触するよう
所定量だけ下降する。搬送テーブル12は直線的に移動
し、ラビングロール10の下を通過する際に、摺擦処理
される。搬送テーブル12が、ターンテーブル11上の
C位置まで来るとラビングロール10は停止し、上昇す
る。
Next, the rubbing roll 10 starts rotating and descends by a predetermined amount so as to come into contact with the substrate 13a placed on the transfer table 12. The transfer table 12 moves linearly, and is rubbed when passing under the rubbing roll 10. When the transfer table 12 reaches the position C on the turntable 11, the rubbing roll 10 stops and moves up.

【0020】ラビングロール10が上昇動作を完了する
と、ターンテーブル11は先程と逆回りに同じθ角度だ
け旋回し、基板13aはD位置に移る。その後、基板1
3aは次工程に搬送され、搬送テーブル12は元のA位
置に戻り、次の基板13aが搬送されるまで待機する。
以上の様に基板13aが前工程より既に角度付けて供給
された場合、ラビングロール10の毛先分けムラ防止が
ターンテーブルを旋回する事で可能となる。
When the rubbing roll 10 completes the ascent operation, the turntable 11 turns counterclockwise by the same θ angle, and the substrate 13a moves to the D position. Then, the substrate 1
3a is transported to the next step, the transport table 12 returns to the original A position, and waits until the next substrate 13a is transported.
As described above, when the substrate 13a has been supplied at an angle from the previous step, it is possible to prevent the unevenness of the rubbing roll 10 from tipping by turning the turntable.

【0021】次に、本発明の液晶素子のラビング方法に
ついて説明する。先ず、搬送テーブル12上に基板13
を載せる工程によって基板を搬送テーブル12上に吸着
固定する。次に、搬送テーブル12の設置されたターン
テーブル11を基板13を載せたまま時計方向に所定角
度旋回させる工程によってラビングロール10に対して
角度を付与する。
Next, the rubbing method of the liquid crystal device of the present invention will be described. First, the substrate 13 is placed on the transfer table 12.
The substrate is suction-fixed on the transfer table 12 by the step of mounting the substrate. Next, an angle is given to the rubbing roll 10 by a step of turning the turntable 11 on which the transport table 12 is set, clockwise while keeping the substrate 13 thereon.

【0022】ラビングロール10を回転させつつ基板1
3の高さ位置まで下降させる工程によって基板13を摺
擦可動位置に下降させる。また、ターンテーブル11上
の搬送テーブル12を直線的に移送し、搬送テーブル1
2上の基板13を前記ラビングロール10で摺擦する工
程によって摺擦処理する。
While rotating the rubbing roll 10, the substrate 1
The substrate 13 is lowered to the sliding movable position by the step of lowering to the height position of No. 3. Further, the transfer table 12 on the turntable 11 is linearly transferred, and the transfer table 1 is moved.
A rubbing process is performed by rubbing the substrate 13 on the rubbing roll 10 with the rubbing roll 10.

【0023】ラビングロール10が停止すると共に、上
昇させる工程でラビングロール10を搬送テーブル12
の邪魔にならない位置に移動する。ターンテーブル11
を所定角度だけ反時計方向に旋回させる工程によって搬
送テーブル12を元の作業ラインに戻す。
When the rubbing roll 10 stops and is raised, the rubbing roll 10 is
Move out of the way. Turntable 11
Is turned counterclockwise by a predetermined angle to return the transfer table 12 to the original work line.

【0024】以上の実施例では、ターンテーブルを時計
方向に旋回させてから、反時計方向に旋回させる場合に
ついて説明したが、この逆方向に旋回させてもよい。
尚、本発明は以上の実施例に限ることなく本発明の技術
思想に基づいて種々の設計変更が可能である。
In the above embodiment, the case where the turntable is turned clockwise and then counterclockwise is described. However, the turntable may be turned in the opposite direction.
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and various design changes can be made based on the technical idea of the present invention.

【0025】[0025]

【発明の効果】第1の効果は、従来の液晶素子のラビン
グ装置よりロール部の機械的な自由度が削減されると共
に、ターンテーブルが付加されているので、芯振れの少
ない安定した回転ラビング処理ができる。また、第2の
効果は、供給される基板が前工程よって既に角度付けさ
れて供給される場合、ラビングロールの毛先分けムラを
ターンテーブルによって防止する事が出来る。
The first effect is that the mechanical freedom of the roll portion is reduced as compared with the conventional rubbing device for a liquid crystal element, and a turntable is added, so that a stable rotary rubbing with a small center runout is provided. Can be processed. The second effect is that, when the substrate to be supplied is supplied at an angle by the previous process, unevenness of the rubbing roll tip can be prevented by the turntable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の一実施例を示す液晶素子のラ
ビング装置の要部平面図ある。
FIG. 1 is a plan view of a main part of a rubbing device for a liquid crystal element according to an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、本発明の液晶素子のラビング装置の一
実施例を示す要部側面図である。
FIG. 2 is a side view of a main part showing one embodiment of a rubbing device for a liquid crystal element of the present invention.

【図3】図3は、同液晶素子のラビング装置の他の実施
例を示す要部平面図である。
FIG. 3 is a main part plan view showing another embodiment of the rubbing device for the liquid crystal element.

【図4】図4は、同液晶素子のラビング装置の他の実施
例を示す要部側面図である。
FIG. 4 is a main part side view showing another embodiment of the rubbing device for the liquid crystal element.

【図5】図5は、同液晶素子のラビング装置に使用され
るラビングロールの旋回精度、走行精度、芯振れ精度を
夫々示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a turning accuracy, a running accuracy, and a center runout accuracy of a rubbing roll used in a rubbing device of the liquid crystal element.

【図6】図6は、同液晶素子のラビング装置に使用され
るラビングロールの昇降精度を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the elevation accuracy of a rubbing roll used in a rubbing device for the liquid crystal element.

【図7】図7は、従来の液晶素子のラビング装置の一例
を示す要部平面図である。
FIG. 7 is a plan view of a main part showing an example of a conventional rubbing device for a liquid crystal element.

【図8】図8は、従来の液晶素子のラビング装置の他の
例を示す要部平面図である。
FIG. 8 is a main part plan view showing another example of a conventional liquid crystal device rubbing device.

【図9】図9は、同液晶素子のラビング装置を示す要部
側面図である。
FIG. 9 is a main part side view showing a rubbing device for the liquid crystal element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

C 旋回中心 S 直線 5 ラビングロール 6 旋回精度 7 ロール走行精度 8 ロール芯振れ精度 9 ロール昇降精度 10 ラビングロール 11 ターンテーブル 12 搬送テーブル 13 基板 C Turning center S Straight line 5 Rubbing roll 6 Turning accuracy 7 Roll running accuracy 8 Roll center runout accuracy 9 Roll elevating accuracy 10 Rubbing roll 11 Turntable 12 Transfer table 13 Substrate

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 回転する事により配向膜を付着した基板
の表面をラビングするラビングロールと、前記基板を搭
載した状態で移送する搬送テーブルと、該搬送テーブル
を搭載したまま水平面内で旋回可能なターンテーブルと
から構成されたラビング装置において、ラビングロール
を軸方向を一定にした状態で回転させると共に下降さ
せ、搬送テーブル上に搭載された基板上の配向膜を前記
ラビングロールで摺擦する事を特徴とする液晶素子のラ
ビング装置。
1. A rubbing roll for rubbing the surface of a substrate having an alignment film attached thereto by rotating, a transfer table for transferring the substrate mounted thereon, and a rotatable horizontal surface with the transfer table mounted. In a rubbing device composed of a turntable, the rubbing roll is rotated and lowered while keeping the axial direction constant, and the alignment film on the substrate mounted on the transfer table is rubbed with the rubbing roll. Characteristic rubbing device for liquid crystal elements.
【請求項2】 前記ターンテーブルが、前記ラビングロ
ールの回転軸芯に対して所定の角度だけ傾いた状態で、
搬送テーブルを移動させてラビングすることを特徴とす
る請求項1記載の液晶素子のラビング装置。
2. In a state where the turntable is tilted by a predetermined angle with respect to a rotation axis of the rubbing roll,
2. The rubbing device for a liquid crystal element according to claim 1, wherein the rubbing is performed by moving the transport table.
【請求項3】 前記搬送テーブルは、ターンテーブル上
を直線的に移動することを特徴とする請求項1記載の液
晶素子のラビング装置。
3. The rubbing device for a liquid crystal element according to claim 1, wherein the transfer table moves linearly on a turntable.
【請求項4】 前記搬送テーブルは、基板を予めラビン
グロールに対して所定角度傾けた状態で直線的に移送す
ることを特徴とする請求項1記載の液晶素子のラビング
装置。
4. The rubbing device for a liquid crystal device according to claim 1, wherein the transfer table linearly transfers the substrate in a state where the substrate is tilted at a predetermined angle with respect to a rubbing roll in advance.
【請求項5】 前記ラビングロールは、定位置で回転す
ると共に、上昇及び下降することを特徴とする請求項1
記載の液晶素子のラビング装置。
5. The rubbing roll according to claim 1, wherein the rubbing roll rotates at a fixed position and moves up and down.
A rubbing device for a liquid crystal element as described in the above.
【請求項6】 搬送テーブル上に基板を搭載する工程
と、搬送テーブルの搭載されたターンテーブルを基板を
載せたまま所定角度旋回させる工程と、ラビングロール
を回転させつつ基板の高さ位置まで下降させる工程と、
ターンテーブル上の搬送テーブルを直線的に移送し、搬
送テーブル上の基板を前記ラビングロールで摺擦する工
程と、ラビングロールが停止すると共に、上昇させる工
程と、ターンテーブルを所定角度だけ前回と逆方向に旋
回させる工程とから構成されたことを特徴とする液晶素
子のラビング方法。
6. A step of mounting a substrate on a transfer table, a step of rotating a turntable on which the transfer table is mounted with a predetermined angle while the substrate is mounted, and a step of rotating a rubbing roll to descend to a substrate height position. The step of causing
Transferring the transfer table on the turntable linearly, rubbing the substrate on the transfer table with the rubbing roll, stopping and raising the rubbing roll, and reversing the turntable by a predetermined angle from the previous time. Rubbing a liquid crystal element.
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