JP4636663B2 - 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、化学反応の促進または収率の向上を可能にする高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
マイクロ波を利用した化学反応は試みられ始めて15年程度と年月が浅く、系統的な化学の基礎が整っておらず、工業技術への展開のための基礎的設計概念を与えるような体系は存在しない。しかしながら、マイクロ波による著しい反応速度(または収率)の向上や従来の加熱法とは異なる反応が促進するなどマイクロ波による化学反応促進効果が認められている(特開平11−21127)。これらの効果はしばしばマイクロ波による加熱効果以外の効果または加熱効果以上の効果という観点からマイクロ波効果またはマイクロ波電界効果或いは非熱的効果と呼ばれている。また、非熱的効果に加え局所加熱反応促進効果および局所反応場の形成による反応促進効果なども示唆されている。
【0003】
一般に高温高圧下での被処理物を処理することにより化学反応は促進される。そのための加熱源としては電気ヒーター、バーナー、蒸気などが使用されるが、それらは何れも被加熱物を外部からまたは表面から加熱する手法である(外部加熱法)。現在稼働している化学プラントもその多くは外部加熱法を用いている。 本装置は現在稼働しているプラントを改造しマイクロ波を導入し、マイクロ波加熱を利用することにより、又外部加熱とマイクロ波加熱の併用により反応プロセス、収率、反応時間を改善し化学反応を促進させ省エネルギー型プロセスを可能とする。
【0004】
高温高圧条件下でのマイクロ波による加熱装置としては、特開平4−272688、特開平5−251175、特開平5−251176、実開平5−72092が有るが、何れもマイクロ波は単なる加熱源として使用しているにすぎず、また、マイクロ波の供給方法も高温高圧容器の壁部分に窓またはブロックを取付けマイクロ波を供給するものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように従来の方法または装置では、窓またはブロックは、耐熱、耐圧、耐腐食の特性を一度に有する材料および構造が必要であり、また、従来の装置では高温高圧容器内の任意の位置にマイクロ波を供給することができないという問題があった。
そこで、本発明は、上記従来の装置の有する問題点を解決することを課題とする。より具体的には本発明は、高温高圧容器における窓の制限を緩和した高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置を提供することを目的とする。また本発明は、局所的に高温高圧状態を形成させることができ、そのような局所反応場形成により反応を促進させることができる高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、マイクロ波発振器と、第1の窓および第2の窓を有する中空の導波管または同軸線路とを備え、マイクロ波を第1の窓を介して高温高圧容器内の被加熱物に照射する化学反応促進用マイクロ波供給装置であって、高温高圧容器に設けられた貫通口に挿入される導波管または同軸線路の先端部に第1の窓を設け、第2の窓を高温高圧容器の外側に位置する導波管または同軸線路の途中に設け、第1の窓と第2の窓の間の内圧を高温高圧容器の内圧と等しくするための制御手段を設けたことを特徴とする化学反応促進用マイクロ波供給装置を要旨としている。
【0007】
また本発明は、高温高圧条件での反応時に第1の窓と第2の窓の間の内圧を容器の内圧と等しくなるように制御可能に構成したことを特徴とする。
【0008】
また本発明は、上記の中空の導波管または同軸線路を容器中に導入し、その開口部が容器中の被加熱物に直接接触し、被加熱物の任意の位置を効率的にマイクロ波により加熱できるようにしたことを特徴とする。
【0009】
また本発明は、上記の中空の導波管または同軸線路を複数本、高温高圧容器中の被加熱物に導入し、大容量の被加熱物を均一に、かつ、広い範囲に加熱できるようにしたことを特徴とする。
【0010】
また本発明は、さらに、液体を連続的に流通する管路である高温高圧容器を備え、当該管路中に上記の複数本の導波管または同軸線路を流れに沿って配置し、流通する被加熱物を連続的に加熱できるようにしたことを特徴とする。
【0011】
また本発明は、上記の高温高圧容器が、マイクロ波加熱と外部加熱とを併用する加熱手段を備えることを特徴とする。
【0012】
容器中の被加熱物は、マイクロ波吸収体および/またはマイクロ波吸収性触媒を存在させた高温高圧反応系、亜・超臨界状態にある高温高圧流体系、および/または、電解反応系・光化学反応系・超音波を用いた反応系・外部加熱法を用いた反応系であることを特徴とする。
【0013】
温度センサーおよび圧力センサーを容器内に取付け、それらセンサーの検出値にもとづきマイクロ波出力を制御して容器内の圧力および温度を設定値に保持できるようにしたことを特徴としている。
【0014】
容器に観測用窓を取付け、目視、ファイバースコープによる観測およびリアルタイムでの分光計測を可能にしたことを特徴としている。
【0015】
【実施の形態】
本発明の高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置は、次の構成を備えることを特徴とする。
中空の導波管または同軸線路を高温高圧容器中に導入し、その開口部が高温高圧容器中の被加熱物に直接接触させ、被加熱物の任意の位置を効率的にマイクロ波により加熱できるようにすること。
複数の導波管または同軸線路を高温高圧容器中の被加熱物に導入し、大容量の被加熱物を均一に又広い範囲に加熱できるようにすること。
管路中に複数の導波管または同軸線路を流れに沿って配置し、流通する被加熱物を連続的に加熱できるようにすること。
超臨界状態へマイクロ波を導入し化学反応を促進できるようにすること。
加熱手段にマイクロ波加熱と外部加熱とを併用すること。
温度センサーおよび圧力センサーを容器内に取付け、それらセンサーの検出値にもとづきマイクロ波出力を制御して高温高圧容器内の圧力および温度を設定値に保持できるようにすること。
高温高圧容器に観測用窓を取付け、目視およびリアルタイムでの分光計測が可能にすること。
【0016】
(1)導波管または同軸線路は2つの仕切窓により密閉されている。第1の窓は導波管または同軸線路開口部(マイクロ波照射部、高圧容器内)に、第2の窓は容器の外側に夫々設置されている。高温高圧条件の反応では、容器の圧力と第1の窓と第2の窓の間の圧力が等しくなるように第1の窓と第2の窓の間の圧力を制御する。
これにより第1の窓の前後の圧力は等しいため、第1の窓の構造としては主に耐熱・耐腐食という観点からのみその構造を考慮すれば良く薄いシート構造を適用することが可能となる。
また、第2の窓は高温高圧容器の外側に設置されるため第2の窓の構造としては主に耐圧という観点からのみその構造を選択すれば良い。
この様に第1の窓と第2の窓の構造を使い分けることにより、高温高圧容器に対する窓の制限を緩和することができる。
【0017】
(2)中空の導波管または同軸線路が高温高圧容器中に導入され、その開口部が高温高圧容器中の被加熱物(液体またはスラリー)に直接接触し、被加熱物の任意の位置を効率的にマイクロ波により加熱する。例えば液−液界面の反応において界面のみを選択的に加熱すること、また触媒反応において触媒部のみを選択的に加熱することができる。
(3)開口部が高温高圧容器中に存在するので、容器自体の材質は金属を使用することができ高温高圧被加熱物を加熱することができる。
(4)上記手法によりマイクロ波の浸透深さを考慮し、適当な周波数を選択することにより開口部近傍のみを局所的に加熱することが可能となる。
(5)また加熱したい部分が2箇所以上有る場合は、上記導波管または同軸線路を複数本高温高圧容器中の被加熱物に導入することにより、大容量の被加熱物に対しても均一に又広い範囲を加熱することができる。
(6)連続式(流通式)反応の場合には上記導波管または同軸線路を複数本間隔を空けて容器に取り付けることにより、流通する被加熱物を連続的に加熱することができる。
(7)付加的に冷却、溶液導入などの工程を取り入れることができる。
(8)温度をモニターしマイクロ波出力を制御することにより被加熱物の温度むらを小さくすることができる。
【0018】
【作用】
上記のように構成した本発明の高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置は、第1の窓は耐熱性と耐腐食性を考慮すれば良く、強度は考慮しなくても良いので薄いシート状の構造が採用でき、高温高圧の高温高圧容器に対する窓の制限を緩和することができる。
【0019】
さらに本発明の高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置は、次の作用・効果を奏するものである。
被加熱物の任意の位置を効率的にマイクロ波により加熱することができる。
大容量の被加熱物を均一に又広い範囲に加熱することができる。
管路中を流通する被加熱物を連続的に加熱することができる。
亜・超臨界状態にある高温・高圧流体系にマイクロ波を導入し化学反応を促進させることができる。
反応プロセス、収率、反応時間の改善を図ることができる。
反応温度を一定に保つことができ、また、反応状況を目視またはリアルタイムで監視することができる。
高温高圧反応系にマイクロ波吸収体および/またはマイクロ波吸収性触媒を存在させることにより、局所的に高温高圧状態を形成させることができる。そのような局所反応場の形成により反応を促進させることができる。
【0020】
【実施例】
本発明の詳細を実施例で説明する。本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【0021】
実施例1
図1は、本発明の第1実施例を示し、高温高圧容器1の天板を貫通して該容器1内に先端部が位置するように設けた導波管または同軸線路5の挿入端に第1の窓2を設け、導波管または同軸線路5の他方の途中に第2の窓3を設け、容器1内と導波管内を等圧にし、マイクロ波発振器4により発振したマイクロ波を導波管または同軸線路5を介して高温高圧容器内1の被加熱物に照射するように構成してある。
したがって、高温高圧条件の反応では、容器1の圧力と第1の窓2と第2の窓3の間の圧力が等しくなるように第1の窓2と第2の窓3の間の圧力を制御すると、第1の窓2の前後の圧力は等しくなるので、第1の窓2の構造としては主に耐熱・耐腐食という観点からのみその構造を考慮すれば良く薄いシート構造を適用することが可能となり、また、第2の窓3は高温高圧の高温高圧容器1の外側に設置されるため第2の窓3の構造としては主に耐圧という観点からのみその構造を選択することができる。
【0022】
実施例2
図2(a)、(b)は、本発明の第2実施例を示し、高温高圧容器1の天板に摺動可能に装着した導波管または同軸線路5の挿入端に第1の窓2を設け、導波管または同軸線路5の途中に第2の窓3を設け、容器1内と窓2と窓3内を等圧にし、マイクロ波発振器(図示省略)により発振したマイクロ波を導波管または同軸線路5を介して高温高圧容器1内の被加熱物に照射するように構成してある。
したがって、図2(a)に示すように、中空の導波管または同軸線路5が高温高圧容器1中に導入され、その開口部が高温高圧容器1中の被加熱物(液体またはスラリー)に直接接触し、被加熱物の任意の位置を効率的にマイクロ波により加熱するので、例えば液−液界面の反応において界面のみを選択的に加熱することができ、また、図2(b)に示すように、触媒反応において触媒部のみを選択的に加熱することができる。
本実施例は開口部が被加熱物と接触する場合に該当し(実施例3、4も該当する。)、マイクロ波の浸透深さを考慮し、適当な周波数を選択することにより開口部近傍のみを局所的に加熱することが可能となる。
開口部が高温高圧容器中に存在するので、容器自体の材質は金属を使用することができ高温高圧被加熱物を加熱することができる。
上記手法によりマイクロ波の浸透深さを考慮し、適当な周波数を選択することにより開口部近傍のみを局所的に加熱することが可能となる。
なお、開口部が高温高圧容器1中に存在するので、容器1自体の材質は金属を使用することができ高温高圧被加熱物を加熱することができる(これはすべての実施例に該当する。)。
【0023】
実施例3
図3は、本発明の第3実施例を示し、高温高圧容器1の天板に、挿入量を変えた複数本の導波管または同軸線路5を設け、それらの導波管または同軸線路5の挿入端に第1の窓2を設け、導波管または同軸線路5、5の途中に第2の窓3を設け、容器1内と窓2、窓3内を等圧にし、マイクロ波発振器(図示省略)により発振したマイクロ波を導波管または同軸線路5を介して高温高圧容器1内の被加熱物に照射するように構成してある。
したがって、加熱したい部分が2箇所以上有る場合は、上記導波管または同軸線路5を複数本高温高圧容器1中の被加熱物に導入することにより、大容量の被加熱物に対しても均一に又広い範囲を加熱することができる。
【0024】
実施例4
図4は、本発明の第4実施例を示し、高温高圧容器に相当する管路1’中に侵入するように複数の導波管または同軸線路5を流れに沿って配置し、管路1’内と導波管内を等圧にし、マイクロ波発信器4により発振したマイクロ波を導波管または同軸線路5を介して管路1’内の被加熱物に照射するように構成してある。
したがって、管路中を流通する液体を連続的に加熱することができ、さらに、付加的に冷却装置7や溶液導入などの工程を取り入れることができ、流路中に温度計Tを配置して温度をモニターしマイクロ波出力を制御することにより被加熱物の温度を設定値に保持することができる。
【0025】
実施例5
図5は、本発明の第5実施例を示し、外周に外部ヒータ6を取付けた高温高圧容器1に装着した導波管または同軸線路5の挿入端に第1の窓2を設けた、導波管または同軸線路5の途中に第2の窓3を設け、容器1内と窓2、窓3を等圧にし、マイクロ波発信器4により発振したマイクロ波を導波管または同軸線路5を介して高温高圧容器1内の被加熱物に照射するように構成してある。
したがって、反応プロセス、収率、および、反応時間の改善ができる。
なお、この実施例では、第1実施例の装置に外部ヒータを適用した例を説明したが、第2〜4実施例の装置に適用することも可能である。
【0026】
【発明の効果】
本発明により、高温高圧容器における窓の制限を緩和した高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置を提供することができる。また、局所的に高温高圧状態を形成させることができ、そのような局所反応場形成により反応を促進させることができる高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高温高圧容器1への化学反応促進用マイクロ波供給装置第1実施例の概念図である。
【図2】本発明の高温高圧容器1への化学反応促進用マイクロ波供給装置第2実施例の概念図である。
【図3】本発明の高温高圧容器1への化学反応促進用マイクロ波供給装置第3実施例の概念図である。
【図4】本発明の高温高圧容器1への化学反応促進用マイクロ波供給装置第4実施例の概念図である。
【図5】本発明の高温高圧容器1への化学反応促進用マイクロ波供給装置第5実施例の概念図である。
【符号の説明】
1 高温高圧容器(反応容器)
2 第1の窓
3 第2の窓
4 マイクロ波発振器
5 導波管または同軸線路
6 外部ヒータ
7 冷却装置
G 圧力計
P 加圧ポンプ
T 温度計
V 圧力調整バルブ
Claims (11)
- マイクロ波発振器と、第1の窓および第2の窓を有する中空の導波管または同軸線路とを備え、マイクロ波を第1の窓を介して高温高圧容器内の被加熱物に照射する化学反応促進用マイクロ波供給装置であって、
高温高圧容器に設けられた貫通口に挿入される導波管または同軸線路の先端部に第1の窓を設け、第2の窓を高温高圧容器の外側に位置する導波管または同軸線路の途中に設け、第1の窓と第2の窓の間の内圧を高温高圧容器の内圧と等しくするための制御手段を設けたことを特徴とする化学反応促進用マイクロ波供給装置。 - 上記の第1の窓が、高温高圧容器中の被加熱物に直接接触した状態で被加熱物にマイクロ波を照射することを特徴とする請求項1の化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器中の被加熱物が、マイクロ波吸収体および/またはマイクロ波吸収性触媒を存在させた高温高圧反応系である請求項1または2の化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器中の被加熱物が、亜・超臨界状態にある高温高圧流体系である請求項1ないし4のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器中の被加熱物が、電解反応系、光化学反応系、超音波を用いた反応系および/または外部加熱法を用いた反応系である請求項1ないし4のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の導波管または同軸線路を複数本備えることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- さらに、上記の導波管または同軸線路が挿入される貫通口を有する高温高圧容器を備える請求項1ないし6のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- さらに、液体を連続的に流通する管路である高温高圧容器を備え、当該管路中に上記の複数本の導波管または同軸線路を流れに沿って配置し、流通する被加熱物を連続的に加熱できるようにしたことを特徴とする請求項6の化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器が、マイクロ波加熱と外部加熱とを併用する加熱手段を備えることを特徴とする請求項7または8の化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器内に温度センサーおよび圧力センサーを取付け、それらセンサーの検出値にもとづきマイクロ波出力を制御して容器内の圧力および温度を設定値に保持できるようにしたことを特徴とする請求項7ないし10のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
- 上記の高温高圧容器に観測用窓を取付け、目視、ファイバースコープによる観測およびリアルタイムでの分光計測を可能にしたことを特徴とする請求項7ないし10のいずれかの化学反応促進用マイクロ波供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000311197A JP4636663B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000311197A JP4636663B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002113349A JP2002113349A (ja) | 2002-04-16 |
JP4636663B2 true JP4636663B2 (ja) | 2011-02-23 |
Family
ID=18791005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000311197A Expired - Fee Related JP4636663B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4636663B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005246325A (ja) * | 2004-03-05 | 2005-09-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 高圧流体発生制御方法及びその装置 |
JP5461758B2 (ja) * | 2006-06-07 | 2014-04-02 | 四国計測工業株式会社 | マイクロ波化学反応容器および装置 |
US20110263843A1 (en) | 2008-07-28 | 2011-10-27 | Japan Chemical Engineering & Machinery Co., Ltd. | Microwave radiating device, connecting type microwave radiating device, and methods of producing sugar ingredient from plant materials |
RU2479954C1 (ru) * | 2011-09-13 | 2013-04-20 | ГНУ Всероссийский научно-исследовательский институт сельскохозяйственной радиологии и агроэкологии | Установка для свч-обработки сыпучих продуктов или материалов |
CN111774019B (zh) * | 2020-07-06 | 2021-09-03 | 西安交通大学 | 一种高温高压可视化水热装置 |
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-
2000
- 2000-10-11 JP JP2000311197A patent/JP4636663B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002113349A (ja) | 2002-04-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101122 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4636663 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
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