JP2005246325A - 高圧流体発生制御方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 化学処理システムにおいて流体の流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態の流体で満たすための方法であって、マイクロ波照射による加熱操作で流体を熱膨張させることで圧力差を発生させて、前記処理容器内において、瞬時に、高精度に制御された所定の温度と高圧場とを得るようにしたことを特徴とする高圧流体発生制御方法、及びその装置。
【効果】 マイクロ波照射条件を制御することで、短時間で、高精度で、処理容器内を所定の温度と高圧状態の流体で満たすことができる。
【選択図】なし
Description
本発明は、亜臨界ないし超臨界流体を利用した化学プロセス等において、処理容器内の温度と圧力が所定の値になるように高精度に、しかも瞬時に制御することを可能とする新規な高圧流体発生制御方法及びその装置を提供することを目的とするものである。
(1)化学処理システムにおいて流体の流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態の流体で満たすための方法であって、マイクロ波照射による加熱操作で流体を熱膨張させることで圧力差を発生させて、前記処理容器内において、瞬時に、高精度に制御された所定の温度と高圧場とを得るようにしたことを特徴とする高圧流体発生制御方法。
(2)マイクロ波照射の条件を調整することにより、前記処理容器内の温度と圧力を所定の条件となるように制御することを特徴とする前記(1)に記載の方法。
(3)マイクロ波の吸収効率の高い液体あるいは固体物質を処理容器内に共存させることにより、マイクロ波照射による加熱効率を向上させることを特徴とする、前記(1)に記載の高圧流体発生制御方法。
(4)化学処理システムにおいて流体の流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態の流体で満たすための装置であって、処理容器と、当該処理容器に高圧流体を送出するための高圧器と、これらを接続して流体を高圧器と処理容器に流通させるための流路と、前記高圧器と処理容器を通過した流体を凝縮して前記高圧器に送出するための凝縮器、流体の流通を制御するための開閉バルブ、前記高圧器、流路及び/又は処理容器に設置されたマイクロ波照射手段及びマイクロ波照射制御手段、から構成されることを特徴とする高圧流体発生制御装置。
(5)マイクロ波加熱手段を、前記高圧器及び/又は前記流路に設置したことを特徴とする、前記(4)に記載の装置。
本発明の高圧流体発生制御方法は、亜臨界ないし超臨界流体による化学プロセスの流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態に満たすための方法であって、マイクロ波照射により流体を熱膨張させることで圧力差を発生させて、前記処理容器内において所定の温度と高圧場とを得るようにしたことを特徴とするものである。本発明では、流体にマイクロ波照射して流体を熱膨張させることで、流体の状態量の変化に基づく圧力差が前記処理容器内と外部との間に生じる。この場合、例えば、予め、高圧器に充填された流体にマイクロ波照射して流体を熱膨張させ、これを流路を介して前記処理容器に送出する方法、流路の途中で流体にマイクロ波照射して流体を熱膨張させ、これを前記処理容器に導入する方法、前記処理容器で流体にマイクロ波照射して流体を熱膨張させる方法、等が例示される。
また、本発明では、流体に、マイクロ波の吸収効率の高い流体あるいは固体物質を共存させることで、マイクロ波照射による加熱効率を増加させることができるため、他の加熱手段では達成することができない格別の作用効果を得ることが可能となる。
Claims (5)
- 化学処理システムにおいて流体の流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態の流体で満たすための方法であって、マイクロ波照射による加熱操作で流体を熱膨張させることで圧力差を発生させて、前記処理容器内において、瞬時に、高精度に制御された所定の温度と高圧場とを得るようにしたことを特徴とする高圧流体発生制御方法。
- マイクロ波照射の条件を調整することにより、前記処理容器内の温度と圧力を所定の条件となるように制御することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- マイクロ波の吸収効率の高い液体あるいは固体物質を処理容器内に共存させることにより、マイクロ波照射による加熱効率を向上させることを特徴とする、請求項1に記載の高圧流体発生制御方法。
- 化学処理システムにおいて流体の流路内に設置された1個以上の処理容器内を高圧状態の流体で満たすための装置であって、処理容器と、当該処理容器に高圧流体を送出するための高圧器と、これらを接続して流体を高圧器と処理容器に流通させるための流路と、前記高圧器と処理容器を通過した流体を凝縮して前記高圧器に送出するための凝縮器、流体の流通を制御するための開閉バルブ、前記高圧器、流路及び/又は処理容器に設置されたマイクロ波照射手段及びマイクロ波照射制御手段、から構成されることを特徴とする高圧流体発生制御装置。
- マイクロ波加熱手段を、前記高圧器及び/又は前記流路に設置したことを特徴とする、請求項4に記載の装置。
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