JPS62165894A - 高圧力流体のマイクロ波加熱装置 - Google Patents

高圧力流体のマイクロ波加熱装置

Info

Publication number
JPS62165894A
JPS62165894A JP700286A JP700286A JPS62165894A JP S62165894 A JPS62165894 A JP S62165894A JP 700286 A JP700286 A JP 700286A JP 700286 A JP700286 A JP 700286A JP S62165894 A JPS62165894 A JP S62165894A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
waveguide
fluid
dielectric
microwave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP700286A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0151870B2 (ja
Inventor
工藤 稔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micro Denshi Co Ltd
Original Assignee
Micro Denshi Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Micro Denshi Co Ltd filed Critical Micro Denshi Co Ltd
Priority to JP700286A priority Critical patent/JPS62165894A/ja
Priority to DE8787300245T priority patent/DE3769480D1/de
Priority to EP87300245A priority patent/EP0229708B1/en
Priority to US07/003,846 priority patent/US4760228A/en
Publication of JPS62165894A publication Critical patent/JPS62165894A/ja
Publication of JPH0151870B2 publication Critical patent/JPH0151870B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばゴムの製造工程などにおいて、高粘度
の流体を圧力で圧送する過程でマイクロ波エネルギーを
用いて、該流体を効率良く加熱する方法に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
第2図は従来より在る流体のマイクロ波加熱法であり、
(a)は斜視図、(b3は断面図を示している。
導波管1中を斜めに貫通する誘電体製の管2を配し、導
波管1中には矢印a、力方向りマイクロ波エネルギーを
導入するとともに、誘電体管2中には矢印a2方間に、
加熱する流体りを流し、誘電体発熱の原理を応用して流
体りを加熱する。
[発明が解決しようとする問題点〕 この方法で使用される誘電体管2の材料としては、ガラ
ス、磁器、合成樹脂などが適しているが、後に述べるよ
うに高効率な加熱を行なおうとして誘電体管2の肉厚を
薄くすると、管材料の強度が低いため、流体を圧送する
ことの出来る圧力は精々l0Kg/cm2程度までであ
った。
ゴム類や合成樹脂などを可塑化して圧送する過程でマイ
クロ波加熱するような用途では、可望化した流体の粘度
が高い為、圧送する圧力が高く、50Kg/cm” 〜
2000Kg/cm”位の高圧力でなければ、円滑に送
ることが出来ない。
仮に第2図に示す方法で、2000Kg / cm 2
の圧力に耐える誘電体管2を用意するには、石英ガラス
を用いた場合で肉厚4Qmm以上、アルミナGil W
gを用いても肉厚30mm以上を必要とする。この様な
管は作り難い上に、非常に高価となる。しかもこの様に
、単純に管の肉厚のみを大きくして耐圧を得ようとした
時には、もっと重大な別の問題が生ずる。
いま誘電体管2の材料にアルミナ磁器を使用する場合を
考察する。管内を通るゴム類や合成樹脂の比誘電率は、
おおむね2.5ないし4.5程度の値をもっているが、
これに対してアルミナ磁器の比誘電率は9.8で、加熱
すべき流体りより大きい。
その結果、加熱すべき流体りを、内厚が2分の1波長以
上で、比誘電率が加熱すべき流体りより2〜4倍も大き
い誘電体が、周囲を取囲んでいる状態となる。この様な
状況下では、マイクロ波電界は、比誘電率の大きなアル
ミナ磁器の中を通り抜け、肝腎な加熱すべき流体りには
何の効果も及ぼさない。
即ち第2図に示す様な流体の加熱法で、管内の流体りを
効率良くマイクロ波加熱する為の条件として、誘電体管
2の肉厚をマイクロ波の波長に対して極めて薄いものに
するか、さもなければ誘電体管2の比誘電率が被加熱物
である流体りの比誘電率と同等かそ丸以下であることが
必要である。
ゴA I5や合成樹脂の加熱を考える場合、加熱温度の
上限は200°C程変であることから、管材料としては
四フッ化工千しンの比誘電率=2.1 誘電正接: 0
.0005  耐熱温度=265°Cで使用可能に見え
る。しかし、四フッ化エチレン樹脂は小さな圧力で容易
に変形するため、とても2000Xg / cm”の圧
力には耐えられず、結局第2図に示す方法では、このよ
うな高圧流体の加熱には適用できない。
大発明の技術的課題は、従来の高圧力流体のマイクロ波
加熱装置におけるこのような問題を解消し、2000K
g/cm2程度の内圧に耐え、しかも高効率なマイクロ
波加熱が可能な方法を実現することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明による高圧力流体のマイクロ波加熱装置
の基本原理を説明する断面図である。3は導波管あり、
端壁3eは、導波管3と同じく金属材料で閉止されてい
る。この導波管3中に、固体または液体からなり、比誘
電率が被加熱流体りより小さい充填材5が充填され、開
口10側は圧力隔壁4で密閉されている。マイクロ波は
、この間口10から供給される。導波管3の充填材5の
部分を貫通する通路が形成されている。この通路は、導
波管3を貫通する部分61.62と、充填材5中を貫通
する部分63とからなっている。被加熱体である流体し
は、矢印a2で示すように、通路61から圧入され、充
填材5中の通路63を通過して、上側の通路62から押
し出される。なお被加熱材料や充填材5の材質によって
は、充填材5と被加熱材料を直接接触させることができ
ないため、そのような場合は、充填材5と通路63との
間を、第3図に示す仕切り筒6などで仕切る必要がある
。なお被加熱流体I5とは、管路中を圧力で移送できる
材料であれば、液体に限られず、粉体や粒体などのよう
な固体も含まれるものとする。
〔作用〕
いま加熱される流体りが、充填材5中の通路63中を移
動している状態で、導波管3中に開口10からマイクロ
波が供給されると、通路63中の流体りにマイクロ波エ
ネルギーが吸収され、加熱される。
このとき、被加熱流体りが高圧で圧入されても、その圧
力は、充填材5を介して、導波管3内壁、導波管端壁3
eと圧力隔壁4に伝達し、受は止められる。そのため、
充填材5と接する部分、すなわち導波管3の内壁、導波
管端壁3eおよび圧力隔壁4を、圧力に耐え得るように
充分な肉厚とするのみで、高圧流体の加熱が可能となる
。充填材5と被加熱流体りとの間が、仕切り筒で仕切ら
れる場合でも、被加熱流体からの圧力は、仕切り筒およ
び充填材5を介して、充分な強度を有する導波管や圧力
隔壁4で受は止められるので、仕切り筒の変形が防止さ
れる。その結果、仕切り筒の肉厚が薄く、強度が弱くて
も支障はない。
〔実施例〕
次に本発明による高圧力流体のマイクロ波加熱装置が実
際上どのように具体化されるかを、第3図に示す実施例
で説明する。第3図の(a)は外観を示す斜視図、(b
)はその断面図である。マイクロ波エネルギーは、矢印
a、に示す方向に導波管3に導入され、加熱する流体り
は矢印a2方向に圧送される。導波管3は、2000K
g / cm zの圧力に対し充分な剛性をもつような
金属材料と厚さを選定しである。4は圧力隔壁で、マイ
クロ波の通過損失が少なく、かつ圧縮強度と曲げ強度の
大きなことが、材料選定の基準となるが、比誘電率は問
題とならない。5は充填材であり、比誘電率が2.5以
下で誘電正接が小さく 、200℃の耐熱性と2000
Kg/cm2の圧力によって体積が減少しないことが、
材料の選定条件であり、固体でも液体でも良い。6は加
熱すべき流体が通る誘電体製の仕切り管で、充填材5が
流体の通る流路に漏れ出さないことと、被加熱流体りと
の摩擦によって消耗しないような材料が適するが、管の
肉厚は流体の圧力に耐えるような厚さを必要としない。
なお仕切り管6は、第2図のように斜めになっていても
良い。
前記の条件で、第3図に使用出来る材料を選択すると、
圧力隔壁4にはアルミナ磁器、ステアタイト磁器、石英
ガラスなどが使用でき、充填材5には四フッ化エチレン
等のフッ素樹脂あるいはシリコーン油を使用でき、管6
には石英ガラス管を使用することができる。第3図に示
すような構成ならば、流体の圧力は全て充填材・5を通
して圧力隔壁4と導波管3で受止めることになり、管6
は内圧に対する強度を要求されない。従って管6の肉厚
はマイクロ波の波長に比して極り薄<出来るため、少々
比誘電率の大きな材料を用いても、マイクロ波加熱のエ
ネルギー効率は低下しない。充填材5は、加熱すべき□
流体りより比誘電率の小さい材料が適す□るが、機・械
的な強度は必要でないので、フッ素樹脂のような変形し
やすい物質や液体のシリコーン油でも使用出来る。
〔マイクロ波の反射防止策〕
マイクロ波の伝送経路に、比誘電率の異なる誘電体が存
在する場合、マイクロ波の伝送インピーダンスは、誘電
体の比誘電率の平方根に逆比例する。比誘電率の急変す
る界面即ち伝送インピーダンスの急変する界面が存在す
ると、マイクロ波はその界面で反射する。そして反射波
の大きさは、界面を挟む媒質の伝送インピーダンスの比
に相当する。第3図(b)で伝送インピーダンスの急変
する界面は、界面7.8.9及び管6と流体りの間に存
在する界面の四箇所である。管6と流体りとの界面の反
射は、加熱する流体りの種類や配合によって変わるので
、別に設けたスタブチューナーのような可変整合器を用
いて、反射損失を減じる手段を取らねばならない。界面
7.8に於ける反射は、圧力隔壁4と充填材5に使用す
る材質で決まるので、予めこの界面反射を極力小さくす
る工夫が必要である。
界面7と8の反射を低減するには、三通りの方法がある
。第1の方法は、界面で伝送インピーダンスが急変しな
いように、マイクロ波の進行方向に対して圧力隔壁4を
細長い菱形にする事であるが、形状が大きくなり、高価
となるので実用的でない。
本発明の目的とする所は、高圧力流体を高効率でマイク
ロ波加熱し、安価な加熱装置を提供する事にあるが、次
に説明する第2及び第3の方法は、この目的を充分に満
足する。
導波管内を伝送するマイクロ波の伝送インピーダンスは
、第3図ial中に示す“AXB”の開口10のへ寸法
と3寸法によって決まる。A寸法を一定として3寸法を
大きくすると、伝送インピーダンスは高くなり、反対に
3寸法を小さくすると、伝送インピーダンスは低くなる
3寸法を一定としたとき、へ寸法を大きくすると、伝送
インピーダンスは低くなる。逆にA寸法がマイクロ波の
半波長となったとき、伝送インピーダンスは無限大とな
る。4波管内が誘電体で充満している場合、中空の風波
管に比べて、その伝送インピーダンスは比誘電率の平方
根に逆比例する。
第2の界面反射の低減法は、上記のマイクロ波の性質を
利用し、圧力隔壁前面の中空導波管部分10と圧力隔壁
4と充填材5のそれぞれの誘電体の比誘電率に応じて、
導波管の内寸法を変えて、各部の伝送インピーダンスが
同一となるように、3寸法、C寸法、0寸法をそれぞれ
採用すると、界面7と8は無反射の整合界面となる。そ
して充填材5の比誘電率のもとで、圧力隔壁4と同一伝
送インピーダンスとなるように、0寸法を採用する。
これは好都合なことに、前に述べた圧力隔壁4と充填材
5の材料選定条件を満足すると、B、ClD寸法のうち
C寸法が最も大きくなり、流体の圧力を受止める圧力隔
壁4をはめこみ固定するのに最適な窪みが出来る。
第3の方法は第2の方法とよく似ているが、ある程度C
寸法を設計者が任意に選べる点で異なる。
3寸法の中空導波管の伝送インピーダンスと充填材5の
伝送インピーダンスが同一になるように0寸法を設定し
、C寸法を任意の大きさとした時、当然界面7と8から
は、入射してくるマイクロ波の一部が反射するが、圧力
隔壁4の材料に誘電体損失の極めて少ない物を使用する
と、界面7の反射量と界面80反射量はほぼ等しくなる
。この条件で圧力隔壁4の厚さ寸法をマイクロ波の波長
の4分の1にすると、界面7と8の反射波の位相は逆位
相となり、相互に打消し合って、無反射の整合界面とな
る。
界面9は、金属によって完全に短絡されているので、こ
の界面に到達したマイクロ波は全反射され、マイクロ波
源、から送られて来る入射波と相互に干渉し合い定在波
をつくる。
界面9からの反射によって作られる定在波の最大電圧位
置に、加熱する流体りが通るように2寸法を設定し、流
体りの通路を設けることで、加熱率をより高める事がで
きる。
第3図に示すようにマイクロ波加熱装置を作り、合成ゴ
ムを500kg/cm2で圧送しながらマイクロ波加熱
を行なった実験では、合成ゴムを80’Cから160″
Cに加熱するためのエネルギー効率が約90%という高
効率を得た。このとき各界面からの反射損失は、マイク
ロ波送電電力の2%であった。残りの損失は、ゴムの全
熱分が伝導によって導波管3に流れ大気に放散した分で
あろうと考える。このように高圧力のもとて高効率な加
熱を行なえろ方法は、他に類を見ない加熱方法であると
確信している。
〔発明の効果] 以上のように本発明によれば、導波管3中に、比誘電率
が被加熱流体りより低い充填材5を充填して圧力隔壁4
で密閉し、該充填材5中を、被加熱流体りが圧送される
。そのため、被加熱流体りが圧力を伴っていても、その
圧力は、充填材5を介して、剛体の導波管3や圧力隔壁
4などで受し3止められるので、各部の材料の選択の自
由度が増し、圧力を伴った流体でも効率的にマイクロ波
加熱できろ。また充iln材5と被加熱流体りとの間を
仕切り筒で仕切る場合でも、圧力は該仕切り筒および充
填材5を介して導波管3や圧力隔壁4で受け止められる
ので、該仕切り筒は、肉厚の薄いものでよく、従来の誘
電体管2のように、厚肉にする必要性はなくなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による高圧力流体のマイクロ波加熱装置
の基本原理を説明する断面図、第2図は従来の高圧力流
体のマイクロ波加熱装置の斜視図と断面図、第3図は本
発明による高圧力流体のマイクロ波加熱装置の実施例を
示す斜視図と断面図である。 図において、3は強度の充分な導波管、3eは導波管端
壁、4は圧ノコ隔壁、5は充填材、Lは(被加熱)流体
、6は仕切り筒(管)、61.62.63は被加熱流体
の通路、10は導波管の開口(マイクロ波導入口)、7
.8.9は界面をそれぞれ示す。 特許出願人   ミクロ電子株式会社 代理人 弁理士  福 島  康 文 第1図 第2図 第3凶

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、流体を高圧力で圧送する過程で、マイクロ波エ
    ネルギーを用いて前記流体を加熱する装置において、 流体の圧送圧力に耐える金属製外殻を兼ねる導波管3を
    有し、該導波管3のマイクロ波導入口10付近に誘電体
    製の圧力隔壁4を設け、該圧力隔壁4、導波管3および
    導波管端壁3eで囲まれた空間内を、比誘電率が被加熱
    流体Lより低い固体又は液体から成る充填材5で満たし
    た誘電体充填部を形成し、 該導波管3と誘電体充填部を貫通する通路をあけ、前記
    流体Lがこの通路を通して圧送されるときの圧力を、圧
    力隔壁4、導波管3および導波管端壁3eで受止める構
    造としたことを特徴とする高圧力流体のマイクロ波加熱
    装置。
  2. (2)、前記の圧力隔壁4及び誘電体充填材5として使
    用する材料の比誘電率に応じて、金属外殻を構成する導
    波管3の内寸法を設定し、導波管3の中空部10と圧力
    隔壁4と誘電体充填部のインピーダンスの整合をとる方
    法、 もしくは導波管3の中空部10と誘電体充填部とが、同
    一インピーダンスとなるように、導波管の内寸法を比誘
    電率に応じて変えたうえで、圧力隔壁4の前面と後面の
    界面7、8で反射する波の位相が逆位相で相殺し合い、
    無反射となるような厚さ寸法の圧力隔壁で整合させる方
    法、 のいずれかで反射損失を低減させ、高圧の流体を効率良
    く加熱させることを特徴とした特許請求の範囲第(1)
    項記載の高圧力流体のマイクロ波加熱装置。
JP700286A 1986-01-16 1986-01-16 高圧力流体のマイクロ波加熱装置 Granted JPS62165894A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP700286A JPS62165894A (ja) 1986-01-16 1986-01-16 高圧力流体のマイクロ波加熱装置
DE8787300245T DE3769480D1 (de) 1986-01-16 1987-01-13 Mikrowellenheizvorrichtung.
EP87300245A EP0229708B1 (en) 1986-01-16 1987-01-13 Microwave heating device
US07/003,846 US4760228A (en) 1986-01-16 1987-01-16 Microwave heating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP700286A JPS62165894A (ja) 1986-01-16 1986-01-16 高圧力流体のマイクロ波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62165894A true JPS62165894A (ja) 1987-07-22
JPH0151870B2 JPH0151870B2 (ja) 1989-11-07

Family

ID=11653873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP700286A Granted JPS62165894A (ja) 1986-01-16 1986-01-16 高圧力流体のマイクロ波加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62165894A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002113349A (ja) * 2000-10-11 2002-04-16 Shikoku Instrumentation Co Ltd 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置
JP2008045789A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Mino Ceramic Co Ltd 連続焼成装置
JP2008045783A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 National Institutes Of Natural Sciences 連続焼成炉及び連続焼成方法
JP2008226510A (ja) * 2007-03-09 2008-09-25 Hitachi Ltd マイクロ波加熱装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002113349A (ja) * 2000-10-11 2002-04-16 Shikoku Instrumentation Co Ltd 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置
JP4636663B2 (ja) * 2000-10-11 2011-02-23 四国計測工業株式会社 高温高圧容器への化学反応促進用マイクロ波供給装置
JP2008045789A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Mino Ceramic Co Ltd 連続焼成装置
JP2008045783A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 National Institutes Of Natural Sciences 連続焼成炉及び連続焼成方法
JP2008226510A (ja) * 2007-03-09 2008-09-25 Hitachi Ltd マイクロ波加熱装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0151870B2 (ja) 1989-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2438915A (en) High-frequency terminating impedance
CN108376839A (zh) 一种基于液态金属微流控的超材料及其制备方法
Chen et al. Liquid RF MEMS wideband reflective and absorptive switches
Mazouchi et al. Thermocapillary migration of long bubbles in cylindrical capillary tubes
US4040478A (en) External tube artery flexible heat pipe
JPS62165894A (ja) 高圧力流体のマイクロ波加熱装置
US3701058A (en) Fluidic phase shifter
FR2550017A1 (fr) Charge calorimetrique a micro-ondes
US2981907A (en) Electromagnetic wave attenuator
WO2021017574A1 (zh) 一种红外线滤波器
AU711623B2 (en) An optical switch
JP5559127B2 (ja) マイクロ波加熱装置、及びこれを用いた画像定着装置
CN107039721B (zh) 基于新型螺旋缺陷结构的小型化均衡器
Aron et al. Weakly compact multilinear mappings
US3676809A (en) Thin film microwave iris
JP2010050653A (ja) バンドパスフィルタ及びその設計方法
CN108400448A (zh) 糖果型超材料吸波器
CN109887898A (zh) 一种基于超声换能器的电子器件散热装置
US3221275A (en) Variable directional coupler utilizing specially shaped coupling aperture, used as non-dissipative microwave attenuator
US5449407A (en) Expansion compensated precision extrusion apparatus
Zeitoun Correlations of shock Mach number attenuation in small size diameter tubes
Utkin et al. The Effect of Specular Reflectances on the Interaction of an Electromagnetic E Wave with a Thin Metal Film Placed between Two Dielectric Media
JPH0158681B2 (ja)
Enyutin et al. Drag reduction in riblet-lined pipes
US2996686A (en) Adjustable wave guide reflection end