JP4625617B2 - 液晶表示装置及びその駆動方法 - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示装置及びその駆動方法に関する。
液晶表示装置(LCD)は、電界生成電極と偏光板を有する2枚一対の表示板と、2枚の表示板の間に入っていて電界生成電極により形成された電界が印加される誘電率異方性液晶層を含む。液晶層分子の長軸は、表示板に形成された無電界配向方向と電界方向の力が釣り合う方向に配列しようとする性質があるので、電界強さが変化すれば分子の方向もやはり変化する。液晶表示装置は偏光板を通った特定方向の偏光成分が多い光を液晶層に通過させ液晶分子の配列方向に応じて再偏光させることによって通過光の偏光方向を変える。偏光方向の変化は出力側偏光板によって透過率変化に変換されるので、これを利用して明暗や色を調整し所望の画像を得る。
液晶表示装置の視野角は狭いが、ねじれ配列されたネマチック液晶を含むTN液晶表示装置は多様な長所のために広く用いられている。しかし、狭い視野角のためモニターやテレビ分野にその範囲を広める上で限界を持っている。
液晶表示装置の視野角を広げるために多重ドメイン、補償フィルムなど多様な技術が開発されている。特に、WV(wide viewing)フィルムという補償フィルムを適用すれば、左右方向では他の広視野角技術に比べて短所の少ない視野角特性を実現することができる。しかし、上下方向では階調反転問題が依然として残り、ノーマリーブラックモード液晶表示装置を使う時に、階調電圧を上げると増加しなければならない輝度がむしろ減少したり、ノーマリーホワイトモード液晶表示装置では、その明暗が反転するので、特に下側の階調反転が非常に深刻な問題になっている。
また、多重ドメイン液晶表示装置の場合、正面のガンマ曲線と側面のガンマ曲線が一致しない現象が発生して、通常のTNモード液晶表示装置に比べても左右側面で劣等な視認性を示す。例えば、ドメインを形成するための切開部を備えるPVA(patterned vertically aligned)モード液晶表示装置の場合には、側面に向かうほど全体的に画面が明るく見え、白い側に色相が移動する傾向があり、激しい場合には高い階調間の明暗差がなくなって画面が崩れるように見える場合も発生する。
多重ドメイン液晶表示装置に生じ易い階調反転および色相変化の軽減を主課題とし、主課題解決のための装置構造が有する副次的な問題点の動作速度低下、輝度低下、フリッカー発生など諸問題の軽減を副課題とする。
行方向に配置されている複数のゲート線と、列方向に配置され、前記ゲート線と交差して互いに平行な複数のデータ線前記ゲート線及び前記データ線と連結されている複数の画素電極とを含み、前記画素電極は第1及び第2の側面に前記データ線が隣接し、列方向に互いに隣接した画素電極は、前記第1または前記第2の側のデータ線に少なくとも一つの行単位に交互に連結されており、行方向に隣接した画素電極は互いに異なる極性のデータ信号が印加され、列方向に隣接した画素電極には同一極性のデータ信号が印加されることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
発明2は、前記各画素は二つの小画素を含み、前記小画素の各々は一つのスイッチング素子を備える。
発明3は、前記画素のうちの列方向に隣接した二つの画素が容量性結合されている。
発明4は、複数の行と複数の列からなる行列形態で配列されている複数の画素、複数のゲート線、そして複数のデータ線を備える液晶表示板組立体を含み、前記データ線の本数は、前記列の本数より少なくとも一つ多く、前記複数のデータ線は前記液晶表示板組立体内で分離されており、前記複数のデータ線のうち、行方向での一番目のデータ線と最後のデータ線とは互いに連結されており、前記各画素は一つのゲート線に連結されていて二つのデータ線に隣接しており、前記各列の画素は前記隣接した二つのデータ線に少なくとも一つの行を単位にして交互に連結されていることを特徴とする。
発明5は、前記画素は二つの小画素を含み、前記小画素の各々は一つのスイッチング素子を備えることを特徴とする。
発明6は、前記列方向に隣接した二つの画素は容量性結合されていることを特徴とする。
発明7は、前記行方向での一番目のデータ線と前記最後のデータ線には同一極性のデータ信号が供給されることを特徴とする。
発明8は、前記データ線に各々連結された複数の出力端子を有し前記一番目のデータ線と前記最後のデータ線に電気的に連結されている第1出力端子を有する第1駆動ICを含む複数のデータ駆動ICをさらに含むことを特徴とする。
発明9は、前記データ駆動ICを駆動する回路要素が備えられている印刷回路基板と、前記印刷回路基板と前記液晶表示板組立体を連結し、前記データ駆動ICが装着されており、前記第1駆動ICの第1出力端子と連結されている第1信号線及び前記一番目のデータ線に連結されている第2信号線を備える第1及び第2可撓性印刷回路基板をさらに含み、前記印刷回路基板には、前記第1及び第2信号線とを電気的に連結する第3信号線が備えられており、前記第1出力端子は前記第1信号線、第2信号線及び第3信号線を介して前記一番目のデータ線と電気的に連結されていることを特徴とする。
発明10は、映像信号と前記映像信号を制御する制御信号を前記データ駆動ICに供給する信号制御部をさらに含み、
前記信号制御部は第1列の画素のうち前記一番目のデータ線に連結されている画素に対する映像信号は最後に供給し、
第1列の画素のうち二番目のデータ線に連結されている画素に対する映像信号は最初に供給することを特徴とする。
本発明により、画素を二つの小画素に分けて一つの画素当り二つのスイッチング素子と二つの液晶蓄電器を形成し、結合蓄電器を使用して縦に隣接する画素を容量性結合した液晶表示装置をドット反転方式で駆動すれば、下側から見る時の階調反転、色相変化を軽減できて前方からの視認性を改善できる。また、本発明に係る液晶表示装置に用いる液晶表示板の画素には、コラム反転方式のデータ線を通じて信号電圧が印加されるが、各画素にはスイッチ操作により、結果的にドット反転方式で電圧を印加できる。更に、スイッチ操作により、各データ線の信号極性をフレーム内不変にできるので、ドット反転方式の画面であっても、データ線の実効伝播速度が向上して、表示装置としての動作速度が向上し、信号電圧の充電損失が減少し、従って輝度が増加して視認性が向上し、フリッカー現象も減って画質が改善される。また、スイッチング素子のオフ電流の極性が変わってクロストーク現象が減って画質が改善される。
添付した図面を参照して本発明の実施例について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な相異なる形態に実現することができ、ここで説明する実施例に限定されない。
図面で多様な層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体にかけて類似な部分に対しては同一な図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の"上に"あるという時、これは他の部分"直上に"ある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。反対に、ある部分が他の部分の"直上に"あるという時には中間に他の部分がないことを意味する。
次に、本発明の実施例による液晶表示装置及びその駆動方法について説明する。
図1は本発明の一つの実施例による液晶表示装置のブロック図であり、図2は本発明の一つの実施例による液晶表示装置の等価回路図である。図3は本発明の一つの実施例による液晶表示装置の概略図である。
図1に示すように、本発明の一つの実施例による液晶表示装置は、液晶表示板組立体300、ゲート駆動部400、データ駆動部500、信号制御部600、駆動電圧生成部700及び階調電圧生成部800を含んでいる。外部から入力される画像信号R、G、Bと制御信号DE、Hsync、Vsync、CLKに応じて信号制御部600で生成される各種信号が他の各部に送られ最終的には、データ駆動部500とゲート駆動部400から液晶表示板組立体300のデータ線D0、…、Dmとゲート線G1、…、Gnに夫々データ信号とゲート信号として伝達される。階調電圧生成部800は、データ駆動部500においてデータ信号を迅速に生成するために使われる階調表示用アナログ電圧群を発生する回路であって、各ブロックの詳細は以下のようである。
液晶表示板組立体300は複数のデータ線(D0-Dm)及びゲート線(G1-Gn)と行列形態に配列された複数の画素を含む。
以下では表示信号線(G1-Gn、D0-Dm)という表現を併用し、これはゲート信号(走査信号とも言う)を伝達する複数のゲート線(G1-Gn)とデータ信号を伝達する複数のデータ線(D0-Dm)の総称として用いられる。ゲート線(G1-Gn)は行方向(横)に伸びていて互いに平行配置されており、データ線(D0-Dm)は列方向(縦)に伸びていて互いに平行配置されている。
表示信号線(G1-Gn、D0-Dm)には、更に、隣接ゲート線(G1-Gn)の中間に位置し、共通電圧(Vcom)を印加される維持電極線131が含まれる。
図2に示すように、各画素(Pi,j)(i=1,2,...,n、j=1,2,...,m)は二つの小画素(P1i,j、P2i,j)からなり、各小画素(P1i,j、P2i,j)はゲート線(G1-Gn)とデータ線(D-Dm)に連結されたスイッチング素子(Q1、Q2)とこれに連結された液晶蓄電器(CLC1、CLC2)及び維持蓄電器(CST1、CST2)を含む。
そして、列方向に隣接した画素は結合蓄電器(Cpp)に容量性結合されているが、ある画素、例えば、画素(Pi,j)の上側小画素(P1i,j)は上側画素(Pi-1、j)の下側小画素(P2i-1,j)と容量性結合されており、下側小画素(P2i,j)は下側画素(Pi+1、j)の上側小画素(P1i+1,j)と容量性結合されている。
また、一つの画素列の各画素は、列に沿って両側に配置された二つのデータ線に交互に連結されている。例えば、j番目画素列の画素のうち画素(Pi,j)は(j-1)番目データ線(Dj-1)に連結されており、その次の画素(Pi+1、j)はj番目データ線(Dj)に連結されている。反面、一つの画素行の全画素は同一方向(左側または右側)のデータ線に連結されている。例えば、i番目画素行の画素は全て左側データ線に連結されており、(i+1)番目画素行の画素は全て右側データ線に連結されている。
このような連結によって、本実施例によるデータ線(D0-Dm)の本数は画素列(第1列―第m列)の本数より一つ多い。
しかし、後述する他の実施例では、一つの画素列の全画素を同一データ線に連結するので、データ線の本数は画素列の本数と同一である。
再び図2を見ると、上方のスイッチング素子(Q1、Q2)は三端子素子であって、その制御端子はゲート線(Gi)に連結されていて、入力端子はデータ線(Dj-1)に、出力端子は液晶蓄電器(CLC1、CLC2)、維持蓄電器(CST1、CST2)及び結合蓄電器(Cpp)に連結されている。
液晶蓄電器(CLC1、CLC2)はスイッチング素子(Q1、Q2)と共通電圧(Vcom)の間に、維持蓄電器(CST1、CST2)はスイッチング素子(Q1、Q2)と維持電極線131の間に連結されている。
画素を二つの小画素に分けて一つの画素当り二つのスイッチング素子と二つの液晶蓄電器を形成し、結合蓄電器を使用して隣接する画素を容量性結合すれば、液晶表示装置を下側から見る時でも階調反転が現れることを防止でき、前方からの視認性が改善される。
次に、図1の駆動電圧生成部700について記すと、これはスイッチング素子(Q1、Q2)を導通させるゲートオン電圧(Von)とスイッチング素子(Q1、Q2)を遮断させるゲートオフ電圧(Voff)などを生成する。
また、階調電圧生成部800は画素の透過率に関連した二組の複数階調電圧を生成する。二組のうちの一組は共通電圧(Vcom)より高い値を有し、他の一組は共通電圧(Vcom)より低い値を有し、夫々正または負の極性と称する。
ゲート駆動部400はスキャン駆動部とも言い、液晶表示板組立体300のゲート線(G1-Gn)に連結されて駆動電圧生成部700からのゲートオン電圧(Von)とゲートオフ電圧(Voff)の組み合わせからなるゲート信号をゲート線(G1-Gn)に印加する。
データ駆動部500はソース駆動部とも言い、組立体300のデータ線(D0-Dm)に連結されて階調電圧生成部800からの階調電圧を選択しデータ信号としてデータ線(D0-Dm)に印加する。
信号制御部600はゲート駆動部400、データ駆動部500及び駆動電圧生成部700などの動作を制御する。
本実施例の信号制御部600、駆動電圧生成部700及び階調電圧生成部800は図3に示す印刷回路基板(PCB)450、550に備えられ、ゲート駆動部400及びデータ駆動部500は各々複数のゲート駆動IC440及びデータ駆動IC541、543、542からなって、可撓性印刷回路(FPC)上に配置されている。
詳細に説明すれば、組立体300の左側にゲートPCB450が備えられており、複数のゲートFPC基板410を通じて組立体300と連結されている。データPCB550は組立体300の上側に位置しており、複数のデータFPC基板511、513、512を通じて組立体300と連結されている。ゲートFPC基板410上にはゲート駆動IC440が各々装着されており、データFPC基板511、513、512上にはデータ駆動IC541、543、542が各々装着されている。そしてデータPCB550とゲートPCB450の間には、また、一つのFPC基板412が付着されている。このFPC基板412にはデータPCB550とゲートPCB450の電気的連結のための複数の信号線(図示せず)が形成されている。
データFPC基板511〜513には複数の信号線521が形成されていてデータ駆動IC541〜543の出力端子を組立体300のデータ線(D0-Dm)に連結する。最右側データ線(Dm)と連結された最右側データ駆動IC542の最後の出力端子はまた、自身が装着された最右側FPC基板512上に形成された信号線522a、データPCB550上に形成されて右端から左端に伸びる信号線522、そして最左側データ駆動IC541が装着された最左側FPC基板511上に形成された信号線522bを通じて最左側データ線、つまり、ダミーデータ線(D0)に連結されている。この時、データPCB550の信号線522の中間または終端には演算増幅器などのような増幅器(図示せず)が備えられて信号線522の配線抵抗などによって最後のデータ駆動IC542の最後の出力端子からダミーデータ線(D0)に供給される電圧が降下することを補償できるようにする。
図3の例とは異なって、ゲート駆動部400及びデータ駆動部500は、チップ形態で組立体300上に装着することもでき、表示信号線(G1-Gn、D0-Dm)及びスイッチング素子(Q1、Q2)と同じ工程で組立体300上に形成することもできる。また、階調電圧生成部800は、データPCB550とデータ駆動IC541、542、543に各々一部分づつ備えることもできる。
本発明の他の実施例では、一つの列の画素が全て同一データ線に連結され、ダミーデータ線(D0)も信号線522、522a、522bも不必要である。
次に、このような液晶表示装置の動作について詳細に説明する。
信号制御部600は外部のグラフィック制御機(図示せず)からRGB映像信号(R、G、B)及びその表示を制御する入力制御信号、例えば、垂直同期信号(Vsync)と水平同期信号(Hsync)、メーンクロック(CLK)、データイネーブル信号(DE)などの提供を受ける。信号制御部600は入力制御信号に基づいてゲート制御信号群(CONT1)及びデータ制御信号群(CONT2)を生成し、映像信号(R、G、B)を液晶表示板組立体300の動作条件に合うように適切に処理した後、ゲート制御信号群(CONT1)をゲート駆動部400に出力してデータ制御信号群(CONT2)と処理した映像信号(R’、G’、B’)をデータ駆動部500に出力する。
ゲート制御信号群(CONT1)は1フレームの開始を知らせる垂直同期開始信号(STV)、ゲートオン電圧(Von)の出力時期を制御するゲートクロック信号(CPV)及びゲートオン電圧(Von)の幅を限定する出力イネーブル信号(OE)などを含む。データ制御信号群(CONT2)は水平周期の開始を知らせる水平同期開始信号(STH)とデータ線(D0-Dm)に当該データ電圧の印加を命令するロード信号(LOADまたはTP)、共通電圧(Vcom)に対するデータ電圧の極性(以下、“共通電圧に対するデータ電圧の極性”を“データ電圧の極性”と言う)を反転させる反転制御信号(RVS)及びデータクロック信号(HCLK)などを含む。
データ駆動部500は信号制御部600からのデータ制御信号(CONT2)によって一回に排出する分量の映像データ(R’、G’、B’)を順次に受信し、階調電圧生成部800からの階調電圧のうち各映像データ(R’、G’、B’)に対応する階調電圧を選択することによって、映像データ(R’、G’、B’)を当該データ電圧に変換する。
ゲート駆動部400は信号制御部600からのゲート制御信号によってゲートオン電圧(Von)をゲート線(G1-Gn)に順次印加して各ゲート線(G1-Gn)に連結されたスイッチング素子(Q1、Q2)を導通させる。
一つのゲート線(Gi)にゲートオン電圧(Von)が印加されてこれに連結されたスイッチング素子(Q1、Q2)が導通している間(この期間を“1H”または“1水平周期”といい、水平同期信号(Hsync)、データイネーブル信号(DE)、ゲートクロック(CPV)の一周期と同一である)、データ駆動部500は各データ電圧を当該データ線(Dj)に供給する。データ線(Dj)に供給されたデータ信号は導通したスイッチング素子(Q1、Q2)を通じて当該画素に印加される。
画素に印加されたデータ電圧と共通電圧(Vcom)の差は液晶蓄電器(CLC1、CLC2)の充電電圧、つまり、液晶を配向させる画素電圧である。液晶分子は画素電圧の大きさによってその方向を変え、これにより液晶蓄電器(CLC1、CLC2)を通過した光の偏光状態が決定される。偏光子(図11aの図面符号11、22)は決定された状態の偏光を光の明暗に変換する。
このような操作を繰り返すことによって、1フレーム内の全てのゲート線(G1-Gn)に対して順次にゲートオン電圧(Von)を印加し全ての画素にデータ信号を印加する。1フレームが終われば次のフレームが始まり、各画素に印加されるデータ電圧の極性が直前フレームでの極性と反対になるように、データ駆動部500に印加される反転制御信号(RVS)の状態が制御される("フレーム反転")。この時、1フレーム内でも反転制御信号(RVS)の制御状況によって一つのデータ線を通って流れるデータ電圧の極性が画素行の行番号によって変わったり(“ライン反転”)、一回に印加されるデータ電圧であっても、画素毎に互いに極性の異なることがある(“ドット反転”)。
以下、図4乃至図6を参照して、本発明の一つの実施例によって液晶表示板組立体にデータ信号を印加する方法を詳細に説明する。
図4は本発明の一つの実施例による液晶表示板組立体の画素とデータ線の連結状態を示した図面であり、図5の(a)と(b)は本発明の一つの実施例による液晶表示装置でデータ駆動部が液晶表示板組立体の隣接したデータ線に印加するデータ信号の波形図である。図6は本発明の一つの実施例による液晶表示装置の信号制御部がデータ駆動部に供給する映像信号(R’、G’、B’)の波形図である。
本実施例の液晶表示装置で同一行の画素は、各画素の左右両側に隣接した二つのデータ線のうち同じ側のデータ線に連結され、隣接した行の画素は反対側データ線に連結されている。特に図4では、奇数行のj番目画素はその右側に位置したj番目データ線(Dj)に、偶数行のj番目画素はその左側に位置した(j-1)番目データ線(Dj-1)に連結されている。
また回路構成は、行方向に隣接した画素に印加されるデータ信号の極性が互いに反対になるように、列方向に隣接した画素に印加されるデータ信号の極性が同一になるように構成されている。このような極性配列を得るためには図5に示したように隣接した二つのデータ線に印加される二つのデータ信号(dj、dj+1)の極性が互いに反対であり、行が変わるたびに各データ信号(dj、dj+1)の極性を変える必要がある。
この時、信号制御部600からデータ駆動部500に供給する映像信号(R’、G’、B’)は図6のようである。まず、奇数番目行に対しては信号制御部600が第1列の映像信号(d1-1, d3-1,…)から最後のm番目列の映像信号(d1-m, d3-m,…)をそのまま順次に供給する。しかし、偶数番目行に対しては、第1列の画素が最後のデータ線(Dm)と連結されたダミーデータ線(D0)に連結されているので、信号制御部600は第2列の映像信号(d2-2, d4-2,…)から開始して最後の列の映像信号(d2-m, d4-m,…)を順次に供給し、次いで一番最後に第1列の映像信号(d2-1, d4-1,…)を供給する。そのために信号制御部600は第1列の映像信号(d2-1, d4-1,…)を一時保存しては一番最後に出力する。
しかし、画素とデータ線の連結位置が図4の例と反対である場合、つまり奇数行のj番目画素がその左側に位置した(j-1)番目データ線(Dj-1)に、偶数行のj番目画素がその右側に位置したj番目データ線(Dj)に連結されている場合には、信号制御部600からデータ駆動部500に供給する映像信号(R’、G’、B’)の印加方式も変わる。つまり奇数番目行に対しては第2列の映像信号(d1-2, d3-2,…)で開始して最後の列の映像信号(d1-m, d3-m,…)を順次に供給し、次いで一番最後に第1列の映像信号(d1-1, d3-m,…)を供給して、偶数番目行の映像信号は第1列の映像信号(d2-1, d4-1,…)から最後のm番目列の映像信号(d2-m, d4-m,…)をそのまま順次に供給する。
このようにすれば、液晶表示板組立体300の画素にはコラム反転方式で電圧が印加されるが、データ線(D0-Dm)にはドット反転方式の電圧を印加すればよいことになる。
一方、本発明の他の実施例によって一つの画素列の全ての画素が同一データ線に連結されている場合、行方向に隣接した画素に印加されるデータ信号の極性は互いに反対とする。列方向に対しては隣接した画素に印加されるデータ信号の極性を反対にするドット反転方式と極性を同一にするコラム反転方法を取ることができる。
ドット反転方式の場合には、隣接した二つのデータ線に印加される二つのデータ信号の極性が互いに反対であり、各データ信号は行が変わるたびに極性を変えなければならない。
一方、コラム反転方式の場合には、隣接した二つのデータ線に印加される二つのデータ信号の極性は互いに反対であるが、一つのデータ線に印加されるデータ信号の極性は全て同一でなければならず、駆動されるゲート線が変化しても当該データ線の信号極性は、同一フレーム内では変化しない。このことは、データ線電圧の変化が少なく、短時間充電でも電圧伝送損失が少ないことを意味する。
この場合、信号制御部600からデータ駆動部500に供給される映像信号の順序を変える必要がない。つまり、全ての行に対して第1列の映像信号(d1-1, d2-1,…)から最後のm番目列の映像信号(d1-m, d2-m,…)をそのまま順次に供給すればよい。
図4に示した画素とデータ線の連結構造は前記の例と比較する時、次のような長所がある。特に、一つの画素が二つのスイッチング素子を有しながら画素が結合蓄電器に容量性結合されている液晶表示板組立体300の画素にコラム反転を適用すれば、ドット反転を適用する時より輝度が増加して視認性が向上し、フリッカー現象も減る。また、データ線に対するドット反転はそのまま維持されるので、同一データ線に連結されたスイッチング素子のオフ電流の極性が変わってクロストーク現象が減少する。
次に、図7乃至図9を参照して本発明の他の実施例によって液晶表示板組立体にデータ信号を印加する方法について詳細に説明する。
図7は本発明の他の実施例による液晶表示板組立体の画素とデータ線の連結状態を示した図面であり、図8の(a)と(b)は本発明の他の実施例による液晶表示装置でデータ駆動部が液晶表示板組立体の隣接したデータ線に印加するデータ信号の波形図である。図9は本発明の他の実施例による液晶表示装置の信号制御部がデータ駆動部に供給する映像信号(R’、G’、B’)の波形図である。
本発明の他の実施例による画素とデータ線の連結関係は図4に示した実施例と比較する時、二行おきに画素とデータ線(D0-Dm)の連結位置が変わるという点が相異なる。つまり、直前二行のj番目画素がj番目データ線(Dj)に連結されていれば、次の二行のj番目画素は(j-1)番目データ線(Dj-1)に連結されている。図7に示したように、(4k+1)(k=0、1、2,...)番目行と(4k+2)番目行のj番目画素はその右側に位置したj番目データ線(Dj)に連結され、(4k+3)番目行と(4k+4)番目行のj番目画素はその左側に位置したデータ線(Dj-1)に連結されている。
図7に示したように、極性配列は図4に示したことと同一である。つまり、行方向に隣接した画素に印加されるデータ信号の極性は互いに反対であり、列方向に隣接した画素に印加されるデータ信号の極性は同一である。このような極性配列を得るためには図8に示したように隣接した二つのデータ線に印加される二つのデータ信号(djdj+1)の極性は互いに反対であり、各データ信号(dj、dj+1)は二行おきに極性を変えなければならない。
図9は信号制御部600からデータ駆動部500に供給する映像信号(R’、G’、B’)を示している。(4k+1)番目行及び(4k+2)番目行、つまり、第1、第2、第5番目、第6番目などの行に対しては、信号制御部600が第1列の映像信号(d1-1, d2-1,…)から最後のm番目列の映像信号(d1-m, d2-m,…)をそのまま順次に供給する。その後、(4k+3)番目行及び(4k+4)番目行、つまり、第3、第4番目、第7番目、第8番目などの行に対して信号制御部600は第2列の映像信号(d3-2, d4-2,…)から開始して最後の列の映像信号(d3-m, d4-m,…)を順次に供給し、一番最後に第1列の映像信号(d3-1, d4-1,…)を引き続き供給する。そのために信号制御部600は第1列の映像信号(d3-1, d4-1,…)を一時保存しては一番最後に出力する。
しかし、画素とデータ線の連結位置が図7の例と反対である場合、つまり、(4k+1)番目行と(4k+2)番目行のj番目画素がその左側に位置した(j-1)番目データ線(Dj-1)に、(4k+3)番目行と(4k+4)番目行のj番目画素はその右側に位置したj番目データ線(Dj)に連結されている場合には信号制御部600からデータ駆動部500に供給する映像信号(R’、G’、B’)の印加方式も変わる。つまり、(4k+1)番目行及び(4k+2)番目行に対しては、信号制御部600が第2列の映像信号(d1-2, d2-2,…)から開始して最後の列の映像信号(d1-m, d2-m,…)を順次に供給し、一番最後に第1列の映像信号(d1-1, d2-1,…)を引き続き供給し、(4k+3)番目行から(4k+4)番目行に対して信号制御部600は第1列の映像信号(d3-1, d4-1,…)から最後のm番目列の映像信号(d3-m, d4-m,…)をそのまま順次に供給する。
その結果、液晶表示板組立体300の画素にはコラム反転が適用されるが、データ線(D0-Dm)に対しては2ドット反転が適用される。
画素とデータ線の連結位置は3個以上の行単位で変えることができる。
以下、図10乃至図11cを参照して本発明の一つの実施例による液晶表示装置用液晶表示板組立体について詳細に説明する。
図10は本発明の一つの実施例による液晶表示板組立体の配置図であり、図11aは図10に示した液晶表示板組立体をXIB-XIB’線に沿って切って示した断面図であり、図11bは図11aの液晶表示板組立体で色フィルター表示板と偏光板を除いた薄膜トランジスタ表示板の断面図である。また、図11cは図10の薄膜トランジスタ表示板をXIC-XIC’線に沿って切って示した断面図である。
図11aを参照すれば、本実施例による液晶表示板組立体は互いに対向している薄膜トランジスタ表示板100と色フィルター表示板200及びその間に注入されている液晶層3からなる。
図10乃至図11cを参照すれば、薄膜トランジスタ表示板100はガラスなどの透明な絶縁基板110上に形成されている複数のゲート線121及び複数の維持電極線131を含む。各ゲート線121は主に行方向に伸びており、複数のゲート電極124を暗黙の構造として含む。維持電極線131は全体的に行方向に伸びているが、部分的に屈曲をなしている。
ゲート線121と維持電極線131上にはゲート絶縁膜140が形成されており、ゲート電極124上部のゲート絶縁膜140上には、互いに分離・独立した、複数の島型半導体154が形成されている。島型半導体154は非晶質シリコンなどからなり、対になった2個の薄膜トランジスタのために、ソース、チャンネルおよびドレイン対を構成する。島型半導体154上にはリン(P)などのN型不純物が高濃度でドーピングされている非晶質シリコンからなる複数の抵抗性接触部材163、165a、165bが形成されている。
抵抗性接触部材163、165a、165b及びゲート絶縁膜140上には、複数のドレーン電極対175a、175b、複数の結合電極177及び暗黙の構造としてソース電極173を含んだ複数のデータ線171が形成されている。
各データ線171は主に列方向に伸びており、複数のソース電極173を暗黙的に含む。ソース電極173は、各々ゲート電極124に対して一対のドレーン電極175a、175bから分離されて反対側に位置する。ソース電極173は行別に交互にその位置が画素の左側または右側に変わる。したがって、ソース電極173の位置はその前の行のソース電極173とほとんど左右対称関係を有する。
一対のドレーン電極175a、175bの各端は各々ゲート線121を中心にして上下に伸びている。
各結合電極177は維持電極線131を横切って列方向に伸びている。
ソース電極173とドレーン電極対175a、bの間に位置した島型半導体154部分が露出されており、抵抗性接触部材163、165a、165bは半導体154とデータ線171、ドレーン電極175a、175bが重複する部分にだけ位置する。
データ線171、ドレーン電極175a、175bと結合電極177及び露出された半導体154部分上には保護膜180が形成されている。保護膜180はドレーン電極175a、175bの一端を各々露出する複数の接触孔183a、183bと結合電極177の一端を露出する複数の接触孔187を有している。保護膜180はまた、データ線171の一端部分179を露出する複数の接触孔182を有しており、保護膜180とゲート絶縁膜140はゲート線121の一端部分129を露出する複数の接触孔181を有している。
保護膜180上には複数対の画素電極190a、190bと複数の接触補助部材91、92が形成されている。画素電極190a、190bと接触補助部材91、92はITOまたはIZOなどの透明な導電物質または反射性導電物質(反射型LCDの場合)からなる。
各対の画素電極190a、190bは接触孔183a、183bを通じてドレーン電極175a、175bと各々連結されている。上側画素電極190bは接触孔187を通じて結合電極177と連結されており、下の画素電極190aは結合電極177と重なっていて、上側画素の下側画素電極190aと下側画素の上側画素電極190bが容量性結合されている。また、上側画素の下側画素電極190aと下側画素の上側画素電極190bは維持電極線131を隔てて対向しており、各々維持電極線131と重複して維持蓄電器を構成する。画素電極190a、190bが隣接する辺はV字型で折れているが、画素電極190aの辺は膨らんで画素電極190bの辺は凹んでいる。
一方、下側画素電極190aは上下及び中央の3個の線状切開部191、192、193を有する。中央切開部193は画素電極190aの列方向中央に位置し、左から右に切り込んで画素電極190aを上部と下部の二つの部分に分ける。上部及び下部切開部191、192は各々画素電極190aの上部及び下部に斜線方向に伸びており、中央切開部193を中心にして互いにほとんど対称をなしている。
接触補助部材91、92は接触孔181、182を通じて各々ゲート線121及びデータ線171の端部129、179と連結されているが、これらはゲート線121及びデータ線171の露出された端部129、179を保護するために備えられたものにすぎず、必須のものではない。
接触補助部材91、92付近を除いた薄膜トランジスタ表示板100全面に配向膜11が形成されている。
一つのゲート電極124、一つのソース電極173及び一対のドレーン電極175a、175bは半導体154と共に画素電極190a、190bに各々連結された一対の薄膜トランジスタを構成する。
図10及び図11aを参照すれば、色フィルター表示板200はガラスなどの透明な絶縁基板210上に形成されているブラックマトリックス220を含む。ブラックマトリックス220は複数の切開窓を定義し、各切開窓には複数の赤、緑、青色フィルター230が形成されている。色フィルター230上にはオーバーコート膜250が形成されており、オーバーコート膜250上には共通電極270が形成されている。共通電極270はITOやIZOなどの透明な導電物質からなり、4個の線状切開部271、272、273、274を有する。このうち3個の切開部271、272、273は下側画素電極190aと重複する位置に配置されて切開部191、192、193と共に画素電極190aを複数の小領域に区画しており、切開部274はV字型で上側画素電極190bと重なってこれを上下に2分している。色フィルター表示板200全面には配向膜21が形成されている。
この時、切開部191、192、193と切開部271、272、273によって区画された各小領域は実質的に四角形をなし、その二つの長辺はゲート線121とデータ線171に対して約45゜をなしている。上側画素電極190bの境界と切開部274に区画される小領域はV字型であるが、 二つの四角形領域が連結されたことを見れば、これもやはり四角形領域にみることができる。
二つの基板110、210の外側には各々偏光板12、22が付着されている。この時、これら偏光板12、22の偏光軸はゲート線121またはデータ線171と平行しており、互いに直交するように配置される。
液晶層3の液晶分子は電界が印加されない状態で二つの表示板100、200に対してほとんど垂直に配向されている。
次に、図12a乃至図15cを図10乃至図11cと共に参照して、本発明の一つの実施例によって図10乃至図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法について具体的に説明する。
まず、図12a乃至図12cに示したように、ガラス基板110上部に複数のゲート線121及び複数の維持電極線131を形成する。
次に、図13a乃至図13cに示したように、窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜140、非晶質シリコンからなる半導体層、ドーピングされた非晶質シリコン層を連続して積層し、ドーピングされた非晶質シリコン層及び半導体層を各々複数の島型164、154にパターニングする。ここで、島型とは各パターンが互いに連結されていない状態をいう。
次に、図14a乃至図14cに示したように、複数の結合電極177及び複数のデータ線171、複数のドレーン電極対175a、175bを形成した後、データ線171、ドレーン電極対175a、175b及び結合電極177で覆われずに露出したドープ済み非晶質シリコン層164部分を除去しその下の島型半導体154の一部を露出させる。その後、露出された島型半導体154の表面を安定化するために酸素プラズマを実施するのが好ましい。
次に、図15a乃至図15cのように、窒化ケイ素または平坦化特性が優れていて感光性を有する有機物質を基板110上部にコーティングしたりPECVDで蒸着して保護膜180を形成する。その後、保護膜180をゲート絶縁膜140と共に写真エッチングして、ゲート線121及びデータ線171の端部129、179、ドレーン電極175a、175b、結合電極177を各々露出する複数の接触孔181、182、183a、183b、187を形成する。
次に、図10、図11b及び図11cのように、透明導電物質を蒸着し写真エッチングして複数の画素電極190a、190b及び複数の接触補助部材91、92を形成する。画素電極190a、190bは接触孔183a、183bを通じてドレーン電極対175a、175bと連結され、接触孔187を通じて結合電極177と連結される。接触補助部材91、92は各々接触孔181、182を通じてゲート線121及びデータ線171の露出された端部129、179と連結される。
最後に、表示板100の全面に配向膜11を塗布し必要な配向処理をする。
次に、図16乃至図17bを参照して本発明の他の実施例による液晶表示板組立体について詳細に説明する。
図16は本発明の他の実施例による液晶表示板組立体の配置図であり、図17a及び図17bは各々図16に示した液晶表示板組立体の薄膜トランジスタ表示板をXVIIA-XVIIA’線とXVIIB-XVIIB’線に沿って切って示した断面図である。
本実施例の液晶表示板組立体もまた薄膜トランジスタ表示板100、色フィルター表示板200及びその間の液晶層3を含む。
薄膜トランジスタ表示板100はガラスなどの透明な絶縁基板110上に形成された複数のゲート線121と複数の維持電極線131を含む。各ゲート線121は主に行方向に伸びており、ゲート電極124をなす複数の突出部を含む。各維持電極線131はゲート線121とほとんど平行に伸びており、複数の維持線を有することもできる。
ゲート線121と維持電極線131上にはゲート絶縁膜140が形成されており、ゲート絶縁膜140上には非晶質シリコンからなる複数の線状及び島型半導体151、157が形成されている。線状半導体とはデータ線の下側などに残留する細長い半導体部分を意味し、線状半導体151の一部154a、154bはゲート電極124と重複して薄膜トランジスタのチャンネル部を形成する。チャンネル部は、ソース173と各ドレイン175a,175bとの間にあり、縦方向のチャンネル長が横方向のチャンネル幅よりも短くなって、大電流スイッチに適した構造である。半導体151、157上にはシリサイドまたはリンなどのN型不純物が高濃度でドーピングされた非晶質シリコンからなる複数の線状及び島型抵抗性接触部材161、165a、165b、167が形成されている。
接触部材161、165a、165b、167上には各々複数のデータ線171、複数対のドレーン電極175a、175b及び複数の結合電極177が形成されている。各データ線171は線状半導体151に沿って伸びており、それから突出していてゲート線121上に位置した複数のソース電極173を含む。一対のドレーン電極175a、175bはソース電極173両側に各々配置されていて、それぞれの端はゲート線121を中心にして上下に伸びている。
各結合電極177はほとんど行方向に伸びており、維持電極線131と一部が重なっている。
抵抗性接触部材161、165a、165b、167は半導体151、157とデータ線171、ドレーン電極175a、175b及び結合電極177が重複する部分にだけ位置する。
データ線171とドレーン電極175a、175bは各々線状及び島型抵抗性接触部材161、165a、165bと実質的に同一な平面模様を有し、線状半導体151はデータ線171とドレーン電極175a、175bの間に位置したチャンネル部154a、154bを除くとデータ線171及びドレーン電極175a、175bと実質的に同一な平面模様を有する。結合電極177は島型抵抗性接触部材167及び島型半導体157と実質的に同一な平面模様を有する。ただし、データ線などと線状半導体が 同一平面模様を有する必然性があるわけではない。使用するプロセスにより異なるが、後述のプロセス例のように、一致する場合が多いだけである。
データ線171、ドレーン電極175a、175b、結合電極177、そして線状半導体151のチャンネル部154a、154b上には窒化ケイ素または有機絶縁体からなる保護膜180が形成されている。
保護膜180はドレーン電極175a、175bの一端(端部接続領域)を各々露出する複数の接触孔183a、183bと結合電極177の一端を露出する複数の接触孔187を有している。保護膜180はまた、データ線171の一端部分179を露出する複数の接触孔182を有しており、保護膜180とゲート絶縁膜140はゲート線121の一端部分129を露出する複数の接触孔181を有している。
保護膜180上には複数対の画素電極190a、190bと複数の接触補助部材91、92が形成されている。画素電極190a、190bと接触補助部材91、92はITOまたはIZOなどの透明な導電物質または反射性導電物質からなる。
各対の画素電極190a、190bは接触孔183a、183bを通じてドレーン電極175a、175bと各々連結されている。ここで下側画素電極190aは接触孔187を通じて結合電極177と連結されており、上側画素電極190bは結合電極177と重なっている。つまり、上側画素の下側画素電極190aと下側画素の上側画素電極190bは結合電極177を媒介としてして容量性結合を構成している。また、上側画素の下側画素電極190aと下側画素の上側画素電極190bは維持電極線131を隔てて対向しており、各々維持電極線131と重複して維持蓄電器を構成する。
一方、下側画素電極190aは行方向に長く伸びている一つの線状切開部191を有している。下側画素電極190aは行方向に伸びた少なくとも一つの線状切開部をさらに有することができ、上側画素電極190bは列方向に伸びた少なくとも一つの線状切開部を有することができる。下側画素電極190aが全体画素電極面積で占める比率は30%〜70%になるのが好ましい。
接触補助部材91、92は接触孔181、182を通じて各々ゲート線121及びデータ線171の端部129、179と連結されている。
接触補助部材91、92付近を除いた薄膜トランジスタ表示板100全面に配向膜11が形成されている。
本実施例による色フィルター表示板200の構造は基本的に図11aに示したことと同一である。つまり、色フィルター表示板200にはブラックマトリックス220、複数の色フィルター230、共通電極270、配向膜21などが形成されている。図10及び図11aと異なる点は、共通電極に具備された複数対の切開部271、272、273の模様と位置である。一対の切開部は列方向に伸びている縦切開部271と行方向に伸びた二つの横切開部272、273を有している。縦切開部271は上側画素電極190bを左右に2分して二つの左右小領域に分割しており、縦切開部272、273は下側画素電極190aの切開部191両側(上下)に位置し、下側画素電極190aを上下に4分する位置にある。
本発明の他の実施例によれば、結合電極177をゲート線121と同一層におく。但し、この場合には維持電極線131が結合電極177に接触しないよう留意しなければならない。
以下、本発明の他の実施例によって図16及び図17aと図17bの構造を有する薄膜トランジスタ表示板を製造する方法について、図18a乃至図20cと共に図16、図17a及び図17bを参照して説明する。
図18a乃至図18cに示したように、透明な絶縁基板110上に複数のゲート線121と複数の維持電極線131を形成する。
窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜140、ドーピングされなかった非晶質シリコンの半導体層150、ドーピングされた非晶質シリコン層160及び金属層170を化学気相蒸着法とスパッタリングなどを利用して各々1500Å乃至5000Å、500Å乃至2000Å、300Å乃至600Å及び1500Å乃至3000Åの厚さで連続蒸着した後、その上に感光膜を1μm乃至2μmの厚さで塗布する。その後、図19b及び図19cに示したように、光マスク(図示せず)を通じて感光膜に光を照射した後、現像する。
感光膜の厚さは位置によって異なるが、例えば、感光膜は厚さが次第に、段階的に、小さくなる第1乃至第3部分からなることができる。図19b及び図19cで、第1部分と第2部分は図面符号212と214で示し、第3部分に対する図面符号は付与しなかったが、これは第3部分の厚さが0、つまり、現像により完全除去されていて、下側の金属層170が露出されているためである。この時、感光膜212、214の厚さの比は後続工程での工程条件に応じて異なるようにしなければならず、第2部分の厚さを第1部分の厚さの1/2以下にするのが好ましく、例えば、4000Å以下であるのがよい。
位置によって感光膜の厚さを異ならせる方法には、多様なものがあり、露光マスクに透明領域と不透明領域だけでなく半透明領域を設けるのがその例である。半透明領域はスリットパターン、格子パターンまたは中間透過率または中間厚さの薄膜を含む。スリットを使用する時にはスリットの幅やスリットの間の間隔が写真工程に使用する露光器の分解能より小さいことが好ましい。他の例としてはリフロー可能な感光膜を用いることである。透明領域と不透明領域だけを備えた通常のマスクを使用してリフローが可能な物質からなる感光膜パターンを形成した後、リフローさせて感光膜が残留しない部分にも流しこみ、厚さを平均化することによって薄い部分を形成する。
適切な工程条件を与えれば、感光膜212、214の厚み差を利用して、下部層を選択的にエッチングすることができる。
したがって、一連のエッチング段階を通じて複数のデータ線171、複数のドレーン電極175a、175b及び複数の結合電極177を形成し複数の線状及び島型抵抗性接触部材161、165a、165b、167及び複数の線状半導体151、167を形成する。
エッチング順序の一例として、作業目的別に必要な要素作業を、図19d乃至19iから選択して、下記に示す。
(1)光膜の第3部分の下の金属層170、ドーピングされた非晶質シリコン層160及び半導体層150除去(図19d乃至図19g)、
(2)感光膜の第2部分214除去(図19f及び図19g)、
(3)感光膜の第2部分214の下の金属層170及びドーピングされた非晶質シリコン層160除去(図19h及び図19i)、そして
(4)感光膜の第1部分212除去。
このような順序の他の例は次の通りである。
(1)感光膜の第3部分の下の金属層170除去、
(2)感光膜の第2部分214除去、
(3)感光膜の第3部分の下のドーピングされた非晶質シリコン層160及び半導体層150除去、
(4)感光膜の第2部分214下の金属層170除去、
(5)感光膜の第1部分212除去、そして
(6)感光膜の第2部分214下のドーピングされた非晶質シリコン層160除去。
感光膜の第2部分214を除去する時、感光膜の第1部分212の厚さが減るが、感光膜の第2部分214の厚さが感光膜の第1部分212より薄いために、下部層が除去されたりエッチングされることを防止する第1部分212が除去されない。
適切なエッチング条件を選択すれば、感光膜の第3部分の下のドーピングされた非晶質シリコン層160及び非晶質シリコン層160部分と感光膜の第2部分214を同時に除去することができる。これと同様に、感光膜の第2部分214下のドーピングされた非晶質シリコン層160部分と感光膜の第1部分212を同時に除去することができる。例えば、SF6とHClの混合気体や、SF6とO2の混合気体を用いれば、ほとんど同一なエッチング率で感光膜と半導体層150(またはドーピングされた非晶質シリコン層160)をエッチングすることができる。
金属層170の表面に感光膜クズが残っていれば、アッシング作業により除去する。
第1例の段階(3)または第2例の段階(4)で、半導体層150をエッチングする時に使用するエッチング気体の例としては、CF4とHClの混合気体やCF4とO2の混合気体があり、CF4とO2を用いると均一な厚さで半導体層150をエッチングすることができる。
図20a乃至図20cに示したように保護膜180を形成し、保護膜180をゲート絶縁膜140と共に写真エッチングしてゲート線121の端部及びデータ線171の端部、ドレーン電極175a、175b、そして結合電極177を各々露出する複数の接触孔181、182、183a、183b、187を形成する。
次に、図16乃至図17bに示したように、500Å乃至1000Å厚さのIZOまたはITOを蒸着し写真エッチングして接触孔183a、183b、187を通じてドレーン電極175a、175b及び結合電極177と各々連結された複数対の画素電極190a、190b、接触孔181、182を通じてゲート線121とデータ線171の露出された端部と接触補助部材91、92を形成する。
以上、本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者のいろいろな変形及び改良形態もまた本発明の権利範囲に属する。
添付した図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明することにより本発明の多様な効果を明らかにする。
本発明の一つの実施例による液晶表示装置のブロック図である。 本発明の一つの実施例による液晶表示装置の等価回路図である。 本発明の実施例による液晶表示装置の概略図である。 本発明の一つの実施例による液晶表示板組立体の画素とデータ線の連結状態を示した図面である。 本発明の一つの実施例による液晶表示板組立体の隣接したデータ線に印加されるデータ信号の波形図である。 本発明の一つの実施例によって信号制御部からデータ駆動部に印加される映像信号の波形図である。 本発明の他の実施例による液晶表示板組立体の画素とデータ線の連結状態を示した図面である。 本発明の他の実施例による液晶表示板組立体の隣接したデータ線に印加されるデータ信号の波形図である。 本発明の他の実施例によって信号制御部からデータ駆動部に印加される映像信号の信号波形図である。 本発明の一つの実施例による液晶表示板組立体の配置図である。 図10の液晶表示板組立体をXIB-XIB’線に沿って切って示した断面図である。 図11aから色フィルター表示板と偏光板を除いた薄膜トランジスタ表示板の断面図である。 図10のXIC-XIC’線に沿って切って示した薄膜トランジスタ表示板の断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の一つの実施例によって図10、図11b及び図11cに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例による液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の配置図である。 図16の薄膜トランジスタ表示板を各々XVIIA-XVIIA’線及びXVIIB-XVIIB’線に沿って切って示した断面図である。 図16の薄膜トランジスタ表示板を各々XVIIB-XVIIB’線及びXVIIB-XVIIB’線に沿って切って示した断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での配置図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。 本発明の他の実施例によって図16、図17a及び図17bに示した薄膜トランジスタ表示板を製造する方法の各過程での断面図である。
符号の説明
3:液晶層
11、21:配向膜
12、22:偏光板
91、92:接触補助部材
100:薄膜トランジスタ表示板
110:絶縁基板
121:ゲート線
124:ゲート電極
129:ゲート線端部
131:維持電極線
140:ゲート絶縁膜
151:線状半導体
154:島型半導体
160:非晶質シリコン層
163、165a、165b:抵抗性接触部材
171:データ線
173:ソース電極
175a、175b:ドレーン電極対
177:結合電極
179:データ線端部
180:保護膜
181、182、183a、183b、187:接触孔
190a、190b:画素電極
191、192、193:線状切開部
200:色フィルター表示板
210:絶縁基板
212:第1部分
214:第2部分
220:ブラックマトリックス
230:色フィルター
250:オーバーコート膜
270:共通電極
271、272、273、274:線状切開部
300:液晶表示板組立体
400:ゲート駆動部
410:ゲートFPC基板
440:ゲート駆動IC
450、550:印刷回路基板
511、513、512:データFPC基板
522、522a、522b:信号線
541、542、543:データ駆動IC
500:データ駆動部
600:信号制御部
700:駆動電圧生成部
800:階調電圧生成部
CONT1:ゲート制御信号
CONT2:データ制御信号
CLC1、CLC2:液晶蓄電器
CST1、CST2:維持蓄電器
Cpp:結合蓄電器
D-Dm:データ線
G-Gn:ゲート線
Pi,j:画素
Vcom:共通電圧
Von:ゲートオン電圧
Voff:ゲートオフ電圧
Q1、Q2:スイッチング素子

Claims (10)

  1. 行方向に配置されている複数のゲート線と、
    列方向に配置され、前記ゲート線と交差して互いに平行な複数のデータ線と、
    前記ゲート線及び前記データ線と連結されている複数の画素電極とを含み、
    前記画素電極は第1及び第2の側面に前記データ線が隣接し、
    列方向に互いに隣接した画素電極は、前記第1または前記第2の側面のデータ線に少なくとも一つの行単位に交互に連結されており、
    行方向に隣接した画素電極は互いに異なる極性のデータ信号が印加され、列方向に隣接した画素電極には同一極性のデータ信号が印加されることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記各画素は二つの小画素を含み、前記小画素の各々は一つのスイッチング素子を備えることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記画素のうちの列方向に隣接した二つの画素が容量性結合されていることを特徴とする、請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 複数の行と複数の列からなる行列形態で配列されている複数の画素、複数のゲート線、そして複数のデータ線を備える液晶表示板組立体を含み、
    前記データ線の本数は、前記列の本数より少なくとも一つ多く、
    前記複数のデータ線は前記液晶表示板組立体内で分離されており、
    前記複数のデータ線のうち、行方向での一番目のデータ線と最後のデータ線とは互いに連結されており、
    前記各画素は一つのゲート線に連結されていて二つのデータ線に隣接しており、
    前記各列の画素は前記隣接した二つのデータ線に少なくとも一つの行を単位にして交互に連結されていることを特徴とする液晶表示装置。
  5. 前記画素は二つの小画素を含み、前記小画素の各々は一つのスイッチング素子を備えることを特徴とする、請求項4に記載の液晶表示装置。
  6. 前記列方向に隣接した二つの画素は容量性結合されていることを特徴とする、請求項4に記載の液晶表示装置。
  7. 前記行方向での一番目のデータ線と前記最後のデータ線には同一極性のデータ信号が供給されることを特徴とする、請求項4に記載の液晶表示装置。
  8. 前記データ線に各々連結された複数の出力端子を有し前記一番目のデータ線と前記最後のデータ線に電気的に連結されている第1出力端子を有する第1駆動ICを含む複数のデータ駆動ICをさらに含むことを特徴とする、請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. 前記データ駆動ICを駆動する回路要素が備えられている印刷回路基板と、
    前記印刷回路基板と前記液晶表示板組立体を連結し、前記データ駆動ICが装着されており、前記第1駆動ICの第1出力端子と連結されている第1信号線及び前記一番目のデータ線に連結されている第2信号線を備える第1及び第2可撓性印刷回路基板をさらに含み、
    前記印刷回路基板には、前記第1及び第2信号線とを電気的に連結する第3信号線が備えられており、前記第1出力端子は前記第1信号線、第2信号線及び第3信号線を介して前記一番目のデータ線と電気的に連結されていることを特徴とする、請求項8に記載の液晶表示装置。
  10. 映像信号と前記映像信号を制御する制御信号を前記データ駆動ICに供給する信号制御部をさらに含み、
    前記信号制御部は第1列の画素のうち前記一番目のデータ線に連結されている画素に対する映像信号は最後に供給し、
    第1列の画素のうち二番目のデータ線に連結されている画素に対する映像信号は最初に供給することを特徴とする、請求項8に記載の液晶表示装置。
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