JP4587456B2 - 光半導体装置 - Google Patents
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Description
次に、本発明の第1実施形態による光半導体装置を図1乃至図5を用いて説明する。図2は、本実施形態による光半導体装置を示す断面図である。
次に、本実施形態による光半導体装置の製造方法を図3乃至図5を用いて説明する。図3乃至図5は、本実施形態による光半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
次に、本実施形態による光半導体装置の変形例(その1)を図6を用いて説明する。図6は、本変形例による光半導体装置を示す概念図である。なお、図6(a)は、微量元素が存在している箇所の上方に量子ドットが形成される場合を示している。図6(b)は、微量元素が存在している箇所の上方を避けるように量子ドットが形成される場合を示している。
次に、本実施形態による光半導体装置の変形例(その2)を図7を用いて説明する。図7は、本変形例による光半導体装置を示す概念図である。なお、図7(a)は、微量元素が存在している箇所の上方に量子ドットが形成される場合を示している。図7(b)は、微量元素が存在している箇所の上方を避けるように量子ドットが形成される場合を示している。
次に、本実施形態による光半導体装置の変形例(その3)を図8を用いて説明する。図8は、本変形例による光半導体装置を示す概念図である。
次に、本実施形態による光半導体装置の変形例(その4)を図9を用いて説明する。図9は、本変形例による光半導体装置を示す断面図である。
本発明の第2実施形態による光半導体装置を図10乃至図12を用いて説明する。図10は、本実施形態による光半導体装置を示す断面図である。図1乃至図9に示す第1実施形態による光半導体装置及びその製造方法と同一の構成要素には、同一の符号を付して説明を省略または簡潔にする。
まず、本実施形態による光半導体装置を図10を用いて説明する。図10では、本実施形態による光半導体装置の活性層を主として示している。活性層以外の構成要素については、例えば第1実施形態による光半導体装置と同様とすることができる。
次に、本実施形態による光半導体装置の製造方法を図11及び図12を用いて説明する。図11及び図12は、本実施形態による光半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
本発明は上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
前記下地層の少なくとも表層部に、前記下地層の構成元素とイオン半径が異なる微量元素が存在しており、
前記微量元素の存在により前記表層部に生ずる局所的な歪により、前記量子ドットが形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。
前記局所的な歪は、引っ張り歪である
ことを特徴とする光半導体装置。
前記局所的な歪は、圧縮歪である
ことを特徴とする光半導体装置。
前記微量元素は、1×108〜1×1014cm−2の面密度で存在しており、
前記量子ドットは、1×108〜1×1012cm−2の面密度で形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。
前記微量元素は、1×1011〜1×1014cm−2の面密度で存在しており、
前記量子ドットは、1×1011〜1×1012cm−2の面密度で形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。
前記微量元素は、前記下地層の表面から1〜5原子層の範囲に存在している
ことを特徴とする光半導体装置。
前記下地層は、InGaAs、GaAs又はInGaAsPより成る
ことを特徴とする光半導体装置。
前記微量元素は、Si、Zn、Se、S、B、Al、N、P、Sb又はInより成る
ことを特徴とする光半導体装置。
前記量子ドットは、InAsより成る
ことを特徴とする光半導体装置。
前記下地層の前記表層部に、前記下地層の構成元素及び前記微量元素のいずれともイオン半径が異なる、更に他の微量元素が存在しており、
前記微量元素と前記他の微量元素との存在により前記表層部に生ずる局所的な歪に応じて、前記量子ドットが形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。
前記下地層を形成する工程では、前記下地層の構成元素を含む原料を用いて前記下地層を成長し;前記下地層の構成元素を含む前記原料と、前記下地層の構成元素に対してイオン半径が異なる微量元素を含む他の原料とを用いて、前記下地層を更に成長する
ことを特徴とする光半導体装置の製造方法。
前記下地層を形成する工程では、前記下地層の構成元素を含む原料を用いて前記下地層を成長し;前記下地層の構成元素に対してイオン半径が異なる微量元素を含む他の原料を用いて、前記下地層の表層部に前記微量元素を導入する
ことを特徴とする光半導体装置の製造方法。
前記下地層の構成元素とイオン半径が異なる微量元素を、前記下地層の少なくとも表層部に導入する工程と、
前記下地層上に量子ドットを成長する工程と
を有することを特徴とする光半導体装置の製造方法。
12…バッファ層
14…下部クラッド層
16…下地層
18、18a、18b…微量元素
19…量子ドット層
20…量子ドット
22…キャップ層
24…活性層
26…上部クラッド層
28…コンタクト層
30…上部電極
32…下部電極
34…埋め込み層
34a…InP層
34b…InP層
36…フォトレジスト膜
38…開口部
Claims (5)
- 下地層上に形成された量子ドットを有する光半導体装置であって、
前記下地層の少なくとも表層部に、前記下地層の構成元素とイオン半径が異なる微量元素が存在しており、
前記微量元素の各原子によって前記表層部にそれぞれ生ずる局所的な歪により、前記量子ドットがそれぞれ形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1記載の光半導体装置において、
前記微量元素は、1×108〜1×1014cm−2の面密度で存在しており、
前記量子ドットは、1×108〜1×1012cm−2の面密度で形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項2記載の光半導体装置において、
前記微量元素は、1×1011〜1×1014cm−2の面密度で存在しており、
前記量子ドットは、1×1011〜1×1012cm−2の面密度で形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光半導体装置において、
前記微量元素は、前記下地層の表面から1〜5原子層の範囲に存在している
ことを特徴とする光半導体装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光半導体装置において、
前記下地層の前記表層部に、前記下地層の構成元素及び前記微量元素のいずれともイオン半径が異なる、更に他の微量元素が存在しており、
前記微量元素と前記他の微量元素との存在により前記表層部に生ずる局所的な歪に応じて、前記量子ドットが形成されている
ことを特徴とする光半導体装置。
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JP2004298791A JP4587456B2 (ja) | 2004-10-13 | 2004-10-13 | 光半導体装置 |
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- 2004-10-13 JP JP2004298791A patent/JP4587456B2/ja active Active
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